高品質な精密機械部品加工　金久保製作所の加工事例集ver1

PRアルミ、S45C、SUS304、SUS316、ジュラコンABS、医療機…

自動制御用部品加工のほか、つり具部品、万華鏡部品、医療機器部品、 空圧機器部品など、幅広い業界での精密加工の実績がある金久保製作所。 対応材質も幅広く、アルミA2017、S45C、SUS304、SUS316、チタン、真鍮、ジュラルミン、ジュラコンABS等、様々な加工に対応した実績があります。 空圧機器部品の加工では、内径加工が複雑な角物の加工や、 φ0.3の小径の穴あけなど、精密で...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社金久保製作所

【開発品】水系湿潤分散剤『フローレンALX-3938シリーズ』

PR有機･無機顔料及びフィラーの分散や沈降防止を効果的に発揮します！

当社が取り扱っている『フローレンALX-3938A/B』をご紹介いたします。 カーボンブラックや有機・無機顔料などのフィラーの湿潤分散に優れた効果 があります。非危険物のため、安全面にも好適。 また、最大の特長は、吸着部の指標である酸価と分散剤のポリマー鎖の極性 などを任意に設計することができ、顔料、フィラーへの吸着、塗料中の 立体反発をコントロールすることができます。 【...

メーカー・取り扱い企業： 共栄社化学株式会社 本社

NCフライス加工／中型精密切削加工品／A5052

最短半日見積り／アルミ材による生産設備部品の製作を承りました。

某半導体メーカー様よりご依頼頂き、アルミ材による生産設備部品の製作を承りました。 アルミ材(A5052 )と言えど、中実のままでは重量増の為、 各所に肉抜きの切削加工を施し軽量化を図る構造となっております。 肉抜きしても歪みや公差ズレも無く、完璧な仕上がりです。 弊社では、この様な大型（...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社 エージェンシーアシスト 京都本社　営業所(仙台・東京・埼玉・神奈川・浜松・愛知・岐阜・新潟・福井・奈良・兵庫・岡山・福岡)

スパッタリング装置『nanoPVD-S10A』

高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

◉ 対応基板：2"（1〜3源）、もしくは4"（1源） ◉ 2"カソード x 最大3源 ◉ 7"タッチパネル簡単操作 PLC自動プロセスコントロール ◉ MFC搭載高精度プロセス制御 ◉ Arガス1系統（標準） + N2, O2 最大3系統まで増設 ◉ USB端子付 Windows PCに接続し、最大1000layer, 50filmのレシピを作成・保存。PCでデータロギング。 ◉...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

スパッタ・蒸着源複合型 薄膜装置 【nanoPVD-ST15A】

真空蒸着（金属・有機蒸着源）、スパッタリングカソードの混在設置が可能な…

nanoPVD-ST15Aは、抵抗加熱蒸着源、有機蒸着源、Φ2inchマグネトロンスパッタリングカソードを同時に設置可能な複合型薄膜実験装置。ベンチトップサイズ・省スペース、限られたラボスペースを有効活用いただけます。 顕...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】

スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置 コンパクトフレームに…

Φ4inch ◉ スパッタリング：2"カソード x 最大3源 ◉ 真空蒸着：抵抗加熱蒸着（最大2）、有機材料蒸着（最大4） ◉ 7"タッチパネル簡単操作 PLC自動プロセスコントロール ◉ APC自動圧力コントロール ◉ MFC搭載高精度プロセス制御 ◉ Arガス1系統（標準） + N2, O2 最大3系統まで増設 ◉ USB端子付 Windows PCに接続し、最大1000lay...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

【MiniLab-SA125A】 多元マルチスパッタ装置

高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…

：5 x 10-5pascal ・スパッタカソード：Φ2"（最大6）、Φ3"（最大4） ・プラズマ電源：RF150W, 300W, DC850W, HiPIMS 5KW ・MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング ・ターボ分子ポンプ + ドライスクロールポンプ ・メインチャンバー RIEエッチングステージRF300W ・LLチャンバー ＜30W 低出力制御*ソフ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

小型スパッタリング装置

コンパクト設計で省スペースを実現！大学や民間の研究室に最適なスパッタリ…

韓国 A-tech社は1964年の創業以来、顧客のニーズに合わせた薄膜製造装置を提供してきました。デスクトッププロは小型高性能でデスクトップに設置でき、経済的にもメリットのあるスパッタリング装置です。 物...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マツボー

蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム【MiniLab】

2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置（スパッタ、…

【装置構成事例】 1. MiniLab-E080A（蒸着装置） ・基板サイズ：Φ8inch ・EB蒸着:7ccるつぼ x 6 ・抵抗加熱蒸着 x 2 ・有機蒸着限 x 2 2. MiniLab-S060A（スパッタリング装置） ・基板サ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

薄膜実験装置_「PRODUCTS GUIDE 2022」

半導体・電子デバイス・燃料電池・ディスプレイなどの研究開発用各種実験装…

◉ nanoベンチトップシリーズ 薄膜実験装置 - nanoPVD-S10Aマグネトロンスパッタリング装置 - nanoPVD-T15A有機膜・金属膜蒸着装置 - nanoCVDグラフェン合成装置 - ANNEALウエハーアニール装置 - MiniLabシリーズフレ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

アルミ精密切削加工／大阪・フィリール株式会社

A5056／旋盤加工／アルミ加工【コストダウンはフィリール株式会社にお…

♦材質 A5052　(アルミ) ♦業界 半導体製造装置 ♦加工方法 CNC旋盤加工 マシニング加工 ♦表面処理 　－　(日本国内) ♦個数 10個 ♦説明 半導体...

メーカー・取り扱い企業： フィリール株式会社 本社

有機ポリリン酸塩の世界市場

有機ポリリン酸塩の世界市場：メーカー、地域、タイプ、アプリケーション別…

化合物の重要な一種です。アリールまたはアルキルジハロリン酸や無水リン酸などのリン酸誘導体とジオールまたはジオールプレポリマーを反応させることにより製造されます。 製品別,Bisphenol A Bis(Diphenyl Phosphate) (BDP),Resorcinal Bis(Diphenyl Phosphate) (RDP),Melamine Polyphosphate (MPP...

メーカー・取り扱い企業： GlobaI Info Research有限会社 Global Info Research

デスクトップRFスパッタ装置『SVC-700RFIII』

コンパクトな卓上サイズで3源のカソードを搭載。絶縁薄膜、酸化物・窒化物…

III(制御ユニット)：W370×D310×H195mm 　RF CONTROL UNIT：W370×D310×H158mm 　チャンバーユニット：W370×D540×H400mm 所要電源：AC100V 50/60Hz 15A 1系統 3pinプラグ ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業： サンユー電子株式会社

多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S060】

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

（RF500W or DC850W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF300W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャンバー） 基板加熱：Max500℃, 800℃, 又は1...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

スパッタリング装置『MiniLab-060』

蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…

-1cc/5cc) ・電子ビーム蒸着：7ccるつぼｘ６（又は4ccるつぼｘ8） ・Φ2〜4inchマグネトロンスパッタリングカソード x 最大４源 ・プロセス制御：手動/自動多層膜・同時成膜、APC自動制御も可能 ・膜厚モニタ：水晶振動子センサヘッドｘ２ ・膜厚制御：Inficon社 SQM-160（又はSQC-310） 2ch/4ch薄膜コントローラ ・ユーティリティ：電源200...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

真空蒸着装置『MiniLab-090』（グローブボックス用）

グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…

/5cc) ・EB電子ビーム蒸着源：7ccるつぼｘ６（又は4ccるつぼｘ8） ・Φ2〜4inchマグネトロンスパッタリングカソード x 最大４ ・プロセス制御：手動/自動連続多層膜・同時成膜、APC自動制御 ・膜厚モニタ：水晶振動子センサヘッドｘ4 ・膜厚制御：Inficon社 SQM-160（又はSQC-310） 2ch/4ch薄膜コントローラ  ・ユーティリティ：電源200V ３...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

ロードロック方式スパッタリング装置 「SPH-2500-II」

膜厚分布：トレー内 ±1.2％、トレー間 ±1.5％を達成しました。

成　ストッカー + 仕込室 + SP室 インターバック式 ○スパッタ方式　DCマグネトロン ○カソード　5インチ×7インチ　2対（うち1対が高使用効率カソード） ○DC電源　800V、3.75A （MAX1.5kW） ○トレイサイズ　L350mm×H210mm ○基板搬送方式　ラック＆ピニオン搬送 ○ストッカー　10トレイ収納 ○排気系　ターボ分子ポンプ 2式／油回転ポンプ 2式 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社昭和真空

