FOUP洗浄装置

PR特殊な高圧ノズルを使用し、ケミカル未使用で洗浄及び乾燥が可能な装置です

【環境負荷低減】 ・洗浄液は純水のみ使用 ・他社製品に比べ純水の使用量が少ない 【高い洗浄能力】 ・独自の洗浄処理で残渣とパーティクルの洗浄が可能 ・温風を瞬時に発生可能（常温→65℃まで3秒）　 ・FOUP BOXと蓋を別々に洗浄することが可能 ・瞬間加熱式の採用で頑固な接着剤や粒子を迅速に洗浄可能 ・高圧洗浄によりレジストなどの高い付着力を持つ汚染物の除去が可能 *Max 約10MPa（15...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ダルトン

輝烈（KITERETSU）製品紹介

PR輝烈が幅広く採用されている秘密を公開します！

輝烈は、一般看板はもちろん、LEDの不点灯が発生すると 非常に交換が大変な大型看板や、交換がすぐにできない、 高速道路内のトンネル、商業施設の天井や壁など、 「品質要求」の高い場所で多く採用されています。 電子機器製造で培った技術・品質管理基準を集約して、 LEDモジュール180万球の販売で、「不良０（ゼロ）」を継続しています。 ...LEDモジュール輝烈（KITERETSU） 標準...

メーカー・取り扱い企業： ヨーホー電子株式会社

マグネトロンスパッタコーター　SC-701MC

イオンダメージを軽減するマグネトロンカソード採用 フルオートマチック…

軽量コンパクトながら高い再現性をもつデスクトップスパッタコーター 【特徴】 ○イオンダメージを軽減するマグネトロンカソード採用 ○マグネトロンカソードが、質の高い薄膜作製に貢献 ○排気 → コーティング → 大気開放までフルオート ○電極用のスパッタ薄膜が手軽にコーティングできます ...

メーカー・取り扱い企業： サンユー電子株式会社

研究・試作に最適な小型スパッタ装置『VS-R400G』

実験・研究・評価・試作に好適！ガラス、金属などの平板基材に高速、高精度…

『VS-R400G』は、独自のLIA(低インダクタンスアンテナ)方式プラズマ源を採用し、 超高速、高品質な真空成膜を実現するスパッタ装置です。 LIA方式の誘導結合型プラズマ(LIA-ICP)によるアシスト効果により、 成膜速度を落とすことなくダメージを低減し、高品質な成...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社SCREENファインテックソリューションズ

真空蒸着装置『MiniLab-090』（グローブボックス用）

グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…

チャンバーをグローブボックスベンチ内に収納可能な構造にしたMiniLab-080のグローブボックスモデル。作業ベンチを最大限活用できるスライド開閉式チャンバー、メンテナンス性を考慮した背面開閉ドアを採用。プロセス処理後の試料を大気・水分に露出せずグローブボックス内の管理された環境内で一貫した処理ができます。GB, ガス精製機はGBモデルの仕様を参照下さい。 ◉ 抵抗加熱蒸着源 x 最大4 ◉ ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

R＆D用スパッタ装置『QAMシリーズ』※ユーザーボイス進呈中

「サンプル作業時間が1/3になった！」。コンパクト設計で自動化も推進。…

ドが狙う構造のため、多元同時スパッタが可能。 シャッタコントロールにより積層膜が作成可能。 ・磁性体薄膜に対応 各種磁性体材料（Fe,Ni,Co等）にも対応するカソード。 ・LTSの採用 LTS（※1）の採用でカソード近傍の不均一プラズマの基板への影響とカソードマグネットの磁場の影響を最小限に抑制。 注）※1：LTS：Long Throw Sputter ・UHV対応（Q...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アルバック／ULVAC, Inc.

ロードロック方式スパッタリング装置 「SPH-2500-II」

膜厚分布：トレー内 ±1.2％、トレー間 ±1.5％を達成しました。

年の実績を誇るベストセラー装置SPH-2500のフルモデルチェンジを行いました。 ロードロック方式スパッタリング装置 「SPH-2500-II」は、従来装置の特徴を受け継ぎつつ最新のテクノロジーを採用し、あらゆる面で従来機を超える性能を達成致しました。 【特徴】 ○外形：W1200×D2500×H1440設置面積はそのままに大幅に低背化を実現 ○カソードを改良することによりターゲット使...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社昭和真空

