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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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各種組成で多数の実績あり!お客様のニーズに応じた合金設計を開発し提案で…
山陽特殊製鋼株式会社は、好適な固化成形技術を採用し、高密度の ターゲットを提供します。 組織の微細化による高PTF化と高靱性化で、お客様における 生産性向上に貢献。 Fe 系、Co 系、Ni 系、Cr 系合金など各種組成で多数の実績があり...
メーカー・取り扱い企業: 山陽特殊製鋼株式会社
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