卓上型マグネトロンスパッタ装置『FDS/FRSシリーズ』

初期導入コストを抑え、拡張で高性能化が可能！研究ステージに合せてグレー…

【仕様】 ＜FDS-1C-160R Sputtering System＞ ■スパッタ電源：DC500V/0.8A ■カソード：φ2インチ/マグネトロンカソード ■適用ターゲット：Au/Ag/Pt/Pd/Ni/Cu/W/Cr/Ti/Ta/Mo/etc. ■真空排気系：ロータリーポンプ 162L/min ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社FKDファクトリ

平行移動式3元RFスパッタリング装置『MSS600-3』

ガス導入と圧力コントロールバルブによるスパッタ圧の制御が可能！

【仕様】 ■電源電圧：AC200V　三相3線式　50/60Hz（電源電圧変動：±10％） ■最大電流：250A ■運転可能周囲温度湿度：+5～+35℃/75%rhまで ■装置本体外形寸法(W×H×Dmm)：3940×...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社愛知真空

【多目的真空蒸着装置】スパッタリングソース

多目的真空蒸着装置HEXシステム用RF&amp;DCスパッタリングソース

【主な仕様】 ターゲット直径：2インチ ターゲット厚さ：最大6mm（材料に依存） DC電源：720W（600V, 1.2A） RF電源：300W（13.56MHz） ガス供給：ガスフード経由 冷却：水冷（1L／分）...

メーカー・取り扱い企業： テガサイエンス株式会社

高電流密度イオンビーム型イオン銃

EUROVAC社製VARIAN型廉価版3keVイオン銃

EUROVAC社(スウェーデン国)は、30年以上前に設立され、ミュンヘンのパーキンエルマー社PHI部門出身の物理学者たちによって運営されています。実用的、技術的、基礎的な研究課題の解決に向け、お客様をサポートす...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社テク

【nanoPVD-S10A】マグネトロンスパッタリング装置

高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

・絶縁膜 ・導電性膜 ・化合物、他 【主な特徴】 ◉ 対応基板：〜Φ4inch ◉ 2"カソード x 最大3源 ◉ 7"タッチパネル簡単操作 PLC自動プロセスコントロール ◉ APC自動圧力コントロール ◉ MFC搭載高精度プロセス制御 ◉ Arガス1系統（標準） + N2, O2 最大3系統まで増設 ◉ USB端子付 Windows PCに接続し、最大1000lay...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

スパッタリング装置 多機能スパッタ装置MiniLab-S060A

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

（RF500W or DC850W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング プラズマエッチングステージRF300W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャンバー） 基板加熱：Max500℃, 800℃, 又は...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

多元マルチスパッタ装置【MiniLab-S125A】

高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…

：5 x 10-5pascal ・スパッタカソード：Φ2"（最大6）、Φ3"（最大4） ・プラズマ電源：RF150W, 300W, DC850W, HiPIMS 5KW ・MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング ・ターボ分子ポンプ + ドライスクロールポンプ ・メインチャンバー RIEエッチングステージRF300W ・LLチャンバー ＜30W 低出力制御*ソフ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

A5052精密切削／丸物／旋盤／大阪

CNC旋盤加工・アルミ精密切削・半導体製造装置部品【コストダウンはフィ…

♦材質 A5052　(アルミ) ♦業界 半導体製造装置 ♦加工方法 CNC旋盤加工 マシニング加工 ♦表面処理 アルマイト処理　(日本国内) ♦個数 10個 ♦説明...

メーカー・取り扱い企業： フィリール株式会社 本社

製作実績【2】／半導体製造装置 関連部品

最短半日見積り／金属部品から樹脂製品まで、半導体製造装置に関わる部品を…

送や スライダー系の用途に用いる事で製品を傷めずに無潤滑で摺動効果を維持出来ます。 （2）特殊形状加工品（SKD11） 工具鋼材（SKD11）での加工品の製作を承りました。 （3）生産設備部品（A5052） アルミ材（A5052）であっても、重量増の為、各所に肉抜きの切削加工を施し 軽量化した構造となっております。 肉抜後の歪みも公差ズレも無く、完璧な仕上がりです。 （4）製品チャッキング...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社 エージェンシーアシスト 京都本社　営業所(仙台・東京・埼玉・神奈川・浜松・愛知・岐阜・新潟・福井・奈良・兵庫・岡山・福岡)