多源同時マグネトロンスパッタ装置『FRS-HGシリーズ』

放電操作が容易！RF電源にオートマッチングを採用したコンパクトな設計

ズマ蒸着源などスパッタリングとの相乗効果が期待できる 成膜ソースを搭載することが可能です。 【特長】 ■据付タイプながらコンパクト且つスタイリッシュな設計 ■RF電源にオートマッチングを採用しており、放電操作が容易 ■2源または3源の同時成膜により、薄膜の機能・性能の微調整が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社FKDファクトリ

卓上型マグネトロンスパッタ装置『FDS/FRSシリーズ』

初期導入コストを抑え、拡張で高性能化が可能！研究ステージに合せてグレー…

す。 【特長】 ■初期導入コストを抑え、後の拡張で高性能化が可能 ■基本仕様でアルゴン用MFCを備えており、ガス流量を精密に制御 ■成膜方向は試料へのゴミ付着を防止するためにデポアップを採用 ■卓上タイプながら真空シール性の高いSUSチャンバを採用 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社FKDファクトリ

RFスパッタ装置『SP-3400』

逆スパッタも可能！500Wの高周波電源を1台搭載し、金属・酸化物・絶縁…

成膜が可能となっています。 整合器は自動整合器を2台搭載することにより切替にて逆スパッタもでき、 成膜時の膜厚分布を良くする為に基板回転の機構も標準で搭載。 オペレートタッチ画面を採用しており、初心者でも簡単に排気系の自動操作を 行うことが可能で、誤作動防止のための安全回路を搭載しています。 【特長】 ■3インチ用カソードを3源搭載 ■電源は500Wの高周波電源を1台...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サンバック 本社

後酸化式スパッタリング装置

多層の光学薄膜に最適な後酸化式スパッタリング装置です。

特長 ■後酸化方式の採用で高生産性を実現 ■優れた膜厚均一性±１％以下を実現 ■水平基板搬送による全面スパッタが可能...

メーカー・取り扱い企業： 芝浦メカトロニクス株式会社

高精密光学フィルター成膜用マグネトロンスパッタ装置

「FHR.Star.600-EOSS」は、精密な光学フィルター成膜用と…

装置基本仕様 ■シリンダー型カソードとターゲットの採用 　▶ターゲット寿命は長く、その寿命末期まで成膜レートの変動は極小 ■最大４基のカソードを搭載可能 　▶各種ターゲットの組み合わせによる、幅広い光学特性フィルターの生産が可能 ■リアクティブ成膜用イ...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

Druck 半導体アプリケーション用圧力センサ

半導体製造装置の流量制御に必要な高精度の圧力センサ各種。モジュールのカ…

の高い圧力センシングが可能です。VCR継手に対応。 ■UNIK5000:　汎用性の高いアナログ圧力センサ。VCR継手に対応。 ■TERPSシリーズ:　ドラックトップクラスのシリコン・ピエゾ方式を採用した高性能圧力センサ。大気圧測定にも好適。VCR継手に対応。 ■DPS5000シリーズ：デジタル圧力センサ。 ■モジュール機能：お客様のご要望に合わせて、モジュールをカスタマイズできます。何...

メーカー・取り扱い企業： 日本ベーカーヒューズ株式会社＆ベーカーヒューズ・エナジージャパン株式会社　 （旧）GEセンシング＆インスペクション・テクノロジーズ株式会社　＆　GEエナジー・ジャパン株式会社

サファイア真空覗き窓(ビュ-ポート）

特許的な異質材質溶接技術で溶接しているサファイア真空覗き窓

日揚科技(Htc)、提供している真空覗き窓はサファイアの窓材を採用していますので、優れた光学品質を持っています。製品は光の透過率が80％以上も達します。 特許的な異質材料を溶接技術でステンレスとサファイアを溶接して、良い真空気密性があります。 製品はコバールな...

