排気ガス | イプロスものづくり

PR繰り返し使えて長寿命！自己再生能力を持つセラミックでカンタン悪臭対策！

『セラ・ダイナミックス』は、セラミック触媒を使用し、排気などのニオイを強力脱臭できる技術です。空調ダクトや排ガスダクトに設置するだけで、悪臭、油ミスト、有機溶剤を強力に吸着、分解、無害化し、悪臭防止法・PRTR・近隣対策ができます。 30万～40万種と言われる臭気成分に幅広く対応可能。用途や臭気成分などの条件に合わせて選べる製品ラインアップも魅力です。【『セラ・ダ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ファインセラ

暑熱などのお悩みを解決！熱流体解析ソフトにより工場の温度を最適化

PR熱流体解析ソフトの活用と送風機メーカーのノウハウで工場の温度を最適化に…

SDG（昭和電機）では、熱流体解析ソフトの活用と送風機メーカーとしてのノウハウを生かして工場の温度を最適化する、ものづくりを支えるサービスを提供し、作業環境測定から局所排気装置などの設置ま全てでワンストップで対応します。流体解析のメリットとして、高温なポイントが見える化でき、装置内部の温度分布をシュミレーションできます。また浮遊粒子の動きも分析が可能になります。設置前のシュミレーシ...

メーカー・取り扱い企業： SDG株式会社推進Gr

成膜装置『ロールコーター』

ドラムレスのフラットWeb搬送と処理表面の成膜前非接触搬送を実現！成膜…

『ロールコーター』は、プラスチックフィルム・金属フィルム等に連続的に表面処理をする装置です。ドラムレスのフラットWeb搬送と処理表面の成膜前非接触搬送を可能にし、成膜は、プラズマCDV法、スパッタリング法、真空蒸着法等のプロセスを組み合わせたマルチプロセスが可能です。また、素材ロールの脱ガス対策にTMP＋CRT排気システムの採用しました。【特長】 ■ドラムレス...

メーカー・取り扱い企業：株式会社C&Vテクニクス

真空蒸着装置『MiniLab-090』（グローブボックス用）

グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置高さ570m…

80ℓ大容積MiniLab-080チャンバーをグローブボックスベンチ内に収納可能な構造にしたMiniLab-080のグローブボックスモデル。作業ベンチを最大限活用できるスライド開閉式チャンバー、メンテナンス性を考慮した背面開閉ドアを採用。プロセス処理後の試料を大気・水分に露出せずグローブボックス内の管理された環境内で一貫した処理ができます。GB, ガス精製機はGBモデルの仕様を参照下さい。 ◉ ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

Epitaxial-EB蒸着装置

最高900℃の高温プロセスが可能！エピタキシャル促進機構により単結晶成…

『Epitaxial-EB蒸着装置』は、エピタキシャル促進機構により金属膜や酸化膜の単結晶成膜に適した製品です。基板回転による優れた膜厚分布および再現性を実現させ、またチャンバのメンテナンスが容易。リフトオフプロセスにも対応しており、適切な表面処理によりパーティクル低減させます。マルチチャンバ仕様やバッチ式も製作可能です。【特長】 ■酸化促進ガス導入機構 ■...

メーカー・取り扱い企業：ジャパンクリエイト株式会社

卓上型マグネトロンスパッタ装置『FDS/FRSシリーズ』

初期導入コストを抑え、拡張で高性能化が可能！研究ステージに合せてグレー…

『FDS/FRSシリーズ』は、必要な機能を備えた研究開発用の卓上型マグネトロンスパッタ装置です。基本仕様は、DCスパッタ/シングルカソード/ロータリーポンプで構成される金属薄膜用スパッタ。 RF化、カソード増設、ターボ分子ポンプ仕様などの拡張オプションにより、研究ステージに合せてグレードアップしていただくことが可能です。【特長】 ■初期導入コストを抑え、後の...

