DrM社製ろ過装置『FUNDAWAVE/FUNDALOOP』

PRペプチド医薬品・バイオ医薬品・飲料製造などの精製濃縮プロセスに好適。簡…

当社では、製薬や飲食料品、電池の陽極製造など様々な分野における UF・MFプロセスの工程改善に貢献するDrM社製ろ過装置を多数取り扱っています。 【特長】 ＜クロスフローろ過システム『FUNDAWAVE』＞ ■平膜を振動させてろ過する工業用クロスフローろ過ソリューション ■ろ材表面のケーキ層形成やTMP(膜間差圧)の上昇を抑制し、高濃度・高粘度な濃縮を実現 ■フィードポンプの小型化...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社富士フィルター工業 本社

薬液供給装置（連続式）　P112

PRプロセス装置に連続で薬液を供給

本装置はプロセス装置に予め決められた濃度の薬液を供給するための装置である 【仕様】 ○外形寸法：W1720*D810*H2010 ○重量：約800kg 本装置はプロセス装置に予め決められた濃度の薬液を供給するための装置である。最大、2種類2系統の薬液を供給することが出来ます。希釈濃度や供給量など動作に関する詳細はご希望内容に対応させていただきます。...●その他機能や詳細については、カタログダウ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクノメイト

セラミックス製 構造部品【ミクロンオーダーにも対応可能】

新東独自の成形技術「浸透Vプロセス」で大型形状品や複雑形状部品の一体成…

浸透Ｖプロセスは、鋳造で用いられている「Vプロセス法」をセラミックスの成形に応用した技術で、 大型で複雑形状の部品をセラミックスで高品質に製作できる鋳込み成形技術です。 セラミックスの特性を活かし、半導...

メーカー・取り扱い企業： 新東Vセラックス株式会社

【技術資料】高出力レーザーダイオードの全自動実装

高出力レーザーダイオードの全自動実装に関する情報を詳しく掲載

ーは計測や分光、光通信、光データの処理や保存、光ファイバ通信や医療機器など、あらゆる分野で利用されています。 また、需要の高まりに伴い、例えば高出力レーザーダイオードの製造などは、主要な量産プロセスの一つとなっています。高出力レーザーを大量に生産するためにはダイボンディング装置が必要となり、そのダイボンディング装置には、高精度・高再現性を維持しつつ、多くの種類の部品のサイズや種類の変化に対応...

メーカー・取り扱い企業： ファインテック日本株式会社

産業機器を使用した半導体製造プロセスの最適化方法

半導体製造の効率を従来より60%アップ！消耗品の産業機器を最適化かつ長…

半導体製造における後工程処理において、長年の設計経験と改善経験をもとに、最適なピックアップツール等を提供します。 あなただけの、あなた専用の機器が誕生します。...産業機器取り扱いリスト ・コレット（ゴム、樹脂、超硬制、その他） ・サクションカップ ・突き上げニードル ・吸着ステージ ・ニードルホルダー ・エポキシディスペンスノズル ・ディスペンスノズルカスタム品 ・スパンカ...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社オルテコーポレーション 本社

Inception 枚葉式スピンプロセッサー

R＆Dからパイロット生産への移行に適切なInception

■ 量産ベースとなるプロセス開発に安定したプロセスを実現 ■ 最短のプロセス開発を可能にする柔軟性の高いソフトウェア ■ 標準仕様でタンク2基を搭載し多様なプロセスをサポート ■ エッチングレート100Å/Secにおいても優...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社インターテック販売 東京本社（拠点－関西営業所、熊本営業所）

卓上ホットプレート 2モデル ＜250℃仕様/350℃仕様＞

コンパクトでありながら、高性能。 幅広いプロセスに対応。

ホットプレートの性能は、フォトリソグラフィープロセスの精度を決める重要なファクターです。 特に、膜厚・線幅・膜質の高い均一性が要求される先端プロセスや、 温度依存性の高い材料でのプロセス開発においては、 ホットプレートの性能が、プロセスパ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社 SCREEN SPEサービス

『事例』　高温・ALDプロセスで使用可能なバルブ ※無料進呈中

『流路まるごと事例集』バルブ全体を最高200℃ の高温環境で使用できる…

バルブ全体をヒーティングしたい、ハンドルを付けたまま恒温槽に入れられるバルブ、ガス量の安定と再現があるバルブ欲しいなど、お困りごとはありませんか？ KITZ SCT では半導体製造での流体関連のお悩みにさまざまな提案を行っております。気になる事例がありましたらイプロスまたは当社ホームページ経由でお問い合わせください。 ホームページ：https://www.kitzsct.com/con...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社キッツエスシーティー