メーカー・取り扱い企業： 日揚科技股份有限公司

高レート イオンビーム・スパッタ高速成膜装置（HR-PVD）

誘電体、強磁性体成膜を高レートかつ高品位に高速成膜

リモートプラズマイオンソース採用 グリッドレスソースとターゲットバイアスを組み合わせた画期的スパッタ法 ▸高い直進性による異方性成膜の実現 ▸リモートプラズマによる低温成膜の実現 ▸グリッドレス構造によるメンテナンスコスト低減の実...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

スパッタリング装置『Star.500-EOSS(R)』

光学用の多層膜を高均一かつ再現性に優れた成膜を行う事を目的に開発！

ります。 『Star.500-EOSS(R)』は、光学フィルター成膜用として設計された マグネトロンスパッタシステムです。 成膜用のパーティクルを最小限にするためスパッタアップの方式を採用。 200mm径までのフラット並びに曲面の基板まで対応しており、 基板加熱機構も組み込みできます。 【特長とメリット】 ■傑出した光学多層膜の再現性 ■優れた膜厚均一性 ■シリンダー...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

スパッタ装置 QKG-Sputtering

フルオートで大気に曝されることなく成膜完了！ 〜サンプル測定実施中！…

従来のスパッタ装置では困難であった“1バッジ内での複数材料の成膜”をワークマスク採用で可能にし、フルオートモードで試料が大気に曝されることなく成膜完了します。 ○省スペースで作業スペースにメリット ○成膜の再現性が上昇するメリット ○工数削減、エラー減少、気分上昇メリット ...

メーカー・取り扱い企業： 九州計測器株式会社

スパッタカソード『ONYXシリーズ』販売・修理/メンテも対応可能

高機能・高品質なマグネトロンスパッタカソード！

安定した成膜とコストダウンの両立を実現します。 アメリカオングストローム・サイエンス社製の高機能・高品質な「マグネトロンスパッタカソード」です。 特許技術のShaped Magnet採用により、ターゲットの広い面積を利用するため、エロージョンの進行によるスパッタ状態の変化が起こりにくく、安定した成膜とターゲット交換のためのコスト低減を実現しています。 【特長】 ■Shaped M...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

超高精度6軸アライメントステージ「RSTZシリーズ」

X-Y-Z-θx-θy-θzの全方向において、高精度アライメント(ター…

従来の「RSTアライナー」の駆動ユニットにダブルクサビ方式を使用したパラレルリンク機構を採用したことで、昇降、チルト駆動も1台で実現。 【特長】 ■6軸駆動でも低床を維持。 ■駆動ユニットを、バランスのとれた正三角形に配置することで高い追従性を実現。 ■高剛性クロスローラガイド搭載...

メーカー・取り扱い企業： 神津精機株式会社

水素フリーDLCコーティング装置（高密度スパッタＡＤＭＳ装置）

　独自技術で従来に無い水素フリーDLC膜を形成（水素含有量１％以下）優…

従来に無い水素フリーDLC膜（膜中水素含有量１％以下）を量産装置で実現 成膜プロセスに水素を使用しない高密度プラズマスパッタ技術を採用、新方式PVD装置（ADMS＝アーク放電式マグネトロンスパッタリング装置） 水素フリーの緻密なDLC膜は従来の水素含有DLC膜に比べＭｏ添加の潤滑油中の摺動特性を１／１５以下に低減（１⇒０．０６）...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

イオンビームエッチング・ミリング（IBE）装置

高レート・高信頼性を実現した生産用イオンビームミリング装置

特長 最新設計のグリッドによる8インチ基板への均一なエッチング イオンソース冷却機構の最適化による高レートエッチングの連続運転改善 基板保持部の傾斜機構をダイレクト駆動方式より高速化 最新OSの採用と制御システムの改善による装置安定稼働 他社製プロセスモジュールをドッキングできるフレキシブルなソフトウエア構成 ...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

量産対応バッチタイプスパッタリング装置　（STH10311型）

φ４１０基板×４枚の自公転基板台を４枚備えたバッチ型のスパッタリング装…

複数の自公転基板台の採用により、量産用としての処理量と優れた膜厚均一異性を両立したバッチタイプスパッタリング装置です。 サイドスパッタ方式により1ｍを超えるチャンバ系でありながら、基板やターゲットの着脱作業、真空層内のメ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

コンパクト！同時蒸着！高拡張性！『真空蒸着装置・HEXシリーズ』

ブロックを組み立てるように自由自在に構成を変更可能な多目的真空蒸着装置…

HEXシステムは、ユニークな『モジュール構造』が採用されています。 六角柱の形状のチャンバーの、各面を構成するパネルを交換することで 自由自在にポートの数や配置を変更することができます。 そのため、研究の方向性の変化に応じて、まるでブロ...

