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三明MEMS【露光装置/マスクアライナー/ローコスト】シリーズ

PR研究開発から、小LOT多品種、量産まで対応する「手動・半自動・全自動」…

　株式会社三明では、コンパクトな微細露光のスタンダード機「LAシリーズ片面マスクアライナー」や、両面プロセスのローコストアシストモデル「BAシリーズ正面マスクアライナー」、両面・多面プロセスのスタンダード量産機である「BSシリーズ両面同時露光マスクアライナー」といった手動型の露光機をはじめ、小ロット多品種から量産まで対応した半自動の「セミオートマスクアライナー」や全自動の「フルオートマ...
メーカー・取り扱い企業：株式会社三明本社／静岡市、支店／東京・沼津・中部・大阪、営業所／横浜・北関東・山形・名古屋・北陸・長野・八戸
最新！熱設備の脱炭素・低炭素化技術のご紹介【展示会出展】

PR水素ガスバーナー最新ラインナップや低炭素設備をご紹介！【サーマルテクノ…

【展示会情報】工業炉と関連機器の製品・技術展示会およびセミナー発表と講演会で構成する関西からの情報発信イベント” サーマルテクノロジー2024に出展いたします。日時：2024年10月10日（木）11日（金）10:00 ～ 17:00 会場：グランフロント大阪北館 B2F 【最新！水素ガスバーナーラインナップ】二酸化炭素を排出しない水素燃焼！SHOEIでは実績のある自社製バー...
メーカー・取り扱い企業：株式会社正英製作所本社、東京支店、名古屋営業所、大阪支店、広島支店、九州支店
薄膜実験装置_「PRODUCTS GUIDE 2022」

半導体・電子デバイス・燃料電池・ディスプレイなどの研究開発用各種実験装…

研究開発分野向け、各種薄膜実験装置・コンポーネントを紹介します。【nano Benchtopシリーズ】ハイパフォーマンス！nano Benchtopシリーズ薄膜実験装置コンパクトサイズに、高機能・ハイスペックな薄膜装...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
【nanoCVD-8G】グラフェン合成装置

◉ 短時間 1バッチわずか30分で容易にグラフェン合成実験が可能 ◉…

◆ ・簡単操作! 5inchタッチパネルによる操作・レシピ管理・最大30レシピ，30stepのプログラム作成可能・PCソフトウエア付属 USBケーブル接続，PC側でのオフラインレシピ作成→装置へアップ/ダウンロード, CSVデータ出力・最大試料サイズ：40 x 40mm：銅（ニッケル）箔, SiO2/Si, Al2O3/Si基板，他 ◆Model. nanoCVD-8G（グラフ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
スパッタ・蒸着源複合型薄膜装置【nanoPVD-ST15A】

真空蒸着（金属・有機蒸着源）、スパッタリングカソードの混在設置が可能な…

nanoPVD-ST15Aは、抵抗加熱蒸着源、有機蒸着源、Φ2inchマグネトロンスパッタリングカソードを同時に設置可能な複合型薄膜実験装置。ベンチトップサイズ・省スペース、限られたラボスペースを有効活用いただけます。顕微鏡用試料作成用コーターではありません、電子回路基板、電池、MEMS、新素材開発などの研究開発用途で求められる高品...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
スパッタリング装置『nanoPVD-S10A』

高機能コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

高機能ハイパフォーマンス RF/DCマグネトロンスパッタリング装置 ● 到達圧力5 x 10-5Pa（*1x10-4Paまで最速30分！） ● スパッタ源 x 3：連続多層膜膜制御, 同時成膜 ● 膜均一性±3% ● 多彩なオプション：上下・回転、ヒータ、...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
スパッタリング装置『MiniLab（ミニラボ）シリーズ』

モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント（成膜ソース、ステージなど）、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
スパッタリング装置『MiniLab-026』

小型、省スペース! 研究開発に最適蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

限のモジュール・コントローラをPlug&Play感覚で19"コンパクトラックに組込む事により無駄が無く、小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。マグネトロンスパッタ（最大3源）もしくは抵抗加熱蒸着（金属源最大4、有機材料x4）に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、プラズマエッチングも製作可能。グローブボックス...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
◆nanoPVD-T15A◆ 高性能有機膜・金属膜蒸着装置

