リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

E-フィールド・プローブ･システム　EFS-105

今まで測定方法に課題が多かった半導体や高密度実装プリント基板、部品、モ…

特徴： ★1D E‐フィールドプローブ ★極小プローブヘッド ★光ファイバー接続 ★光給電– バッテリー不要 ★広帯域: 500KHz～3GHz ★ダイナミックレンジ: typ.130dB (1Hz) ★低ノイズ: typ. <10μV/(m×√Hz) @ 200～500MHz typ. <30μV/(m×√Hz) @ 5MHz～3GHz...EFS-105は電界強度の広帯域計測用...

メーカー・取り扱い企業： ウェーブクレスト株式会社

トラッキングアンテナアレイ 最大18GHz 360°

垂直偏波アンテナのみを使用するほとんどのDFシステムからは見えない信号…

3DRFトラッキングアンテナIsoLOG 3D DFには、高密度でカスタマイズ可能なセクターアレイが含まれています。 さらに、8個または16個の専用低周波アンテナを追加して、周波数範囲を9kHzまで拡張できます。 合計で最大64個の独立したアンテナを装備できま...

メーカー・取り扱い企業： ウェーブクレスト株式会社