断熱タンク

PR配管、ホース部にも断熱仕上げ！高温多湿環境でのタンクの結露を防止

『断熱タンク』は、タンク外周に断熱材を 溶接密閉した製品です。 タンクや配管の結露による滴水を防止し、作業環境を改善します。 外気温による液体の温度変化を抑制します。 また、当製品単体だけでなく、様々な機器で 構成するろ過ユニットの設計も承ります。 【特長】 ■ご指定の塗装色で仕上げ ■ご希望のサイズ、形状で設計 ■SS製、SUS製いずれも対応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽...

メーカー・取り扱い企業： 四国工業株式会社 工場

『PTFEライナーフレキシブルホース』

PR優れた耐薬品性で医薬品や工業用など幅広い分野で活躍。豊富なシリーズから…

Aflexブランドの『PTFEライナーフレキシブルホース』は、 流体接触面を化学反応が少ないPTFE樹脂でライニングした製品です。 優れた耐薬品性を備え、高圧および最大260℃の高温に耐性を発揮。 滑らかな内面構造により、液体の流速を確保できます。 CIP/SIPに対応したシリーズもあり、高い衛生性が求められる分野でも活躍。 ホースに接着剤を使用しないため、剥離によるコンタミリス...

メーカー・取り扱い企業： Watson-Marlow（ワトソンマーロー）株式会社 東京本社、大阪支社

『事例』　高温・ALDプロセスで使用可能なバルブ ※無料進呈中

『流路まるごと事例集』バルブ全体を最高200℃ の高温環境で使用できる…

バルブ全体をヒーティングしたい、ハンドルを付けたまま恒温槽に入れられるバルブ、ガス量の安定と再現があるバルブ欲しいなど、お困りごとはありませんか？ KITZ SCT では半導体製造での流体関連のお悩みにさまざまな提案を行っております。気になる事例がありましたらイプロスまたは当社ホームページ経由でお問い合わせください。 ホームページ：https://www.kitzsct.com/con...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社キッツエスシーティー

ウェハプロセス用真空蒸着装置

膜厚均一性に優れた成膜機構と高速排気を実現！高品質の電極膜を安定して形…

量産用途の蒸着装置として高い稼働率を誇ります。 【特長】 ■信頼性の高い基本構成 ■豊富なオプション機構　 ・蒸発源、多連式電子銃（10kw）、抵抗加熱蒸発源、多元同時蒸着機構 ・高温加熱（最高550℃）＝3面プラネタリードーム　 ・基板クリーニング、イオンガン、ＲＦボンバード機構 ・基板ドーム、3面プラネタリードーム、公転ドーム、高温加熱用公転ドーム ※詳しくはPDF...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

RIBER　MBEセル（蒸着源）

MBEセル（蒸着源、分子線セル）はエピタキシャル膜の品質において重要で…

能です。 ・標準型クヌーセンセル ・ヒ素、リン、アンチモン向けバルブドクラッカーセル ・大容量・高安定性ガリウム、インジウムセル ・窒化物向け高耐性エフュージョンセル ・特殊用途セル（高温セル、昇華型カーボンセル） ・窒素、酸素RFプラズマ源 ・高温・低温ガスインジェクター...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

研究開発用真空蒸着装置

目的・コストに合わせて柔軟に対応！大学・公的研究機関や基礎実験用に。

簡易実験型）とも目的・コストに合わせて柔軟な 仕様対応が可能。デモ機を常設し、サンプルテスト対応いたします。 【特長】 ■実績豊富なハードと柔軟なコスト対応 ■目的に合わせた豊富なオプション機構(高温加熱・基板冷却・多元同時蒸着・ 　有機物用蒸発源　リフトオフプロセス対応） ■プラズマ電極・RFコイルなどのイオン化機構・プラズマ電極追加対応 ■サンプルテストからハードのカスタマイズ、納入後のフォ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

LEMO■半導体製造装置用コネクタ

「過酷な環境下の使用」にも耐えるLEMOコネクタ。その信頼と実績により…

・信頼性の高い真空気密レセプタクルと真空フィールドスルーカプラ 　真空(気密) 　He漏れ率：1x10＾-7 mbar.ℓ/s (1x10＾-8 Pa. ㎥ /s). 以下まで対応可能 ・耐高温/耐熱性 　(非防水モデル：~250℃、防水モデル：～200℃動作可能) ...

