ハーメチックコネクタ

PR高真空で使用できる ハーメチックコネクタです！

D-Sub・USB・LAN・HDMI・BNC/SMA/SHV同軸等、各種端子を取り付けたハーメチックコネクタです。オーダーメイドにも対応いたします。 ■高強度・ローアウトガスのエポキシ樹脂で密封し、気密性を保ちます。 ■中高真空～加圧環境で使用できます。 ■D-Subタイプや同軸タイプ、LAN・USB・HDMI・同軸コネクタタイプは標準品でご用意しています。 ■ご希望のケーブル、ハウジ...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社テクサム

ケーブルベヤ 小形ROBOTRAX 【面ファスナー仕様追加】

PR新登場の"ブラケットホルダ"により、曲面のアームに…

『ROBOTRAX TKRB14H10』は、小形ロボットの ケーブル保護に好適なミニサイズのケーブルベヤです。 新たに追加した"ブラケットホルダ"は、面ファスナー仕様かつ様々な形状・サイズに沿うデザインです。 そのため曲面にもカンタンに固定できます。 サイズダウンしつつも、ケーブルの保護効果やカスタマーフレンドリな 設計といった基本性能をそのままに踏襲。 従来品のラインアップでは大きすぎて取...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社椿本チエイン　パワートランスミッション事業部門

スパッタリング装置『MiniLab-026』

小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

最大4源） ◉ 有機蒸着ソース：1cc or 5cc ◉ Φ2inchマグネトロンカソード（最大3源） ◉ ドライエッチング ◉ グローブボックス搭載可能（オプション 要仕様協議） ◉ その他オプション： 2源同時成膜、HiPIMS、自動薄膜コントローラ、特注基板ホルダ、基板回転/昇降、基板加熱などオプション豊富。 ※ まずはご要求の仕様をご連絡下さい、ご要望に合わせシステム構...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

【ホットステージ】超高温基板加熱ステージ Max1800℃

超高温基板加熱ステージに、基板昇降・回転、RF/DC基板バイアスの全て…

◉ 超高真空・不活性ガス雰囲気中・その他各種プロセスガス雰囲気に対応 ◉ ステージ上下昇降（基板又はヒーター昇降、基板&ヒータ二段昇降式） ◉ 基板回転 ◉ RF(1KW)/DC(800V)バイアス印加（逆スパッタ） ◉ 使用環...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

スパッタリング装置『MiniLab（ミニラボ）シリーズ』

モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

Box option -TE/LTE/EB/SP/Etch/：MaxΦ10inch ・125（125Litter）-TE/LTE/EB/SP/Etch/CVD：MaxΦ12inch ※ その他仕様は当社ホームページ参照下さい。...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

スパッタ装置

スパッタ装置

ッション構造における透明導電膜の形成、封止膜の形成に最適です。 有機太陽電池や有機半導体などの有機デバイス、電子部品、樹脂フィルム等の様々な分野において、 最適なプロセスを提供しています。 その他、平行平板方式、円筒方式のスパッタ装置も提供しています。 ...

メーカー・取り扱い企業： 長州産業株式会社

高機能繊維シート織物【熱・スパッタ・火の粉よけ・間仕切り】

高機能織物を使用してスパッタ、火、熱を防ぎ、飛散防止用途にも！

熱せいのあるものでカバーしたい・・・。 是非弊社にご相談ください。 オリジナルでご指定の寸法に、生地を巾なりにカットしての販売や、カットした端末を縫製処理しての販売いたします。 その他、 カーテン形状や、ご希望の形状にオリジナル縫製加工も可能です！ まずは、弊社までお気軽にお問い合わせください！ ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テイアイテイ 柏営業所

スパッタリング装置FHR.Star100-Tetra-Co

FHR Star.100-Tetra CoはMEMSや高機能光学製品向…

2.1 m 重量(ロードロック付の場合) ：1,700 - 2,000 kg 最大基板サイズ： 直径150 mm 最大基板キャリア：直径220 mm 対応プロセスガス: アルゴン、酸素、 その他 詳細はお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

仕様多様化真空フランジ-「ICFフランジシリーズ」

高真空及び超高真空に対応可能の真空部品

質は基本的にSUS304ですが、他の材質も製造可能です。 ○許容温度：-200℃～450℃(OFHC Copper) ●規格品を提供可能以外に客先のニーズを応じて特注品を製造も可能なので、その他機能・ボルトの穴数や製品の厚みが規格品と違いの場合、ご相談ください。...