メーカー・取り扱い企業：株式会社FKDファクトリ

高周波レーザーCVD装置

簡単に試料セットする事が可能！外部ビューポートよりYAGレーザーを入射…

当製品は、高周波加熱コイルの中心に試料ステージ（自動回転機構付き）があり、外部ビューポートよりYAGレーザーを入射し成膜ができるCVD装置です。サンプル導入口はチャンバー側面で、両側開閉可能。簡単に試料セットする事ができます。オプションでチャンバー上部にガス供給系（最大5系統）を設置する事も可能です。【特長】 ■外部ビューポートよりYAGレーザーを入射し成膜ができ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社和泉テック

ペン型大気圧プラズマ装置P500-SM

【国産】超小型、微細な加工やラボ用途に適した、ペン型タイプの大気圧プラ…

洗浄・表面改質・親水化・接着強化に優れた、ペン型タイプの大気圧プラズマ装置の販売・レンタル・受託をおこなっております。【特徴】 ■熱によるダメージは殆んどありません。 →熱に対して脆弱なサンプルへの処理が可能です。 (条件によってはサンプル表面を40℃程度に。) ■コロナ放電のような電流集中したアーク状態ではありません。 →処理対象物へ電荷のダメージを与えません。 ■窒素のみを...

メーカー・取り扱い企業：株式会社魁半導体

スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】

スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置コンパクトフレームに…

抵抗加熱蒸着源（金属蒸着）、有機蒸着源（有機材料）、マグネトロンスパッタ（金属・絶縁材）、3種類の成膜コンポーネントをチャンバー内に設置、様々な薄膜実験装置に1チャンバーで対応が可能です。 ◉組み合わせは3種類 1. スパッタカソード + 抵抗加熱蒸着源x2 2. スパッタカソード + 有機蒸着源x2 3. スパッタカソード + 抵抗加熱源x1 + 有機蒸着源x1（*DCスパッタのみ） ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

『事例』プラズマや熱によるセンターリングの劣化対策　無料進呈中

真空配管設備の不安を解消！プラズマや熱によるセンターリングの劣化対策の…

製品使用例のご紹介です。・プラズマCVD装置によるプラズマや高温排気の影響で配管接続に使用しているフッ素ゴムO-リングが劣化してしまう。・高価なセンターリングを採用しているが、コストが高く困っている。・真空設備のセンターリングが劣化・腐食し、臭いが漏れ出て困っている・・といったお悩みはありませんか？ KITZ SCT では流路のお悩みをトータルでご提案しております。気になる事...

メーカー・取り扱い企業：株式会社キッツエスシーティー

IPA蒸気乾燥装置

IPAの蒸気によって水分を置換し被対象物を乾燥、4～8インチウェハ用、…

IPA蒸気を使用したウェハ乾燥装置です。スタンドアローン型・洗浄機組込型をラインナップしています。【特徴】　・4インチ～8インチウェハ用IPA蒸気乾燥装置　・ウォーターマークフリー　・各種洗浄機に組み込み・ドッキング可能　・微細パターンへ対応可能　・高スループット対応 ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧下さい。...IPA蒸気を使用し...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行

MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉2000℃

SiC3, TiC3コーティングヒーター採用：様々なプロセス環境に対応…

■Max2000℃（真空中1x10-5Torr, N2, Ar） ■3種類のヒーター材質：・高純度グラファイト：Φ6〜Φ8inch ・SiC3（炭化珪素）コーティング：Φ4〜Φ8inch ・TiC3（チタン・カーバイド）コーティング：Φ4〜Φ8inch ■使用雰囲気：・真空・不活性ガス（グラファイト）・還元雰囲気（TiC3コーティング） ■試料台サイズφ4inch〜φ8inc...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

スパッタ・蒸着源複合型薄膜装置【nanoPVD-ST15A】

真空蒸着（金属・有機蒸着源）、スパッタリングカソードの混在設置が可能な…

nanoPVD-ST15Aは、抵抗加熱蒸着源、有機蒸着源、Φ2inchマグネトロンスパッタリングカソードを同時に設置可能な複合型薄膜実験装置。ベンチトップサイズ・省スペース、限られたラボスペースを有効活用いただけます。顕微鏡用試料作成用コーターではありません、電子回路基板、電池、MEMS、新素材開発などの研究開発用途で求められる高品質な薄膜を作成することができます。ガス系統最大3系統（プロ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

装置製作事例

真空装置の設計・製造ならお任せください！

弊社が手がけた装置製作事例をご紹介です。...【事例】 ◆スパッタ装置　ジョセフン素子作成装置（アルミ・ニオブ）、タブテープ作成用ロールコータ　（酸化クロム・銅）、プラスチック部品メタライズ装置、　ワイヤー成膜要スパッタ装置、レーザービームスパッタ装置、　実験用スパッタ装置（金・白金・チタン・SiO2） ◆蒸着装置　ドアミラー蒸着装置、シールド膜蒸着装置、有機ＥＬ実験用...

