気体漏れ検知カメラ『Si2-Pro』『Si2-LD』

PRノイズキャンセル機能で騒音環境下にも対応。検出が困難な水素など、様々な…

気体漏れ検知カメラ『Si2-Pro』『Si2-LD』は、圧縮空気・ガスの漏れを 正確に検出できるハンディ型の産業用音響カメラです。 検出が非常に難しい水素にも対応しており、稼働中に様々な気体の漏れを可視化することができます。 漏れの早期発見によって、エア・ガスのロスが抑えられトータルコストの削減に貢献します。 【特長】 ■リアルタイムで損失コストをシミュレーションし、対応判断をサポート ■ノイ...

メーカー・取り扱い企業： フリアーシステムズジャパン株式会社

【無料進呈】ゴム部品の試作・成形 ※取り扱い材料の物性表付き資料

PR型製作～製品お渡しが最短1週間！良品廉価の材料提案で低コスト化にも貢献…

当社は『ゴム部品の試作・成形』で豊富な実績を有し、 試作型の製作から製品の納品まで最短約1週間の超速対応が可能です。 使用環境や用途に合わせて、安価で要求性能を満たす材料を提案。 ゴム部品の試作スピードの向上と低コスト化に貢献します。 【こんなお悩みを解決】 ・安価で性能を満たす材料を選びたい ・型製作ゴムで形状確認を急いで行いたい ・耐候、耐熱、耐油、硫黄フリーなど特殊スペ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社大和ケミカル

Si(シリコン)ウェーハ研磨加工

様々なサイズ、厚みに応じた研磨加工が可能です。

SOIウエーハに関しては大口径(12"φ)化が着実に進み、現在では小口径では出来ない最新技術が素材で開発されている一方、 後工程(デバイス工程)のラインは小口径(8"φ以下)での対応となり、大口径素材が持つ最新技術が生かせない状況です。 日本エクシードではこれらのニーズに応えるべく、たえず技術向上を図ると共に、量産ベースでの生産体制を確立しています。 また、SOIウエーハのサイズダウンも可...

メーカー・取り扱い企業： 日本エクシード株式会社

CZウェーハ　成膜加工

2インチから12インチウェーハへの成膜が可能です。

株式会社エナテックのCZウェーハ 成膜加工は、膜種により2インチから450ｍｍウェーハへの成膜が可能です。 酸化膜系：熱酸化、RTO、LP-TEOS、HDP-USG、P-TEOS、PSG、BPSG、BSG、LP-CVD、PE-CVD 窒化膜系： HCD-SiN、DCS-SiN、P-SiN、LP-SiN 、LP-CVD、PE-CVD 金属膜系： TaN、Ta、Cu、Al、AlN、...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エナテック 東京本社

モニターSiウェハー(パーティクル管理品）

各サイズのパーティクル管理品を取り揃えております。 スペック等ご要望…

【モニタ用ウェハー】 プロセスチェックやパーティクルチェックに使用します。日常のプロセスの結果を定期的にモニターし、問題があれば条件（レシピ）にフィードバックをかけます。また、装置内のパーティクルチェックを定期的に行う場合に行う場合にも使います。 【テスト用ウェハー】 先行で流すウェハーなどのテスト用。フルプロセスを流さず、問題になっている工程のみを流すケースもあります。 モニター...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社トリニティー

窒化ガリウム（GaN）、SiC（炭化ケイ素）ウェハー

当社は6インチSiC基板ウェーハ、6インチGaN-on-Si HEMT…

売れ筋商品：6インチGaN-on-Si HEMT RFエピウェーハ、6インチGaN-on-Si HEMT Dmodeパワーエピウェーハ 、6インチGaN-on-Si HEMT Emodeパワーエピウェーハ、6インチSiC基板ウェーハ、SiC基板ウェーハ（直径150mmのn型基板）など 研究開発実験用品に適しています 。コスパに優れています。...6インチGaN-on-Si HEMT RFエピウェ...