メーカー・取り扱い企業： 日揚科技股份有限公司

多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S060】

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

御：手動/自動多層膜・同時成膜、APC自動制御 ・膜厚モニタ：水晶振動子センサヘッド ・膜厚制御：Inficon社 SQM-160（又はSQC-310） 2ch/4ch薄膜コントローラ  ・その他オプション：基板加熱, 冷却, 基板昇降・回転, プラズマエッチング, ドライポンプ , ロードロック機構...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

ロールtoロール生産ライン速度300m/minでも安定した除塵！

ULT roll to rollウェブクリーナー装置は コンバーティ…

ンのダウンタイム（稼動停止時間）の削減や作業員の効率アップに貢献します。 ＜コンバーティングの技術領域＞ コーティング技術（ウェットコーティング、ドライコーティング〔蒸着、スパッタリング、その他〕） ラミネーティング技術、粘着加工技術、プリンティング技術、仕上加工（スリッティング、カッティング、抜き加工、制袋）、 表面加飾、表面処理技術、塗液製造・分散技術、製膜・成膜技術、ウェブハン...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヤンゴージャパン

スパッタリング装置『MiniLab-060』

蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…

御：Inficon社 SQM-160（又はSQC-310） 2ch/4ch薄膜コントローラ ・ユーティリティ：電源200V ３相 15A, 水冷3ℓ/min, N2ベント0.1Mkpa ・その他オプション：基板加熱, 冷却, 基板昇降・回転, プラズマエッチング, ドライポンプ , ロードロック機構...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

真空蒸着装置『MiniLab-090』（グローブボックス用）

グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…

御：Inficon社 SQM-160（又はSQC-310） 2ch/4ch薄膜コントローラ  ・ユーティリティ：電源200V ３相 15A, 水冷3ℓ/min, N2ベント0.1Mkpa  ・その他オプション：基板回転/昇降, プラズマエッチング, ドライポンプ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

スパッタリング成膜

高エネルギーを利用して材料そのものを叩き出す、再現性に優れた成膜技術！

スパッタリング法は、プラズマ等により高いエネルギーをもった粒子（アルゴン）を成膜材料（ターゲット）に衝突させ、 その衝撃で材料成分をたたき出し、ガラスやシリコンウエハーなどの基板上に堆積させることで、薄膜を形成する方法です。 弊社では、イオンプレーティング法、真空蒸着法に加え、 スパッタリング法によるコーティングサービスも行っております。 現在、スパッタリング法での対応膜種は、Ti...

メーカー・取り扱い企業： 東邦化研株式会社

簡易実験用スパッタリング装置

手動バッチ型と簡易ロードロック型の2機種　簡易ロードロックタイプで化合…

【その他の特長】 ■バッチタイプ ・全手動化し低コスト化 ・小型基板での少量生産に充分なプロセス性能を実現 ・ハードの信頼性と膜質の安定性を実現 ■簡易ロードロックタイプ ・手動搬送機構を装備...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

標準バッチタイプスパッタリング装置（ＳＲＶシリーズ）

多機能・コンパクト・フレキシブル対応、実績と信頼の標準型ラインナップ

、ダウン）も目的に合わせて選択可能でチャンバサイズに合わせて標準型以外の大型カソードも搭載できます。 カソードも膜種に合わせて強磁性体用、コンベンショナルタイプなどの各タイプが選択できます。 その他機構も高温加熱、基板冷却（水冷）、多元同時スパッタなど多くのオプションにより幅広い用途に対応いたします。...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