昇華精製装置『DSUシリーズ』

0.1kgの少量精製から10kgまでの量産精製に対応。省スペースで設置…

『DSUシリーズ』は、長年に渡り蓄積されたプロセスデータから開発された “QUANTIpure Technology”を基にした高純度有機材料の精製装置です。 独自の精製システムにより、収率と純度の両立を実現しています。 0.1kgの少量精製は...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

イットリアコーティング装置（ＡＦ－ＩＰ装置）

耐プラズマ性に優れたイットリア（Ｙ２Ｏ３）膜をＰＶＤ法で形成。 新開…

型イオンプレーティング法により緻密な酸化膜の厚膜（１０μｍ）を低温で形成 半導体製造装置部品に対応した優れた耐プラズマ性をもつイットリア膜の成膜に対応。 イオンプレーティング法によるシンプルなプロセスで緻密な膜質を実現。 イットリア膜だけでなくＳｉＣやＴｉＣ、ＣｒＮなどの各種反応膜を固体金属材料より形成可能。 独自開発イオンプレーティング法により表面処理の新たな用途を開拓...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

【工場・装置の配管設計】コンパクトサニタリーバルブ

製薬・食品・飲料・バイオテクノロジー・化粧品業界向け

場の省エネ化に貢献していると考えています。 それが全世界の製薬業界の約8割にGEMUのバルブを使ってもらえている理由だと思います。 本カタログではこのGEMUのバルブが、各業界のどんなプロセスに採用されているのか紹介しています。 プロセス産業でサニタリーバルブの使用をお悩みの方は、ご覧頂くか、お気軽にお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： ゲミュージャパン株式会社

ウェットステーション

早くて正確な半導体製造プロセス

柔軟度が高く正確なプロセスコントロール 200mmもしくは300mmウェハー用の自動ウェットプロセシングシステムである本製品はキャリア有無どちらでも使用でき、正確なプロセスモニタリ ング、高い生産性と柔軟性を持つように設...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社インターテック販売 東京本社（拠点－関西営業所、熊本営業所）

フラックスレス蟻酸リフロー装置

200mm/300mmウェーハ、ガラス、250mmのサブストレートPK…

【フラックスレス蟻酸リフロー】 ■処理時間：60~100枚/時 ■プロセス温度：100~260℃ (最大450℃) ■温度分布：±3℃以下 (9-point 測定) ■省スペースフットプリント: 4.95m2 / L x W x H =1.8 x 2.75 x 2....

メーカー・取り扱い企業： Yield Engineering Systems, Inc.

石英管洗浄装置(HTC/VTCシリーズ)「薬液、純水削減に貢献」

縦型洗浄装置(VTCシリーズ)は省スペースで「薬液・純水削減」に貢献。…

工程・CVD工程・アニール工程で使用される石英管の洗浄を目的とした石英管洗浄装置です。 【特徴】 ■石英管の形状・洗浄用途に合わせた装置ラインナップ 　・6インチ・８インチ・１２インチ プロセス用の石英管に対応致 　・石英管の形状・洗浄用途に合わせ、横型式(HTC)と縦型式(VTC)の装置を選択可能 ■省スペースで「薬液・純水削減」に貢献 　・縦型式(VTCシリーズ)は、省スペース...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

プラズマアシストソース

プラズマ機能を付加する製品を設計開発し、革新的なプロセス技術を提案しま…

『プラズマアシストソース』は、半導体製造プロセス用、 プラズマ応用製品です。 プラズマ機能付加により、反応性を促進することが可能。 また、既存プロセス技術にプラズマ機能を付加する製品を 設計開発し、革新的なプロセス技術を提案しま...

メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社

高耐久性ドライ真空ポンプ　SDEシリーズ

高耐久性ドライ真空ポンプ　SDEシリーズ

耐久性と省エネを実現し、ランニングコストを低減 あらゆるプロセスに対応する高耐久性ドライ真空ポンプ 【特徴】 ○独自のスクリュー圧縮技術により 　ハードなプロセスでの安定稼動を実現 ○ポンプ構造材は耐食材料を使用。腐食性ガスの排気にも対応 ○ス...