メーカー・取り扱い企業： インターケミ株式会社

パワーデバイス（SiC）をチップ化

ドライプロセスの為、水を一切使用せず環境に優しい。カーフロスゼロで生産…

三星ダイヤモンド工業は創業以来の独自技術、SnB「スクライブ＆ブレーク」工法で、シリコンカーバイト(SiC)、窒化ガリウム（GaN）、アルミナ(Al2O3)　、サファイア(Sapphire)、窒化ケイ素（Si3N4）、シリコン(Si)などの基材に、金属膜やシリコーン樹脂が積層されたデバイス基板を精密に切断加工（個片化）する技術です。　 MDI独自技術であるSnB「スクライブ＆ブレーク」によっ...

メーカー・取り扱い企業： 三星ダイヤモンド工業株式会社

高周波デバイス（GaNonSiC、GaAs）をチップ化

ドライプロセスの為、水を一切使用せず環境に優しい。カーフロスゼロで生産…

三星ダイヤモンド工業は創業以来の独自技術、SnB「スクライブ＆ブレーク」工法で、シリコンカーバイト(SiC)、窒化ガリウム（GaN）、アルミナ(Al2O3)　、サファイア(Sapphire)、窒化ケイ素（Si3N4）、シリコン(Si)などの基材に、金属膜やシリコーン樹脂が積層されたデバイス基板を精密に切断加工（個片化）する技術です。　 MDI独自技術であるSnB「スクライブ＆ブレーク」によっ...

メーカー・取り扱い企業： 三星ダイヤモンド工業株式会社

CZウェーハ　エピ受託加工　SiGeエピウェーハ　他

小ロットからの対応可能です。特殊なエピ、多層エピなどにも出来るだけ対応…

「エピウェーハ」 1. ディスクリートデバイス向けや IC powerデバイス向けに使用されております。 ＊直径: 100-200 mm ＊Epi層ドーパント: Boron 、Phosphorous ＊Epi層抵抗値: 0.01-500 Ω/cm ＊Epi厚: 1-150 um ＊Stacking fault: 10 /cm2 以下 ＊Thickness Uniformity: ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エナテック 東京本社

【分析事例】ラマンマッピングによる応力評価

試料断面における応力分布を確認することが可能です

単結晶Siのラマンスペクトルのピークは、試料に圧縮応力が働いている場合は高波数シフト、引張応力が働いている場合は低波数シフトします。これにより、Siの応力に関する知見を得ることができます。 IGBT（絶縁ゲートバイポーラトランジスタ）の断面について、ラマンマッピングで応力の分布を確認した例を示します。...詳しいデータはカタログをご覧ください...

メーカー・取り扱い企業： 一般財団法人材料科学技術振興財団　MST

【技術資料進呈中！】ウェーハ研磨加工プロセスと加工素材&技術紹介

数百種類以上の半導体素材の研磨を扱っている技術を紹介！各種ウェーハの研…

当資料では、日本エクシードの各種ウェーハの研磨プロセス・洗浄・加工技術を写真や分析事例などで紹介しています。 長年にわたる研磨加工の経験の上に独自の研究開発を幾度も繰り返し、単結晶と名の付く様々な素材を手掛ける技術力を 高次元で実現し、今では数百種類以上の半導体素材の研磨を扱う存在となりました。 研磨加工プロセスの研磨工程をはじめ、薄化加工技術を用いたSi特殊加工や加工素材などを掲載...

メーカー・取り扱い企業： 日本エクシード株式会社

D＆X株式会社 会社概要

高品質と短納期を信条に、お客様の多様なニーズを満たすよう事業を展開して…

D＆X株式会社は、2008年4月8日創立、本社は東京にあり、 上海、台湾、ドイツにも支社がございます。 業務内容と致しましては半導体Siウェハと 半導体用テープの研究開発と生産及び販売。 その他半導体Siウェハへの成膜や、ダイシング、 バックグラインディングなどの加工サービスも提供をしております。 【事業内容】 ■半導体消耗品の販売 ※詳しくはPDF資料をご覧いただ...