メーカー・取り扱い企業：株式会社コスモ・サイエンス

幅広ロールコーター『FRC-500VT』

幅600mmまで対応！フィルムにスパッタにより成膜するウェブコーター

『FRC-500VT』は、幅600ミリまで対応のウェブコーターです。 PET等のフィルムにスパッタにより成膜します。巻き上げはフィードバック制御です。ロールコーターは複数台納入し、ご好評頂いております。その他スパッタリグ装置も多数手掛けております。カソード用マグネットからターゲットの手配まで全てお任せください。【特長】 ○セッティング性に優れている ○サーボによる細か...

メーカー・取り扱い企業：株式会社富士アールアンドディー

スーパーバブラーWAC

先進の電気抵抗率制御技術で超純水の静電気を抑制！！

【特徴】・半導体製造やFPD製造、ダイシング工程での洗浄水の電気抵抗率を最適　化。・静電破壊や微粒子の再付着を防ぎ、歩留まり向上。・全機種電気抵抗率センサーが内蔵されているので据付・配管が容易で　す。・最大通水量：3,000L/h、圧力損失：0.06MPa at 3,000L/h ・運転スイッチを押して電気抵抗率を入力すれば、瞬時に設定値　±0.03MΩ・cmで制...

メーカー・取り扱い企業：日東機器ファインテック株式会社

真空装置用冷凍機SUPCOLD

シンプルな構造で低価格を実現。消費電力、設置スペース、GWPの低減にも…

Supcold社は2011年に創業した新しい会社ではありますが、この分野では経験豊富なスタッフが事業に携わっています。基本設計は米国で、使用している主要部品の多くは米国、ヨーロッパ製を使用し、中国製ではありますが冷凍能力とその品質は、米日の水蒸気ポンプメーカー製と同等以上の性能を有しています。装置価格のみならず、メンテナンス（修理）費用も安価で迅速なサービス体制を有しています。また、新冷媒を採...

メーカー・取り扱い企業：アールエムテック株式会社

R&D用スパッタ装置 QAMシリーズ

各種研究開発、材料開発等に幅広く対応できる成膜装置。多様性・拡張性を持…

各種研究開発、材料開発等の小規模実験用途から要求される様々な機能に対して、アルバックの豊富な成膜技術と経験をもとに、幅広く対応できる低価格のＲ&Ｄ装置。【特徴】 ○低圧力プロセス ○多元同時/多積層膜スパッタ成膜 ○良好な膜厚分布 ○LTSの採用 ○磁性体薄膜への対応 ○フロントアクセス詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...【成膜室】 ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社アルバック／ULVAC, Inc.

加圧RTA装置

基板加熱温度最高1000℃！基板表面加熱プロセス特有の元素抜けを軽減！

『加圧RTA装置』は、減圧プロセスから加圧プロセス（0.9MPaG）まで対応することができる製品です。加熱源はハロゲンランプ、昇温レートは最大150℃/secとなっており、優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現します。半導体、MEMS、電子部品といった用途に使用できる装置で、基板表面の高速熱酸化、結晶化、アニーリング処理等が可能です。【特長】 ■加熱プロ...