実験用スパッタ装置

簡易でありながらφ3インチターゲットのマグネトロンカソードと200L/…

拡張性 ●　基板回転機構の追加（後からの追加が可能） ●　基板加熱機構の追加（後からの追加が可能） ●　スパッタソースの多元化(チェンバー作製時に対応型にする必要があります）。 ●　その他お客様のご希望によるカスタム設計には出来る限り対応いたします。 　...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヤシマ

スパッタ・蒸着源複合型 薄膜装置 【nanoPVD-ST15A】

真空蒸着（金属・有機蒸着源）、スパッタリングカソードの混在設置が可能な…

Windows PCリモート監視ソフトウエア ◆オプション◆ ・基板加熱ヒーター Max500℃ ・ドライスクロールポンプ ◆ユーティリティ◆ ・電源：AC200V 単相 50/60HZ 15A ・プロセスガス：0.2Mpa ・ベントガス：0.04Mpa ・圧縮空気：0.6Mpa ・冷却水：2L/min 0.2Mpa ◆主なアプリケーション◆ ・新素材開発 ・燃料電池 ・その他

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

L/S 2μm対応『室温スパッタ装置』

半導体、プリント基板、表面処理に！高い密着力を実現する室温スパッタ装置

【その他取扱商品】 [生産機器] ○投影露光装置（LED光源搭載） ○塗布装置/印刷装置 ○ケミカル処理装置（アンポックファーイースト社製） ○高精度ルーター機（ターリーテクノロジー社製） ○...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サーマプレシジョン

多層膜スパッタリング装置『S600』

ヒーターステージ(1000℃)搭載！開発工程～量産工程まで様々な用途へ…

【その他の特長】 ■ダブルロードロック室で高生産性を実現 ■ロータリタイプとマルチチャンバタイプを融合した搬送形態で 　多様なプロセスへの対応と高スループットを両立 ■各ポジションに様々なユニット...

メーカー・取り扱い企業： パナソニック プロダクションエンジニアリング株式会社

ロードロックタイプスパッタリング装置（枚葉搬送タイプ）デモ対応中

ディスクリート素子から先端デバイスまで、Ｒ＆Ｄに量産に。コンパクト、ハ…

。 次世代デバイスの開発（強誘電体膜開発、配向性窒化膜形成）に実績のソフト＆ハード ＵＶ－ＬＥＤ用テンプレート用ＡｌＮ膜、センサー用酸化膜、高均一性電極膜、薄膜ヒーター、強誘電体（ＰＺＴ）膜、その他多くの実績...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

RFスパッタ装置『SP-3400』

逆スパッタも可能！500Wの高周波電源を1台搭載し、金属・酸化物・絶縁…

【その他の特長】 ■誤作動防止のための安全回路を搭載 ■ターボ分子ポンプによるクリーンな排気により良質な成膜が行える ■冷却水循環装置、小型コンプレッサはオプションで装備可能 ※詳しくはPDF...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サンバック 本社

ロードロック式スパッタリング装置

CVD室、蒸着室、プラズマクリーニング室等の組み合わせも対応可能です！

【その他の特長】 ■トレイ搬送も対応可 ■CVD室、蒸着室、プラズマクリーニング室等の組み合わせも対応可 ■各種オーダーメイドも製作可能 ■デモ機にてサンプル処理を実施 ※詳しくはPDF資料...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

Aera FC-R7700シリーズ　マスフローコントローラ

経済性に優れた高精度ラバーシール

半導体、FPD、データ記憶装置、産業用真空機器、工業用コーティング等の市場では、CVD、PVD、エッチング、イオン注入、スパッタリング、熱酸化膜、光学ガラスコーティング、光ファイバー、表面処理、その他のコーティングプロセスを含め、非腐食性ガスを使用したアプリケーションが展開されています。 FC-R7700シリーズは、高い信頼性と優れた性能でプロセスおよび装置エンジニアの業務の円滑化に対応いた...