メーカー・取り扱い企業： D&X株式会社

株式会社トリニティー　半導体向け取扱製品

シリコンウエハーやCZ/FZインゴットなど！半導体向け取扱製品をご紹介…

半導体向けシリコン素材の専門商社のトリニティーでは、 『半導体向け基板』をメインに取り扱っております。 シリコンウエハーをはじめ、大口径/小口径の「シリコンインゴット」や「加工Siウェハー」、ガラスウェハーや化合物ウエハーなど、様々な製品をラインアップしています。 【ラインアップ(抜粋)】 ■パーティクル管理品モニターウェハー ■各種ダミーウェハー ■膜付Siウェハ― ■化合...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社トリニティー

シリコンウェーハ　研磨加工サービス

半導体シリコンウェーハのことなら当社にお任せください

当社では、プライムウェーハ、ダミー／モニターウェーハの加工販売、 および再生加工を行っております。 　 入手困難になりつつある1インチ～3インチSiウェーハも提供可能。 小口径Siウェーハも、お客様のご要望に応じた仕様をご提案いたします。 特殊な厚さや抵抗率なども、お気軽にご相談ください。 【業務内容】 ■シリコンウェーハの再生加工 　・半導体メーカー様より支給された評価...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社松崎製作所

マスクの製作からパターニングまでの一貫製作　「パターニング」

小数枚の加工への対応可。シリコンウエーハ以外の基板投入可能。

6インチのMEMS加工を中心に展開をしておりますが、 8インチ、12インチへの部分的なパターニングの対応も可能です。 基板サイズ、パターン仕様に応じて装置を選定します。 １枚からの対応も可能です。 フォトリソ（アライナ、KｒＦ、ＥＢ）やＷｅｔエッチング、ミリング、ＲＩＥに対応しております。 シリコン以外の基板も対応しますので、お気軽にご相談ください。 その他詳細は、カタログをダウン...

メーカー・取り扱い企業： 大村技研株式会社

SiCウェーハ

SiC、SiCウェーハ、SiCインゴット、炭化ケイ素、silicon …

SiC（炭化ケイ素、シリコンカーバイド）は、ケイ素（シリコン、Si）と炭素（C）で構成される化合物半導体です。SiCはセラミックスの一種であり、非常に優れた機械的特性、化学的安定性、耐熱性などの特徴から、従来は研磨剤などに多く用いられてきました。しかし近年では結晶成長の技術が高まり、Siなどの従来の半導体と比較して効率よく電力を交換でき、さらに発生する熱量も少ないため、シリコンに代わるパワー半導体...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社豊港 半導体材料事業部

面粗さRa1nm【精密研磨/ 鏡面加工】【ラッピング】

◆面粗さ　Ra1nm以下◆

ティ・ディ・シーでは研磨・ポリッシュ・CMPなどの高度技術によって究極の面粗さを実現します。 面粗さRa1 nm以下をほぼ全ての材質で達成可能です！！ ...～対応材質～ 金属：ステンレス、ニッケル、銅、アルミ、モリブデン、チタン、タングステン、タンタル、超硬鋼材全般　など セラミックス：アルミナ、SiC、Si3N4、チタニア、イットリア、PZT、PMN-PT　など 樹脂 ：エンジニアリ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ティ・ディ・シー

3インチ～12インチまで対応可能　「SOIウェーハ」

3インチ～12インチまで少量対応が可能です。 仕様により高抵抗基板・…

CZシリコンを使用したSOI以外にも、基板・デバイス層とも高抵抗FZシリコンを使用したSOIウェーハも対応可能です。 直径：3インチ～12インチ SOI層：2－200um程度（抵抗1万Ω以上など高抵抗対応可能） SiO2(酸化膜）層：0.5－2um程度(0.1-10umも対応可能） 支持基板：300-725um程度（直径によりますが抵抗1万Ω以上など高抵抗対応可能） ＊仕様によります...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エナテック 東京本社

SOIとSilicon Silicon 貼付けウエハー

半導体製作にご提案：ICやMEMS応用、従来の厚エピや反転エピなどから…

アイスモスでは100mm, 125mm, 150mm,200mmのSilicon-SiliconおよびSOIウエハーの在庫があります。下記WEBSITE https://jp.icemostech.com/inventory.html において現在出荷可能なウエハーが確認できます。 フルスペックの確認をするには、青色のダウンロードマークを...