限られたラボスペースを有効活用できる小型ベンチトップサイズ装置に、最新…

難しい操作手順を必要とせずどなたでも直感的に操作ができる分かりやすいHMI。リモートソフトウエア「IntelliLink（インテリリンク）」付属：USBケーブルでWindows PCに接続し、装置運転状況モニター、ログ保存、オンライン/オフラインレシピ作成保存、故障解析などが可能です。限られた開発現場・ラボスペースを最大限有効活用ができる省スペース設計・メンテナンス性にも優れたコンパクト...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
スパッタリング装置『MiniLab-060』

蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…

コンパクト/省スペース、ハイスペック薄膜実験装置下記蒸着源から組合せが可能・抵抗加熱蒸着源 x 最大4 ・有機蒸着源 x 最大4 ・電子ビーム蒸着・2inchスパッタリングカソード x 4（又は3inch x 3, 4inch x...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
【Nanofurnace】BWS-NANO 熱CVD装置

【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能…

◉ グラフェン, カーボンナノチューブ ◉ ZnOナノワイヤ ◉ SiO2等の絶縁膜などその他, ホットウオール式熱CVD装置として幅広いアプリケーションに対応...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
【MiniLab-SA125A】多元マルチスパッタ装置

高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…

自の"Soft-Etching"技術で基板バイアスにより基板のダメージを軽減・タッチパネル又はWindows PC制御：操作が分散せず、全ての操作をタッチパネル/PCで行うことができます。・装置設置寸法：1,767(W) x 754(D) x 1,645(H)mm ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着などの混在仕様も構成可能です。 ●マルチチャンバー式も製作可能です。...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
ウエハースケールグラフェン合成装置【nanoCVD-WGP】

Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不…

Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不純物を抑制し清浄・高品質なグラフェンを高速合成。熱CVD、低温～高温プラズマCVD いずれの方法でも利用可能。マスフローガス供給系統、基板加熱ヒーターなどご要望により構成をカスタマイズ致しま...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
多機能スパッタリング装置【MiniLab-S060】

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

Φ2inchカソード x 4基搭載同時成膜：3元同時成膜（RF500W or DC850W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF300W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】

スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置コンパクトフレームに…

抵抗加熱蒸着源（金属蒸着）、有機蒸着源（有機材料）、マグネトロンスパッタ（金属・絶縁材）、3種類の成膜コンポーネントをチャンバー内に設置、様々な薄膜実験装置に1チャンバーで対応が可能です。 ◉組み合わせは3種類 1. スパッタカソード + 抵抗加熱蒸着源x2 2. スパッタカソード + 有機蒸着源x2 3. スパッタカソード + 抵抗加熱源x1...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
ソフトエッチング装置【nanoETCH】

＜30W ローパワー・エッチング制御精度10mW ダメージレス・繊細…

【nanoETCH（ナノエッチ）】Model. ETCH5A ＜30W（制御精度10mA）低出力RFエッチングによる、精細でダメージレスなエッチング処理を実現。 2010年グラフェン発見でノーベル賞受賞者率いるマンチェスター大学グラフェン研究グループとの共同開発製品。 ...【特徴・主なアプリケーション】 • 2D（遷移金属カルゴゲナイド, 材料転写後のグラフェン剥離）：表面改質...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
真空蒸着装置『MiniLab-090』（グローブボックス用）

グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置高さ570m…

80ℓ大容積MiniLab-080チャンバーをグローブボックスベンチ内に収納可能な構造にしたMiniLab-080のグローブボックスモデル。作業ベンチを最大限活用できるスライド開閉式チャンバー、メンテナンス性を考慮した背面開閉ドアを採用。プロセス処理後の試料を大気・水分に露出せずグローブボックス内の管理された環境内で一貫した処理ができます。GB, ガス精製機はGBモデルの仕様を参照下さい。 ◉ ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
【MiniLab-026/090】グローブボックス薄膜実験装置

小型・省スペース! 有機薄膜開発に好適蒸着・スパッタ・アニール等全て…

OLED（有機EL）, OPV（有機薄膜太陽電池）, OTFT（有機薄膜太陽電池）, 又, グラフェン, TMD（遷移金属ダイカルコゲナイド）などの2D材料における成膜プロセスでは、酸素・水分から隔離された不活性ガス雰囲気で試料を取扱う必要があります。 MiniLab-026/090-GBでは、PVDチャンバーをGB内に収納することにより有機膜用途の「酸素・水分フリー」実験環境をコンパクトな省ス...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
アニール炉『ANNEALウエハーアニール装置』

Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板…

高真空水冷式SUSチャンバー内に設置した加熱ステージにより最高1000℃までの高温処理が可能です。チャンバー内にはヒートシールドが設置されインターロックにて安全を確保。マスフローコントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です（APC自動プロセス制御システムオプション）。又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム【MiniLab】

2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置（スパッタ、…

2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置（スパッタ - 蒸着、など）をロードロックでシームレスに連結。Moorfield社独自のロードロックシステムにより、左右・後方へのプロセス室への連結も可能です...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉2000℃

Φ6〜8inch超高温ウエハーアニール装置研究開発から小規模生産ま…

◾️ Max2000℃ ◾️ 有効加熱範囲：Φ6〜Φ8inch 枚葉式、又はバッチ式（多段5枚カセット） ◾️ ヒーター制御：1ゾーン、又は2ゾーン（カスケード制御） ◾️ ヒーター材質：・C/Cコンポジット：Φ6〜Φ8inch ・PGコーティング高純度グラファイト：Φ6〜Φ8inch ◾️ 使用雰囲気：・真空（1x10-2Pa）、不活性ガス（Ar, N2） ◾️ PLCセミ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
真空炉『Mini-BENCH 超高温卓上型実験炉』

卓上小型サイズ実験炉・省スペース最高使用温度2000℃！還元雰囲…

◆装置構成◆ ご予算・目的に応じてご要望の構成をご提案致します。 (A)最小構成：チャンバー + 温度制御ユニット (B)上記最小構成(A) + 真空排気系（ポンプ、ゲージ、バルブ・真空配管類） ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
【SH 高温基板ヒーター】PVD, CVD用 Max1100℃

CVD, PVD（蒸着, スパッタ等）均熱性・再現性に優れた高真空超…

ヒータープレートにインコネルもしくはBNプレートを採用した、熱放射効率が良く、均熱性に優れた成膜装置・真空薄膜実験用高真空対応ホットプレートです。【ラインナップ】 ◎ SH-IN（インコネルプレート）：φ1.0〜φ6.1inch 真空・O2・活性ガス用 ◎ SH-BN（BNプレート, ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
【ホットステージ】超高温基板加熱ステージ Max1800℃

超高温基板加熱ステージに、基板昇降・回転、RF/DC基板バイアスの全て…

半導体、電子基板、真空薄膜プロセス装置・研究開発用【超高温基板加熱機構】対応基板サイズ：Φ2〜6inch 真空（UHV対応可能）・不活性ガス・O2・各種プロセス反応性ガス雰囲気等でご仕様いただけます。（詳細別途協議）...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
【MiniLab（ミニラボ）】シリーズフレキシブル薄膜実験装置

モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント（成膜ソース、ステージなど）、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
真空蒸着装置『MiniLab（ミニラボ）シリーズ』

モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント（成膜ソース、ステージなど）、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
スパッタリング装置多機能スパッタ装置MiniLab-S060A

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

Φ2inchカソード x 4基搭載同時成膜：3元同時成膜（RF500W or DC850W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリングプラズマエッチングステージRF300W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
真空蒸着装置『MiniLab-026』

小型、省スペース! 研究開発に最適蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

限のモジュール・コントローラをPlug&Play感覚で19"コンパクトラックに組込む事により無駄が無く、小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。マグネトロンスパッタ（最大3源）もしくは抵抗加熱蒸着（金属源最大4、有機材料x4）に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、プラズマエッチングも製作可能。グローブボックス...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
【nanoPVD-S10A】マグネトロンスパッタリング装置

高機能コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

高機能ハイパフォーマンス RF/DCマグネトロンスパッタリング装置 ● 到達圧力5 x 10-5Pa（*1x10-4Paまで最速30分！） ● スパッタカソード x 3：自動連続多層膜, 2源同時成膜 ● 膜均一性±3% ● 多彩なオプション：基板回転・昇...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
真空蒸着装置『nanoPVD-T15A』

限られたラボスペースを有効活用できる小型ベンチトップサイズ装置に、最新…

難しい操作手順を必要とせずどなたでも直感的に操作ができる分かりやすいHMI。リモートソフトウエア「IntelliLink（インテリリンク）」付属：USBケーブルでWindows PCに接続し、装置運転状況モニター、ログ保存、オンライン/オフラインレシピ作成保存、故障解析などが可能です。限られた開発現場・ラボスペースを最大限有効活用ができる省スペース設計・メンテナンス性にも優れたコンパクト...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
◆ANNEAL◆ ウエハーアニール装置

Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板…

高真空水冷式SUSチャンバー内に設置した加熱ステージにより最高1000℃までの高温処理が可能です。チャンバー内にはヒートシールドが設置されインターロックにて安全を確保。マスフローコントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です（APC自動プロセス制御システムオプション）。又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
□■□【MiniLab-026】フレキシブル薄膜実験装置□■□

小型、省スペース! 研究開発に最適蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

限のモジュール・コントローラをPlug&Play感覚で19"コンパクトラックに組込む事により無駄が無く、小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。マグネトロンスパッタ（最大3源）もしくは抵抗加熱蒸着（金属源最大4、有機材料x4）に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、プラズマエッチングも製作可能。グローブボックス...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
多元マルチスパッタ装置【MiniLab-S125A】

高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…

自の"Soft-Etching"技術で基板バイアスにより基板のダメージを軽減・タッチパネル又はWindows PC制御：操作が分散せず、全ての操作をタッチパネル/PCで行うことができます。・装置設置寸法：1,767(W) x 754(D) x 1,645(H)mm ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着などの混在仕様も構成可能です。 ●マルチチャンバー式も製作可能です。...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
□■□【MiniLab-060】フレキシブル薄膜実験装置□■□

蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…

コンパクト/省スペース、ハイスペック薄膜実験装置下記蒸着源から組合せが可能・抵抗加熱蒸着源 x 最大4 ・有機蒸着源 x 最大4 ・電子ビーム蒸着・2inchマグネトロンスパッタリングカソード x 4 ・プラズマエッチング：メイ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
真空蒸着装置『MiniLab-080』

蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。高さ570…

80ℓ容積 400(W)x400(D)x570(H)mm D型ボックスチャンバーで構成されるML-080は、060と同等の構成で更にチャンバーを高くすることによりTS距離調整範囲が長く、大口径基板での蒸着時の膜均一性が向上、真空蒸着に最適なモデルです。ロードロック機構も追加できるML-060の上位機種。060同様に、コンパクトながら抵抗加熱蒸着（金属/絶縁物/有機材料）,EB蒸着, RF/DC/P...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
□■□【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置□■□

グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置高さ570m…

80ℓ大容積MiniLab-080チャンバーをグローブボックスベンチ内に収納可能な構造にしたMiniLab-080のグローブボックスモデル。作業ベンチを最大限活用できるスライド開閉式チャンバー、メンテナンス性を考慮した背面開閉ドアを採用。プロセス処理後の試料を大気・水分に露出せずグローブボックス内の管理された環境内で一貫した処理ができます。GB, ガス精製機はGBモデルの仕様を参照下さい。・最...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
【MiniLab】蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム

2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置（スパッタ、…

2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置（スパッタ - 蒸着、など）をロードロックでシームレスに連結。Moorfield社独自のロードロックシステムにより、左右・後方へのプロセス室への連結も可能です...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
アニール炉『MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉』

Φ6〜8inch超高温ウエハーアニール装置研究開発から小規模生産まで…

◾️ Max2000℃ ◾️ 有効加熱範囲：Φ6〜Φ8inch 枚葉式、又はバッチ式（多段5枚カセット） ◾️ ヒーター制御：1ゾーン、又は2ゾーン（カスケード制御） ◾️ ヒーター材質：・C/Cコンポジット：Φ6〜Φ8inch ・PGコーティング高純度グラファイト：Φ6〜Φ8inch ◾️ 使用雰囲気：・真空（1x10-2Pa）、不活性ガス（Ar, N2） ◾️ PLCセミ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
□■□【MiniLab-080】フレキシブル薄膜実験装置□■□

蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。高さ570…

80ℓ容積 400(W)x400(D)x570(H)mm D型ボックスチャンバーで構成されるML-080は、060と同等の構成で更にチャンバーを高くすることによりTS距離調整範囲が長く、大口径基板での蒸着時の膜均一性が向上、真空蒸着に最適なモデルです。ロードロック機構も追加できるML-060の上位機種。060同様に、コンパクトながら抵抗加熱蒸着（金属/絶縁物/有機材料）,EB蒸着, RF/DC/P...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社