メーカー・取り扱い企業： 丸紅エレネクスト株式会社

Nd:YAGレーザパルス蒸着システム

Nd:YAGレーザパルス蒸着システム

子ビーム蒸着装置 * イオンビームアシスト（IBAD）蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス（酸素、窒素、アルゴン等）下における高温基板加熱技術、高温下における安定した駆動制御機構に特徴があり、ご好評を頂いております。 製品の詳細情報はWebサイトをご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

Epitaxial-EB蒸着装置

最高900℃の高温プロセスが可能！エピタキシャル促進機構により単結晶成…

しており、適切な表面処理によりパーティクル 低減させます。 マルチチャンバ仕様やバッチ式も製作可能です。 【特長】 ■酸化促進ガス導入機構 ■材料酸化防止機構 ■最高900℃ の高温プロセスが可能 ■ロードロック式による高真空プロセスに対応 ■リフトオフプロセスにも対応 ■トレイ搬送にも対応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

タングステン・モリブデンの加工品

タングステン・モリブデン・タンタル等の高温向けレアメタルの加工品

真空蒸着用ボート、フィラメント、EBガン、 高温炉用ヒーター、反射板、リフレクター、試料皿、 イオン注入装置用フィラメント...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社新栄特殊金属

ロードロック式EB蒸着装置

好適な表面処理によるパーティクル低減！ロードロック式による高真空プロセ…

B蒸着装置』は、基板回転による優れた膜厚分布および 再現性を実現しています。 ロードロック式による高真空プロセスをはじめ、リフトオフプロセスや、 トレイ搬送にも対応。 最高900℃の高温プロセスが可能で、チャンバのメンテナンスが容易です。 ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■最高900℃の高温プロセスが可能 ■基板回転による優れた膜厚分布および再現性...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

パルスレーザパルス蒸着システム

パルスレーザパルス蒸着システム

子ビーム蒸着装置 * イオンビームアシスト（IBAD）蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス（酸素、窒素、アルゴン等）下における高温基板加熱技術、高温下における安定した駆動制御機構に特徴があり、ご好評を頂いております。 製品の詳細情報はWebサイトをご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

化合物半導体ウエハ用非接触搬送装置「ＳＡＧ（ＩｎＰ）型」

化合物半導体ウエハ(GaAs,ＩｎＰ,ＧａＰ）を気体供給操作を行い、ウ…

◎特徴 １．４５０℃の高温ウエハの非接触搬送が可能である。 ２．化合物半導体ウエハ(GaAs,ＩｎＰ,ＧａＰ）の下記の切り欠きウエハの非接触搬送が可能である。 ・Φ2～４ｉｎ ウエハ ・Φ２～４ｉｎｘ1/4ウエハ ...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社ソーラーリサーチ研究所 大阪事業所

耐熱仕様：非接触搬送装置「フロートチャックSAH型」

高温ワークを非接触にて移載するベルヌーイチャック

本製品は使用環境温度、化学的仕様に応じた製品を製作しております。超高温域て使用する石英ガラスは、高純度で熱・酸に強く機械的強度が高い等、数多くの特質を持っています。 　半導体製造工程における洗浄槽、酸化拡散炉、エッチング装置、ＣＶＤ装置等におけるウエハの非接触にて搬...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社ソーラーリサーチ研究所 大阪事業所

PLAD-221-Y PLDシステム

PLAD-221-Y PLDシステム

子ビーム蒸着装置 * イオンビームアシスト（IBAD）蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス（酸素、窒素、アルゴン等）下における高温基板加熱技術、高温下における安定した駆動制御機構に特徴があり、ご好評を頂いております。 製品の詳細情報はWebサイトをご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

簡易実験用蒸着装置（ＥＭ－６４５型）

シンプル　コンパクト　高機能　実験、基礎研究に最適　ユーザーニーズに応…

標準２元の抵抗加熱蒸発源を装備した全手動型蒸着装置。 Φ２～３インチウェハから特殊基板まで柔軟に対応。 蒸発源追加、同時蒸着、基板冷却・高温加熱機構等豊富なオプション 社内デモ機にてサンプルテスト対応...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

【MiniLab-SA125A】 多元マルチスパッタ装置

高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…

MIより自在に配置切替） 高出力RF, DC電源, パルスDC電源を独自の'プラズマ・スイッチング・リレー'モジュールでマルチカソードに自在に配置を組み合えることが可能、様々な用途に柔軟に対応 高温基板加熱ステージ（二重ジャケット水冷式）オプション -1) Max600℃（ランプ加熱） -2) Max1000℃（C/Cコンポジット） -3) Max1000℃（SICコーティング） ロー...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

化合物半導体用蒸着装置（ＡＡＭＦ－Ｃ１６５０ＳＰＢ型）

先端光デバイスに最適な専用蒸着装置。低温・低ダメージ成膜で平滑な膜表面…

基板加熱ヒーターを標準装備しており、成膜前の基板のべ―クと共に幅広い用タッチパネルによる全自動操作とデータロギングを標準装備し安定した稼動を実現しています。 オプション類も豊富で基板水冷機構・高温加熱機構・同時蒸着機構・ロードロック機構など実績機構より目的に合わせて選択可能 ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