メーカー・取り扱い企業： アイスモス・テクノロジー・ジャパン株式会社

量子ドットレーザー

温度による出力変動が小さい特長を持っており、様々な分野への展開が可能！…

当製品は、GaAs基板を使った『量子ドットレーザー』です。 温度による出力変動が小さい特長を持っており、様々な分野への展開が可能。 また、MBE装置を使った化合物半導体ウエハや量子ドットウエハの作製を 承ります。カスタム製造も承りますので、ご相談ください。 【ウエハ製作概要】 ■ウエハ径：2インチ ■使用可能元素：Ga、In、Al、As、Sb、Si（n型ドーパンド）、Be（...

メーカー・取り扱い企業： YITOAマイクロテクノロジー株式会社

Semiconductor MEMS プロセスサービス／基板材料

装置・専門技術者・オペレータ不要！プロセスサービス外注対応

日本機能材料株式会社では、欧米を中心とした、プロセス会社＋基板材料会社の世界的な連合との間の適切な橋渡しをしております。 「エピ成長」「酸化」「装着・スパッター」「ウェーハ研磨」「レーザー加工」「その他プロセス」などのプロセスサービス及び「FZウェーハ」「CZウェーハ」「SOIウェーハ」「SOSウェーハ」「その他ウェーハ」などのウェーハ基板を提供いたします。 【特長】 ○装置不要 ○専...

メーカー・取り扱い企業： 日本機能材料株式会社

高アスペクト構造　トレンチパターンウェハ 『PT063』

深堀エッチング技術で高アスペクトトレンチパターンウェハを実現

当社は先端の半導体技術によるテストウエハで、お客様の技術・製品開発を強力に支援しております。 （ベアSiウエハ/ 膜付ウエハ/パターンウエハ) トレンチパターンパターンウェハ『PT063』は、ボッシュプロセスによる深堀エッチング技術により高アスペクト構造を実現しております。 当社の標準レイアウトで、マスク寸法0.2µm~10µmのトレンチパターンを配置しており、最大アスペクト比は40~6...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社フィルテック　 本社

プラズマＣＶＤ成膜

ガスを化学反応させることで緻密な薄膜を形成！低温加工も可能です。

プラズマＣＶＤ法は、膜としたい元素を含むガスを、プラズマにより励起や分解をさせて、 基板表面で吸着、反応等を経て膜を形成する方法です。 プラズマを用いるため熱ＣＶＤに比べて低温での製膜が可能です。 また、イオンプレーティング法、真空蒸着法、スパッタリング法と比べて凹凸への付きまわりがよいのも特徴です。 弊社では、イオンプレーティング法、真空蒸着法に加え、 プラズマＣＶＤ法によるコ...

メーカー・取り扱い企業： 東邦化研株式会社

スパッタリング成膜

高エネルギーを利用して材料そのものを叩き出す、再現性に優れた成膜技術！

スパッタリング法は、プラズマ等により高いエネルギーをもった粒子（アルゴン）を成膜材料（ターゲット）に衝突させ、 その衝撃で材料成分をたたき出し、ガラスやシリコンウエハーなどの基板上に堆積させることで、薄膜を形成する方法です。 弊社では、イオンプレーティング法、真空蒸着法に加え、 スパッタリング法によるコーティングサービスも行っております。 現在、スパッタリング法での対応膜種は、Ti...