メーカー・取り扱い企業：ジャパンクリエイト株式会社

多源同時マグネトロンスパッタ装置『FRS-HGシリーズ』

放電操作が容易！RF電源にオートマッチングを採用したコンパクトな設計

『FRS-HGシリーズ』は、2源/3源の同時スパッタ機能を搭載した研究開発用の多源同時マグネトロンスパッタ装置です。据付タイプながらコンパクト且つスタイリッシュな設計。成膜ソース導入ポートは3ヶ所用意されており、スパッタリングカソードに加え、アークプラズマ蒸着源などスパッタリングとの相乗効果が期待できる成膜ソースを搭載することが可能です。【特長】 ■据付タイプ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社FKDファクトリ

ドライエッチング装置

RIEモードとDPモードの切り替えが可能！特殊表面処理によるメタルコン…

『ドライエッチング装置』は、最大φ12インチ基板を全自動で連続処理することができる量産装置です。 2周波独立印加方式で、特殊表面処理によるメタルコンタミ低減。マルチチャンバ仕様や各種オーダーメイドも製作いたします。ガス種およびプラズマモードの切り替えによりエッチング、アッシング及びイオンクリーニングを可能とする汎用性に優れた装置です。【特長】 ■RIEモードとD...

メーカー・取り扱い企業：ジャパンクリエイト株式会社

高出力レーザ単結晶育成装置『LFZ-Compact』

お手持ちのスマートホンで、加熱部の監視および焦点、倍率、絞り調整が可能…

『LFZ-Compact』は、出力半導体レーザを用いた浮遊溶融帯(FZ)方式の単結晶育成装置です。加熱部の観察用高精細カメラと、21.5インチ大型ディスプレイが装備されています。(標準) 録画可能で、加熱部の監視および焦点、倍率、絞り調整は、お手持ちのスマートホンでできます。【仕様】 ■レーザ照射光強度(下記のレーザ照射光強度が選択可能) 　・1)100W×5...

メーカー・取り扱い企業：株式会社テクノサーチ

小型スパッタ装置『SS-DC・RF301』

小型設計ながら性能はキープ！高温での基板加熱が可能なスパッタ装置

『SS-DC・RF301』は、2"マグネトロンカソードと基板加熱機構をそれぞれ 1基搭載した小型スパッタ装置です。シンプルな設計により、事務机の約半分のスペースに設置可能。基板上下機構を採用し、ターゲットと基板間の距離を任意に設定できます。基板加熱を高温で行えるほか、電気とガスのみでの運転や、スパッタアップとスパッタダウンの組み替えなども可能です。【特長】 ■シ...

メーカー・取り扱い企業：アリオス株式会社

研究・開発用機器/超高真空機器

信頼性の高いシステムを構築！メンテナンスや改造も当社にお任せください

当社は30年以上真空技術に携わり、ユーザー様の仕様に合わせた製品を主に研究機関に提供してまいりました。 2系統のガス導入が可能な「RFマグネトロンスパッタ装置」や安価で手軽に薄膜作製が可能な「小型真空蒸着装置」など真空成膜装置を多数ラインアップ。その他「真空チェンバー」や「ターボ真空排気装置」などの各種研究用装置もご用意しております。ご用命の際はお気軽にご相談...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ヤシマ

2次元抵抗加熱蒸着装置

蒸着源はボートタイプ！基板は支柱上のプレートに取付けられており高さは任…

『2次元抵抗加熱蒸着装置』は、簡単に2つの材料を抵抗加熱により蒸着出来る装置です。蒸着源はボートタイプで、基板は支柱上のプレートに取付けられており、高さは任意に変更可能。排気系は、DPとRPを併用しておりますので、短時間で高真空が得られます。【特長】 ■SUS製上チャンバーには、CF70ポートが2式、50φの窓が2式、　又下チャンバーはCF70ポートが6式標準...

メーカー・取り扱い企業：株式会社和泉テック

アッシング装置

エッチング、アッシング及びイオンクリーニングを可能とする汎用性に優れた…

『アッシング装置』は、最大φ12インチ基板を全自動連続処理することができる量産装置です。ガス種およびプラズマモードの切り替えによりエッチング、アッシング及びイオンクリーニングを可能とする汎用性に優れた装置です。【特長】 ■RIEモードとDPモードの切り替えが可能 ■特殊表面処理によるメタルコンタミ低減 ■省フットプリント ■2周波独立印加方式 ■超低温冷却ステージ...