メーカー・取り扱い企業： 樫山工業株式会社

半導体フォーミング金型用セルテスDLCコーティング

PVDとプラズマCVDのハイブリッドプロセスによるDLCコーティングで…

半導体フォーミング金型用セルテスDLCコーティングは、PVDとプラズマCVDのハイブリッドプロセスによる新しいDLC（ダイヤモンドライクカーボン）コーティングです。複合多層膜の採用により、従来のDLCと比較して密着力にすぐれ、厚膜（～ 5μm）が可能なため、抜群の耐久性を示します。また超硬合金...

メーカー・取り扱い企業： ナノコート・ティーエス株式会社 石川事業所

イレイザーディスク（eRaser Disk）

ステージ上のパーティクルをインラインクリーニング　ウェハ型ステージクリ…

　半導体製造装置内、処理ステージとなるピンチャックや静電チャック上にパーティクルが存在する場合、プロセスエラーや装置停止の原因となります。一般的にはダミーウェハーを使用したインラインクリーニング（ダミーラン）によるパーティクルの除去がおこなわれていますが、ダミーランでも除去できないパーティクルは、装...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社クリエイティブテクノロジー

クラスター装置『Morpher』

デバイス量産へ、優れたプロセス品質、信頼性、高スループットを提供！

ペクト比サンプル（最大1：2500） 〇基板材料：Si、ガラス、化合物半導体各種 ＜処理温度と容量＞ 〇～300℃ 〇最大1000ウエハ／24時間@膜厚15 nm Al2O3 ＜一般的なプロセス＞ 〇1桁秒～のサイクルタイム可能なバッチプロセス 〇Al2O3、SiO2、Ta2O5、HfO2、ZnO、TiO2、ZrO2、メタル 〇バッチ1％未満の1σ不均一性（Al2O3、WIW、WT...

メーカー・取り扱い企業： PICOSUN JAPAN株式会社

全自動RTP（高速熱処理）装置

Premtek　RTP-1200A（SEC）（SEF）

4～8インチに対応した、シングルチャンバ全自動RTP装置です。搬送方式はオープンカセット・SMIFどちらかの選択で、カセットステーションは2台になります。 ウェハをサセプタに格納してプロセス処理をするため、反り、厚さ、透過率等のウェハの特性に関わらず、抜群のRc・温度均一性を実現します。 熱源はハロゲンランプで、上下両面配列です。 温度測定範囲は20℃～1250℃となります。熱電対と...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社インターテック販売 東京本社（拠点－関西営業所、熊本営業所）

ブルー半導体レーザ『LDMblue/LDFblueシリーズ』

高反射材料の加工に好適！非常にスムーズで堅牢かつスパッタの無い溶接プロ…

『LDMblue/LDFblueシリーズ』は、様々な方法で銅・金及びそれらの 合金への加工プロセスに革命をもたらす高出力ブルー半導体レーザです。 吸収率が数倍以上となる為、投入強度を大幅に下げ、且つ大きなスポット サイズでのレーザ加工が可能。 また新製品の「LDFblueシリーズ...

メーカー・取り扱い企業： レーザーライン株式会社

高速熱処理装置(RTP/RTA) AccuThermoシリーズ

高速熱処理装置（RTP/RTA装置）　AccuThermo シリーズ

ータまたは熱電対温度センサーによる 　クローズドループ温度コントロール ○温度制御範囲+100℃ 〜 +1,250℃ ○高速加熱100℃/sec，高速冷却100℃/sec ○高いウェハ間プロセス再現性 ○特定のプロセス条件に対応した温度−時間プロファイル ○省スペースかつ、高いエネルギー効率 ●その他機能や詳細については、お問合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： ハイソル株式会社

【集積/コンパクト化　マニホールドバルブ】 【薬液/純水配管用】

普通のバルブメーカーではありません！フィルターやセンサーなどを組合せた…

るゲミュー社オリジナルのカスタマイズ集積バルブを使用することで、 「配管内デッドスペースの削減」「複雑な配管を簡素化」「継手数削減による漏れリスクの最小化」「製造組立工数の削減」が期待でき、製造プロセスの生産性アップに大幅に貢献できます。 半導体/化学/医薬業界など高純度薬液や純水を使用する業界で長年の実績がございます。 【ゲミュー社カスタマイズバルブの特徴】 ■　フィルター、流量...

メーカー・取り扱い企業： ゲミュージャパン株式会社

【技術資料】レーザーアシスト ダイボンディング

レーザーアシスト ダイボンディングに関する情報を詳しく掲載

ファインテックのレーザーアシストダイボンディング技術は、プロセス速度、精度、局所的な加熱を正確に制御することが求められる、チップ・サブストレート（C2S）およびチップ・ウェーハ（C2W）アプリケーションに適しています。特に短時間での温度サイクルは、表面酸化のリ...