メーカー・取り扱い企業： 日立Astemo＆ナガノ株式会社

研究・開発用機器/超高真空機器

信頼性の高いシステムを構築！メンテナンスや改造も当社にお任せください

究機関に提供してまいりました。 2系統のガス導入が可能な「RFマグネトロンスパッタ装置」や 安価で手軽に薄膜作製が可能な「小型真空蒸着装置」など 真空成膜装置を多数ラインアップ。 その他「真空チェンバー」や「ターボ真空排気装置」などの 各種研究用装置もご用意しております。 ご用命の際はお気軽にご相談ください。 【特長】 ＜真空成膜装置＞ ■装置の拡張性を考慮 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヤシマ

多元スパッタリング装置

基板温度900℃を実現！基板ステージに3軸機構を搭載し、均一な膜厚分布…

【その他の特長】 ■基板ステージに3軸機構（昇降、公転、自転）を搭載し、均一な膜厚分布を実現 ■各種オーダーメイドも製作可能 ■デモ機にてサンプル処理を実施 ※詳しくはPDF資料をご覧いただく...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

半導体スパッタリングターゲット製造サービス

半導体スパッタリングターゲット製造のことなら当社へお任せください

スパッタリング装置で使用する ターゲット材の製造を中軸に、半導体製造装置の部品などを製造 しています。 半導体製造装置の需要増加に対応するため、設備の増強をして まいりました。 その他、Ti、CuやMgなど様々な非鉄金属の加工実績があります。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【設備】 ■NC旋盤 ■半NC旋盤 ■複合加工機 ■汎用旋盤 ■マシニング...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社フジメタル

『High-Rate Depo. 圧電膜形成スパッタリング装置』

半導体、MEMS、電子部品等に！単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電…

■当社独自のスパッタカソードを搭載 ■ムービングマグネットにも対応し全面エロージョンが可能 ■トレイ搬送も対応可 ■CVD室、蒸着室、プラズマクリーニング室等の組み合わせも対応可 その他ウェットプロセス装置、真空プロセス装置も取り扱いしておりますので、ご覧ください。 「酸化膜／窒化膜プラズマCVD装置」 ■2周波独立印可方式により、低応力、高硬度、高絶縁性を実現 ■優れた膜...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

【開発者目線を徹底】各種装置のオーダーメイド製造承ります

相談だけでも歓迎！設計から製作、組立まで自社で一貫して対応！各種装置製…

【その他の製作実績】 ■研究開発用バッチ式3元スパッタリング装置 ■研究開発用IBS装置 【取扱製品】 プラズマCVD装置、スパッタリング装置、蒸着装置、 ドライエッチング装置、アッシング装...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

割れない！削らない！低コストな『スパッタリングターゲット』

酸化被膜防止を目的としたプレスパッタリングが必要なく工数削減が可能！熱…

殊な製法により割れを低減させたSiターゲットを供給しております。 現状、割れが多く発生すると言われているSiターゲットですが、 弊社の特殊製法により割れを低減させることが可能です。 その他の各種金属材料や酸化物、合金ターゲットなど お客様のご要望により製造・販売しております。 バッキングプレートを支給して頂き、新たなターゲット材にボンディング加工も致します。 関係会社の中...

メーカー・取り扱い企業： USTRON株式会社

【技術資料無料贈呈！】粉体スパッタリングとは

表面改質から触媒利用まで！成膜事例付きで密着性が高い粉体スパッタ技術を…

【スパッタ(乾式)の特長】 ■前処理や乾燥工程、廃液なし ■真空中のクリーンな環境で処理 ■様々な材料を被膜可能(金属、酸化物、その他化合物) ■密着性が高い ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： エイ・エス・ディ株式会社 技術研究所

真空続き手・製品多様-アダプタシリーズ

製品多様真空部品-アダッブタシリーズ

【特長】 ○製品多様化 ○規格品を提供可能以外に客先のニーズを応じて特製品を提供できます。 ●その他機能・詳細はお問い合わせ頂くか、もしくはカタログご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： 日揚科技股份有限公司