メーカー・取り扱い企業：ジャパンクリエイト株式会社

プラズマCVD装置

漏洩マイクロ波検出用も付属！試料の取付は、下部よりモーターによる上下機…

『プラズマCVD装置』は、実験用に極端に簡素化して製作されたCVD装置です。マスフロー本体は、メーカー品を使用。表示器、設定器は当社オリジナルで製作し価格を下げております。また、プラズマ発生域と試料の距離を変更できるよう、マイクロ波導波管を上下できる機構を備えています。【特長】 ■実験用に極端に簡素化して製作 ■マイクロ波導波管を上下できる機構を備えている ■...

メーカー・取り扱い企業：株式会社和泉テック

酸化シリコン成膜CVD装置

3インチウェハ対応！コンパクトな設計となっており省スペース化を実現しま…

当製品は、酸化シリコンを成膜する為のCVD装置です。コンパクトな設計となっており省スペース化を実現。内面処理は電解研磨、チャンバー材質はSUS316です。また、3インチウェハ対応となっております。【特長】 ■酸化シリコンを成膜 ■コンパクトな設計となっており省スペース化を実現 ■3インチウェハ対応 ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合...

メーカー・取り扱い企業：株式会社和泉テック

グラフェンCVD成膜装置

炉のスライド移動による急冷機構を搭載

グラェン膜を合成するための管状炉熱CVD装置です炉のスライド移動機構を搭載、サンプルの急加熱／急冷が可能　　　オプションで、モータ駆動による自動スライド機能も追加可能　　オプションで、ターボ排気ポンプの追加により、さらに高品質のグラフェンが成膜可能 ...・熱電対センサーを炉内に導入、試料温度を直接モニター可能・3系統のマスフローガス流量制御系、正確なガス制御が可能・コ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社マイクロフェーズ

【事業紹介】特殊アプリケーション

特別注文対応チーム！大規模生産に向けた理想的なソリューションを提供

航空輸送は成長を続けており、それに応じて燃料消費の引き下げ、排気ガスの減少、エンジンの静音化という要求がますます大きくなっており、現代のタービンは従来よりもはるかに高い燃焼温度と温度変動に耐えなければなりません。当社のTUBAはタービンに適切な...

メーカー・取り扱い企業：フォンアルデンヌジャパン株式会社

フィルム表面改質装置（ロールtoロール式）

高機能フィルム・有機EL向けロールtoロールプラズマ装置

・機能性フィルム、有機EL研究用フィルム改質装置・幅200～300mmのフィルムに対応・常圧プラズマ発生装置を中央に左右往復搬送が可能・ガイドフィルム挿入、または保護フィルム合わせ巻取りモードを選択・搬送速度0.1～1m/min（実際は4m/min達成) ...・全面樹脂カバーとHEPAユニットでクリーン度を保持・改質時に放出されるオゾン、N2ガスを封じ込め、オ　ゾン吸着...

メーカー・取り扱い企業：ブルーオーシャンテクノロジー株式会社

排ガス処理装置

弊社の業務内容としては、半導体、液晶、太陽電池等製造装置用ガス供給装置の設置・製造や特殊材料ガス配管工事などです。【製品事例】・高純度ガス供給ユニット製作・シリンダーキャビネット製作・排気ユニット製作・除害ユニット製作・クリーン自動溶接配管製作・真空配管製作など様々な製造・制作を行っております。 ※詳細は【資料請求】もしくは、会社案内を【カタロ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社湘南テクノ

CVD装置用ガスボックス

弊社の業務内容としては、半導体、液晶、太陽電池等製造装置用ガス供給装置の設置・製造や特殊材料ガス配管工事などです。【製品事例】・高純度ガス供給ユニット製作・シリンダーキャビネット製作・排気ユニット製作・除害ユニット製作・クリーン自動溶接配管製作・真空配管製作など様々な製造を行っております。 ※詳細は【資料請求】もしくは、会社案内を【カタログダウ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社湘南テクノ

アニール炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』

最高使用温度2000℃ セミオート制御超高温実験炉（カーボン炉、…

◉最高使用温度 Max2000℃ ◉PLCセミオートコントロール卓上型Mini-BENCHのセミオート制御式上位機種「真空引き」「ガス置換」「ベント」の各工程を自動制御（ガス流量→ニードルバルブにて手動調整） ◉作業中の安全を確保冷却水異常・チャンバー温度異常・過圧異常を監視SUS製堅牢な水冷チャンバー、最高温度で連続使用中でも安全にご使用いただけます。 ◉小型・省スペース ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