メーカー・取り扱い企業： ファインテック日本株式会社

洗浄装置｜ウェハーカセット・キャリア洗浄装置「 TCC-803」

ハイエンド、高付加価値製品の製造プロセスで用いられるウェハーカセット、…

カセット洗浄装置「モデルTCC-803」は、ハイエンド、高付加価値製品の製造プロセスで用いられるウェハーカセット、キャリアー、ボックス等の精密洗浄を 目的とした少量多品種生産用途のコンパクトな洗浄装置です。 ■特長： ・精密洗浄：ワークに上下、左右回転動作機能を持たせ隅々...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクノビジョン 本社

石英ガラス製品　半導体製造装置用製品

200～400工程…複雑な半導体製造のプロセスを支える石英ガラス製品

【特徴】 ○透明で、高耐熱性、高耐酸性、抜群の機械強度を特性に持つ石英ガラス製品は、 　半導体製造プロセスに欠かせません。 ○テクノクオーツ社の製品は、半導体製造の前工程加工装置に多数採用されています。 ○成膜用各製品を始め、プロセス周辺機器である各種ヒーター、分析装置等あらゆる工程で 　テクノ...

メーカー・取り扱い企業： テクノクオーツ株式会社

隔膜式真空計（バラトロン真空計）

150℃/200℃対応！バイオ医薬品製造に最適な隔膜式真空計。

150℃/200℃対応！　バイオ医薬品製造、半導体製造プロセスに最適なバラトロン真空計 バラトロン631Bは、高温制御型真空計を10年以上にわたり供給してきたMKSの最新コンパクトモデルです。 センサ内部を高温に保持し、プロセス副生成物のセン...

メーカー・取り扱い企業： 日本エム・ケー・エス株式会社

ＣＶＤ装置用真空排気装置（塩素系ガス対応真空ポンプユニット）

熱ＣＶＤ装置の排気に実績多数。Ｃｌ系ガスの排気に特に有効、大量排気と塩…

ケミカルプロセスに多大な実績を持つ真空ポンプ（水封式真空ポンプとメカニカルブースタ）をユニット化。 ＣＶＤ装置のプロセス特性・ガス種・排気量に合わせてポンプ材質と周辺機器を最適化。 主排気ポンプの水封式真空ポ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

『事例集』固体材料供給における高温化の課題への提案※無料進呈中

半導体材料メーカー様　必見！固体材料供給における高温化の課題への提案の…

250℃の供給プロセスでオールメタルバルブを使用しているが、耐久回数に不満がある。 200℃の供給プロセスでシート交換できないバルブを使用しているため、バルブを交換しなければならず、ランニングコストがかさんでしまう。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社キッツエスシーティー

高精度ダイボンダ／フリップチップボンダ　FDB210 /211

光デバイス量産に最適化された高精度ダイボンダっです。更に高精度のFDB…

ｍ～） ■±2μｍ （3σ）　の高精度実装が可能 　　高剛性フレームとフルクローズド軸制御による高精度位置決めと 　　自動キャリブレーション機能により安定した実装精度を実現します。 ■各種プロセスに対応 　　共晶接合、樹脂接合などに幅広く対応、実装後のモニタリング機能 　　も装備しており、プロセスコントロールも容易に行えます。 オプション ■超音波ヘッド ■樹脂転写機構 ■マル...

メーカー・取り扱い企業： 澁谷工業株式会社 メカトロ統括本部

Siconnex 会社案内

BATCHSPRAY技術に100％フォーカス！水・排気・化学品を大幅に…

当社は、半導体チップ製造プロセス装置の製造メーカーです。 スループット最大600wphの「BATCHSPRAY Clean Autoload」や タンクシステムによるケミカル循環方式を採用した「BATCHSPRAY So...

メーカー・取り扱い企業： Siconnex Japan合同会社

【技術資料】ウェハーへの均一なテープ貼り付けのコツ

「ダイシング工程におけるテープ貼り付けプロセス」についてご紹介

『テープマウントハンドブック』は、半導体製造装置、洗浄装置、後工程組立装置の 開発・販売を行っているテクノビジョンの技術資料です。 当資料は、「ダイシング工程におけるテープ貼り付けプロセス」について 概要をはじめ、問題点への解決策や装置内容などを掲載しています。 【掲載内容（一部）】 ■概要 ■テープの貼り付け ■手作業による貼り付けの場合 ■既にテープマウンターを...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクノビジョン 本社