メーカー・取り扱い企業： テガサイエンス株式会社

簡易実験用スパッタリング装置（ＳＲＶ３１００型）

小径基板専用のコンパクトタイプスパッタリング装置　全手動操作で低コスト…

＆油回転ポンプ 操作系：全手動 オプション機構 磁性材用カソード　コンベンショナルカソード　ＤＣバイアス 逆スパッタ機構　バイアススパッタ機構　基板高温加熱 主ポンプ変更（ターボ分子ポンプ採用） 全自動化 ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

R&D用スパッタ装置 QAMシリーズ

各種研究開発、材料開発等に幅広く対応できる成膜装置。多様性・拡張性を持…

機能に対して、アルバックの豊富な成膜技術と経験をもとに、幅広く対応できる低価格のＲ&Ｄ装置。 【特徴】 ○低圧力プロセス ○多元同時/多積層膜スパッタ成膜 ○良好な膜厚分布 ○LTSの採用 ○磁性体薄膜への対応 ○フロントアクセス 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アルバック／ULVAC, Inc.

【マグネトロンスパッタリングカソード】

不純物なく金属・絶縁物等を堆積するRF, DC, パルスDC対応高効率…

【特徴】 ・高真空対応 ・Φ2inch、Φ3inch、Φ4inchサイズ ・クランプリング式を採用、ボンディングが不要 ・メンテナンス性に優れ、容易にターゲットの交換が可能 ・シャッター、チムニーポート、ガスインジェクション、磁性材用高強度マグネット、などのオプションが豊富 ・各種フランジ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

研究開発用スパッタリング装置

高水準な仕様と豊富なオプションで様々な成膜用途に適した研究開発用スパッ…

特長 ■クリーンなサイドスパッタ方式を採用 ■ロードロック式タイプ、バッチ式タイプの2機種をご用意 ■タッチパネルで簡単な操作・成膜条件管理、メンテナンスも容易な装置コンセプト ■設置スペースを取らないコンパクトな装置 ■お客様のご...

メーカー・取り扱い企業： 芝浦メカトロニクス株式会社

小型スパッタ装置『SS-DC・RF301』

小型設計ながら性能はキープ！高温での基板加熱が可能なスパッタ装置

SS-DC・RF301』は、2"マグネトロンカソードと基板加熱機構をそれぞれ 1基搭載した小型スパッタ装置です。 シンプルな設計により、事務机の約半分のスペースに設置可能。 基板上下機構を採用し、ターゲットと基板間の距離を任意に設定できます。 基板加熱を高温で行えるほか、電気とガスのみでの運転や、スパッタアップ とスパッタダウンの組み替えなども可能です。 【特長】 ■シン...

メーカー・取り扱い企業： アリオス株式会社

【多目的真空蒸着装置】スパッタリングソース

多目的真空蒸着装置HEXシステム用RF&DCスパッタリングソース

ます。ガスフードが標準装備されているため、ターゲット表面近傍での圧力を高め、成膜中のチャンバー圧力を低く抑えることが可能です。 冷却水配管およびガス配管の接続には、クイックリリースコネクターが採用されています。そのため、工具を使用することなく、簡単に配管の取り付け／取り外しを行うことができます。Fissionソースは、蝶ナット4個でチャンバーに固定することができることから、取り付け／取り外し...

メーカー・取り扱い企業： テガサイエンス株式会社

三元マグネトロンスパッタ装置『NS-023』

三元同時スパッタによる新素材の薄膜開発！実験内容や予算に応じてカスタマ…

『NS-023』は、三種のターゲットを同時に成膜可能な三元マグネトロン スパッタリング装置です。 多元同時スパッタ以外にも、白金ヒーターを採用することで、基板の高温活性化 （ヒータ温度：950℃）や反応性スパッタなど様々な使い方に対応しています。 また、アシスト用プラズマ源も対応可能（ECR、ICP、他）です。 【特長】 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社片桐エンジニアリング

低温バレル型ALD成膜装置　CVA-B series

低温ALD装置とバレル機構の融合

ックス） 　　・硫黄と水分の反応性での有毒ガス発生の課題解決 　　・低いイオン伝導率の課題解決 　固体酸化物型燃料電池（SOFC) 　　・高密度イオン伝導体の薄膜化 　　・多孔質ステンレス採用による低コスト化 　　・YSZ界面での対抗低減 　　 ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社クリエイティブコーティングス

枚葉式スパッタリング装置

電波透過膜を高品質に実現する枚葉式スパッタリング装置です。

先進運転システムに適したミリ波レーダー用エンブレムやドアハンドルの成膜に採用されています。 ご要望・ご予算等どうぞお気軽にご相談ください。 ※詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： 芝浦メカトロニクス株式会社