標準バッチバッチタイプ蒸着装置（ＡＭＦシリーズ）

電子デバイス用途のスタンダードシリーズ。Ｒ＆Ｄ用の多目的小型研究用から…

全機種クリーンルーム対応ＢＯＸタイプ １０㎾電子銃装備　高融点金属＆酸化物対応 抵抗加熱電極併用　多層膜＆合金対応（オプション） 薄ウェハ対応ドーム＆ウェハ治具 プロセスに合わせ高温加熱（裏面電極シンター）や冷却（リフトオフプロセス対応 基板機構変更でウェハだけでなくセラミックやガラス基板にも対応...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

光学用真空蒸着装置用潤滑材・ミラクルピロー

光学用真空蒸着装置の回転系に滑らかな回転をもたらし、歩留まりの向上と回…

ミラクルピローはNFメタル（デイツ材）を円柱状に成形した製品です。真空中、低温（100℃）から高温（約800℃）まで潤滑性を保ちます。デイツ材については、このサイト内で「真空用自己潤滑性複合材料」を検索してください。デイツ材は潤滑成分に二硫化タングステンを使用しています。二硫化モリブデンを使用し...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社アベニューマテリアル

研究・開発用機器/超高真空機器

信頼性の高いシステムを構築！メンテナンスや改造も当社にお任せください

【ラインアップ(抜粋)】 ＜真空成膜装置＞ 　■RFマグネトロンスパッタ装置 　■対向ターゲットスパッタ装置 　■電子ビーム蒸着装置 ＜各種研究用装置＞ 　■高真空高温炉装置 　■基板加熱装置 　■電流導入端子各種 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヤシマ

モリブデン・タングステンのプランゼージャパン　総合カタログ

原料（粉末）から最終製品まで一貫生産。ずば抜けて高機能な材料を提供可能

とを可能にします。 タングステン、タンタル、モリブデンはなにより耐熱性に優れた金属です。鉄や鋼は1600°Cでも融けだしますが、プランゼーの材料は、その程度の温度では変化しません。融点が高いので、高温炉のヒーターや照明器具の白熱フィラメントなどの用途に適しています。電気開閉器の接点では、優れた電気・熱伝導性がものをいいます。 ※仕様などはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業： プランゼージャパン株式会社

エキシマレーザパルス蒸着システム

エキシマレーザパルス蒸着システム

子ビーム蒸着装置 * イオンビームアシスト（IBAD）蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス（酸素、窒素、アルゴン等）下における高温基板加熱技術、高温下における安定した駆動制御機構に特徴があり、ご好評を頂いております。 製品の詳細情報はWebサイトをご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

PLAD-271PE PLDシステム

PLAD-271PE PLDシステム

子ビーム蒸着装置 * イオンビームアシスト（IBAD）蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス（酸素、窒素、アルゴン等）下における高温基板加熱技術、高温下における安定した駆動制御機構に特徴があり、ご好評を頂いております。 製品の詳細情報はWebサイトをご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

PLAD-150Y PLDシステム

PLAD-150Y PLDシステム

子ビーム蒸着装置 * イオンビームアシスト（IBAD）蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス（酸素、窒素、アルゴン等）下における高温基板加熱技術、高温下における安定した駆動制御機構に特徴があり、ご好評を頂いております。 製品の詳細情報はWebサイトをご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

PLAD-250R PLDシステム

PLAD-250R PLDシステム

子ビーム蒸着装置 * イオンビームアシスト（IBAD）蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス（酸素、窒素、アルゴン等）下における高温基板加熱技術、高温下における安定した駆動制御機構に特徴があり、ご好評を頂いております。 製品の詳細情報はWebサイトをご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

PLAD-261PG PLDシステム

PLAD-261PG PLDシステム

子ビーム蒸着装置 * イオンビームアシスト（IBAD）蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス（酸素、窒素、アルゴン等）下における高温基板加熱技術、高温下における安定した駆動制御機構に特徴があり、ご好評を頂いております。 製品の詳細情報はWebサイトをご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

PLAD-250E PLDシステム

PLAD-250E PLDシステム

子ビーム蒸着装置 * イオンビームアシスト（IBAD）蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス（酸素、窒素、アルゴン等）下における高温基板加熱技術、高温下における安定した駆動制御機構に特徴があり、ご好評を頂いております。 製品の詳細情報はWebサイトをご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

PLAD-161 PLDシステム

PLAD-161 PLDシステム

子ビーム蒸着装置 * イオンビームアシスト（IBAD）蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス（酸素、窒素、アルゴン等）下における高温基板加熱技術、高温下における安定した駆動制御機構に特徴があり、ご好評を頂いております。 製品の詳細情報はWebサイトをご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

多元マルチスパッタ装置【MiniLab-S125A】

高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…

MIより自在に配置切替） 高出力RF, DC電源, パルスDC電源を独自の'プラズマ・スイッチング・リレー'モジュールでマルチカソードに自在に配置を組み合えることが可能、様々な用途に柔軟に対応 高温基板加熱ステージ（二重ジャケット水冷式）オプション -1) Max600℃（ランプ加熱） -2) Max1000℃（C/Cコンポジット） -3) Max1000℃（SICコーティング） ロー...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社