メーカー・取り扱い企業： 東邦化研株式会社

ウェハへのめっき

1個の試作から量産まで対応！各種ウェハへのめっき承ります！

回路基板・シリコンウェハ等に使用される酸性系の銅めっきです。(光沢剤使用) ■めっき可能ウェハ素材：GaAs、Si等 ■めっき可能電極素材：シード層がCu、Au等 ■量産可能ウェハサイズ：3インチ、4インチ ■量産可能キャパ：1,000枚/月 ■試作ウェハサイズ：3、4、8インチ ■めっき種：電化銅めっき、電解･無電解ニッケルめっき、電解･無電解金めっき、電解･無電解パラジウムめっ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三ツ矢

イオン注入でお困りの方必見！注入受託サービス

半導体から医療まで様々な製品への注入が可能！ Si,SiC,GaN等…

弊社のイオン注入サービスは装置を多数所有しているため、多種多様なニーズにお応えすることが可能です。 【特徴】 ・約60種の多様なイオン種に対応 ・小片から300mm（12インチ）まで幅広いサイズに対応 ・半導体はもちろん有機物などへの対応も可能 ・室温~600℃までの高温注入へ対応 【その他】 ・イオン注入のシュミュレーションにも対応しております。 ・高温アニール含めイオン...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イオンテクノセンター

【株式会社トリニティー】SiCウエハー

次世代パワー半導体　SiCウエハー

【次世代パワー半導体】 SiCウエハは従来のSiウエハより電力損失や熱の発生が少ない為、近年ではパワー半導体としての需要がますます高まっています。 大きな電圧、電流にも耐えられるため、EV自動車への搭載 や鉄道車両、冷蔵庫やLED電球等の身近なところにも活用されています。 【トリニティーでは】 トリニティーではSiCウエハを扱っております。複数メーカーから調達が可能でございます。また...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社トリニティー

日本機能材料株式会社　会社案内

日本機能材料株式会社は、SiGeのエピタキシャル成長膜を提供します。

日本機能材料株式会社は、米国のローレンス半導体研究所(Lawrence Semiconductor Research Laboratory, inc.　略称LSRL) にエピタキシャル成長を依頼します。 日本機能材料株式会社はお客様とLSRLとの間の適切な橋渡しをします。 LSRLとの密接なやりとりにより仕様を纏めます。 IV族に関するどのようなエピでもまずご相談ください。 ご質問も遠慮な...

メーカー・取り扱い企業： 日本機能材料株式会社

MEMSファンドリーサービス (ウエハ受託加工サービス）

３次元実装サービス（TSV技術等による実装サービス）

MEMSの部分工程請負、全体開発試作から量産ファンダリまで幅広く対応します。 ２インチや異型の基板から12インチ(300mm)のMEMSラインのネットワークによりあらゆるご要望に対応。 １枚からの露光、エッチング受託加工、成膜サービス等もお気軽にご相談ください。 本格的なMEMS専用ラインでのファンドリーサービスです。 【サービス一覧】 ・PZT成膜サービス 　スパッタ法で４，...

メーカー・取り扱い企業： 日本MEMS株式会社

【パターンウェハ】CD 50nm STI Pattern

200mm 300mm にて対応可能！　対応膜種はご希望によりご相談く…

アドバンスマテリアルズテクノロジーでは、 テスト用ウェハの中でも特に、成膜・CMP・洗浄・エッチング・TSVの 研究開発に必要な先端の技術を盛り込んだウェハを供給しています。 画像は、HDP、SiN on Si の例になります。 200mm 300mm にて対応可能です。 ※MITマスク使用 対応膜種はご希望によりご相談ください。 ※詳しくはカタログダウンロード、もしくは...

メーカー・取り扱い企業： アドバンスマテリアルズテクノロジー株式会社

ポリシリコン

ポリシリコン、多結晶シリコン

ポリシリコンはシリコン結晶の集合体です...一般名称：ポリシリコン、多結晶シリコン 化学式：Si グレード ： Nugget S-Nugget Cut-Rod 用途 ：半導体用シリコンウエハー...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社豊港 半導体材料事業部

成膜Ｓｉウェハー

成膜Ｓｉウェハー

半導体向けテストウェーハ販売、熱酸化膜付きシリコンウェーハなど膜付きウェーハを小径から対応致します。...半導体向けテストウェーハ販売、熱酸化膜付きシリコンウェーハなど膜付きウェーハを小径から対応致します。...

メーカー・取り扱い企業： ＩＭＰＥＸ株式会社