【MiniLab】 蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム

2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置（スパッタ、…

【装置構成事例】 *Chamber-1. MiniLab-E080A（蒸着装置） ・EB蒸着:7ccるつぼ x 6 ・抵抗加熱蒸着 x 2 ・有機蒸着限 x 2 *Chamber-2. MiniLab-S060A（スパッタリング装置） ・Φ2"マグネトロン...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

アルミ精密切削【半導体製造装置部品】フィリール株式会社へ

アルミ切削／A5052／旋盤加工／大阪【コストダウンはフィリール株式会…

♦材質 A5052　(アルミ) ♦業界 半導体製造装置 ♦加工方法 CNC旋盤加工 マシニング加工 ♦表面処理 　－　(日本国内) ♦個数 10個 ♦説明 半導体...

メーカー・取り扱い企業： フィリール株式会社 本社

真空蒸着装置『MiniLab-026』

小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

必要最小限のモジュール・コントローラをPlug&amp;Play感覚で19"コンパクトラックに組込む事により無駄が無く、小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&amp;D用薄膜実験装置です。 マグネトロンスパッタ（最大3源）もしくは抵抗加熱蒸着（金属源 最大4、有機材料x4）に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、プラズマエッチングも製作可能。 グローブ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

真空蒸着装置『MiniLab-080』

蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570…

) ・EB電子ビーム蒸着源：7ccるつぼｘ６（又は4ccるつぼｘ8） ・Φ2〜4inchマグネトロンスパッタリングカソード x 最大４源 ・プロセス制御：手動/自動多層連続成膜・多元同時成膜、APC自動制御 ・膜厚モニタ：水晶振動子センサヘッドｘ4 ・膜厚制御：Inficon社 SQM-160（又はSQC-310） 多チャンネル成膜コントローラ ・ユーティリティ：電源200V ３相...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

【アルミ精密部品】プレート

半導体製造装置のアルミ精密部品　大阪　【コストダウンはフィリール株式会…

♦材質 A5052　(アルミ) ♦業界 半導体製造装置 ♦加工方法 マシニング加工 ♦表面処理 　－　(日本国内) ♦個数 200個 ♦説明 半導体製造装置のアルミ...

メーカー・取り扱い企業： フィリール株式会社 本社

□■□【MiniLab-060】フレキシブル薄膜実験装置□■□

蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…

cc/5cc) ・電子ビーム蒸着：7ccるつぼｘ６（又は4ccるつぼｘ8） ・Φ2〜4inchマグネトロンスパッタリングカソード x 最大４源 ・プロセス制御：手動/自動連続多層膜・同時成膜、APC自動制御 ・膜厚モニタ：水晶振動子センサヘッドｘ２ ・膜厚制御：Inficon社 SQM-160（又はSQC-310） 2ch/4ch薄膜コントローラ  ・ユーティリティ：電源200V ３...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

□■□【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置□■□

グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…

c) ・EB電子ビーム蒸着源：7ccるつぼｘ６（又は4ccるつぼｘ8） ・Φ2〜4inchマグネトロンスパッタリングカソード x 最大４源 ・プロセス制御：手動、又は自動連続多層膜・同時成膜、APC自動制御 ・膜厚モニタ：水晶振動子センサヘッドｘ4 ・膜厚制御：Inficon社 SQM-160（又はSQC-310） 多チャンネル薄膜コントローラ  ・ユーティリティ：電源200V ３相...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

【大阪　アルミ加工　旋盤　マシニング】

アルミ加工　アルマイト処理　大阪【コストダウンはフィリール株式会社にお…

♦材質 A5052　(アルミ) ♦業界 半導体製造装置 液晶製造装置 ♦加工方法 マシニング加工 旋盤加工 ♦表面処理 　－　(日本国内) ♦個数 500個 ♦説明 ...

メーカー・取り扱い企業： フィリール株式会社 本社

コンビナトリアル技術とは

ほぼ理想的な混合物が作成可能！直線性に優れ、試料内の幾何学的な配置と組…

に、2元あるいは3元の 材料の組成を0％から100％まで変化させた薄膜を形成します。 移動マスクを用いて、くさび状の膜厚傾斜を持つ極薄層を交互に積み重ね、 ユニット層の厚みが0.2nm(2A)ですので、この値は原子間距離に等しく、 ほぼ理想的な混合物が作成可能。 2元あるいは3元の全ての組成が1つの試料に含まれていますので、1つの 組成傾斜試料を分析・解析することで、新機能を...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社コメット