簡易大気圧プラズマ装置A1000

【国産】低温・電荷ダメージなし！簡易型大気圧プラズマ装置洗浄・表面…

洗浄・表面改質・親水化・接着強化に優れた、簡易型の大気圧プラズマ装置の販売・レンタル・受託をおこなっております。当装置はラボや小ロット向けで導入しやすい安価な価格帯です。全国の大学、大手の研究機関・R&D部門・生産部門でも多数ご利用頂いており、高い処理効果が有ります。又、社内で設計から製造まで全ておこない、専任の技術者により、あらゆる仕様に対し、親身に対応させて頂いております。【特徴】 ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社魁半導体

ホローカソード方式イオンプレーティング装置　SIH-400T

ドロップレットを減少させるための蒸発源高速回転機構付です。

ホローカソード方式イオンプレーティング装置　SIH-400Tは、アクセサリーなどの装飾膜成膜、工具の硬化膜成膜に最適です。導入ガス（N2、O2、C2H2）の量、及び種類を変えることにより、成膜色を変える事が可能。【特徴】 ○工具の硬化膜成膜用に最適 ○タッチパネル操作による成膜レシピ制御が可能 ○少量生産機・実験機として最適詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社昭和真空

アニール炉『MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉』

SiC3, TiC3コーティングヒーター採用：様々なプロセス環境に対応…

◉Max2000℃（真空中1x10-5Torr, N2, Ar） ◉3種類のヒーター材質：・高純度グラファイト：Φ6〜Φ8inch ・SiC3（炭化珪素）コーティング：Φ4〜Φ8inch ・TiC3（チタン・カーバイド）コーティング：Φ4〜Φ8inch ◉使用雰囲気：・真空・不活性ガス（グラファイト）・還元雰囲気（TiC3コーティング） ◉試料台サイズφ4inch〜φ8inc...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

ハンディ型大気圧プラズマ装置S5000-BM【国産製品】

【溶剤不要】ハンディータイプの大気圧プラズマ装置、低温・電荷ダメージな…

洗浄・表面改質・親水化・接着強化に優れた、ハンディータイプの大気圧プラズマ装置の販売・レンタル・受託をおこなっております。全国の大学、大手の研究機関・R&D部門・生産部門でも多数ご利用頂いており、高い処理効果が有ります。又、社内で設計から製造まで全ておこない、専任の技術者により、あらゆる仕様に対し、親身に対応させて頂いております。【特徴】 ■熱によるダメージは殆んどありません。 →熱に...

メーカー・取り扱い企業：株式会社魁半導体

□■□【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置□■□

グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置高さ570m…

80ℓ大容積MiniLab-080チャンバーをグローブボックスベンチ内に収納可能な構造にしたMiniLab-080のグローブボックスモデル。作業ベンチを最大限活用できるスライド開閉式チャンバー、メンテナンス性を考慮した背面開閉ドアを採用。プロセス処理後の試料を大気・水分に露出せずグローブボックス内の管理された環境内で一貫した処理ができます。GB, ガス精製機はGBモデルの仕様を参照下さい。・最...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

表面処理装置　走査型イオン銃　「40E1型」

表面処理装置　走査型イオン銃

２段の射出レンズにより、イオンビームのスポット径が容易に調整できる収束型イオン銃です。 ...【特徴】 ◯フルソフトウェア動作 ◯２段の差動排気 ◯酸素、水素、ハイドロカーボンのような活性ガスに対しても使用可能 ◯超高真空下でイオン銃の操作が可能 ◯ウィンマスフィルターの装着が可能 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。 ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社テクノポート

RTA装置

トレイ搬送にも対応可能！優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現

『RTA装置』は、減圧プロセスから加圧プロセス（0.9MPaG）まで対応できる製品です。基板表面の高速熱酸化、結晶化、アニーリング処理等が可能。優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現します。半導体をはじめ、MEMSや電子部品にご利用いただけます。【特長】 ■減圧プロセスから加圧プロセス（0.9MPaG）まで対応可能 ■基板表面の高速熱酸化、結晶化、アニーリ...

メーカー・取り扱い企業：ジャパンクリエイト株式会社