コーティング剤検査装置『Sonar』

PRUVライトを使った2Dコーティング剤検査装置。独自開発AIを使った気泡…

『Sonar』は、弊社が持つ画像処理検査技術とUVライト＋RG照明を組み合わせたコンフォーマルコーティング剤検査装置です。 コーティング領域の全面検査とコーティング不可領域の任意検査に加え、自社開発AI技術を使った気泡検出機能が標準装備されています。また、レーザー変位センサを使った膜厚測定（オプション）を搭載することでワーク毎のコーティング厚のバラつきを記録することが可能になります。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ジュッツジャパン

高性能・高圧 多用途ポンプ 【プラステコ】 L.TEXシリーズ

PR小流量から大流量、水状から高粘度まで、様々な流体の定量送液ならプラステ…

用途によって選べるタイプ！！ ●ポンプ単体（装置組込式）　●制御部一体型 標準で最大40MPaまでの高圧送液に対応するプランジャ－ポンプです。 当社の主力製品である『超臨界不活性ガス定量供給装置』においても多数実績があります。 最大流量は 10mL/min ～ 1000mL/min と幅広く豊富な機種をご用意しておりますので、 研究・実験用途に適した小流量から量産向けの大流量まで、ご使用目的に...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社プラステコ 本社

研究・試作に最適な小型プラズマCVD装置『VC-R400F』

独自のLIA方式プラズマ源を採用し、樹脂フィルムや金属箔に超高速、高品…

実験・研究・評価・試作に好適。LIA方式の誘導結合型プラズマ(LIA-ICP)使用により、高速/高精度/低ダメージ真空成膜を実現。 多点制御により、より細かな均一性を確保。 手動、自動、オプションも多彩です。 【特長】 ■実験・研究・評価・試作に好適 ■高速/高精度/低ダメージ真空成膜を実現 ■LIAの多点制御により、より細かな均一性を確保 ■従来比5倍以上の超高速成膜を実...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社SCREENファインテックソリューションズ

研究・試作に最適な小型プラズマCVD装置『VC-R400G』

独自のLIA方式プラズマ源を採用し、ガラス、金属などの平板基材に超高速…

実験・研究・評価・試作に好適。LIA方式の誘導結合型プラズマ(LIA-ICP)使用により、高速/高精度/低ダメージ真空成膜を実現。 多点制御により、より細かな均一性を確保。 手動、自動、オプションも多彩です。 【特長】 ■実験・研究・評価・試作に好適 ■高速/高精度/低ダメージ真空成膜を実現 ■LIAの多点制御により、より細かな均一性を確保 ■従来比5倍以上の超高速成膜を実...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社SCREENファインテックソリューションズ

常圧CVD装置「AMAX800V」

優れた膜厚・不純物濃度の均一性。高生産性と低価格を実現した常圧CVD装…

より重金属汚染は発生しにくくなり、また熱による経年変化が少なく安定したプロセス性能が得られます。 【特徴】 ○高スループット性 ○優れた成膜特性 ○メンテナンス性 ○金属汚染低減(オプション対応) 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社天谷製作所

小規模生産・開発用常圧CVD(APCVD)装置 (D501)

試作・開発・小ロット生産向け　NSG(SiO2)/BSG/PSG/BP…

mm(D) x 1940mm(H) ●ガス種: SiH4/O2系 (SiH4/PH3/B2H6/O2/N2) 　　　　 TEOS/O3系 (TEOS/TMOP/TEB/O3/O2/N2)(オプション) 　　　　 SiH4/O3系 (SiH4/PH3/B2H6/O3/O2/N2)(オプション) ●成膜温度: 350～430℃（SiH4/O3系 150～300℃) ※詳しくはお問い...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

Agnitron社 MOCVD装置 In-situ温度モニター

Agnitron社で開発されたAgniTemp-MOCVD In-si…

的な温度制御の精度と正確さ (2) メンテナンス後のキャリブレーション時間を短縮 (3) Run to Runの再現性が向上 (4) 様々なアプリケーションに役立つ単波長および二波長反射率オプション 標準波長：930nm, オプション波長：530nm, 1550nm シングル波長、二波長共に対応可能。 (5) 広範囲の温度計測可能（Max 1800℃）...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S060】

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

【主仕様】 ・SUS304 60ℓ容積 400x400x400mm フロントローディングチャンバー *ラージチャンバーオプションMiniLab-070（450 x 450 x 450）有り ・最大基板サイズ：Φ8inch ・ポンプ：ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ（ドライポンプ可） ・真空排気：真空/ベント自動...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

高周波レーザーCVD装置

簡単に試料セットする事が可能！外部ビューポートよりYAGレーザーを入射…

機構付き）があり、 外部ビューポートよりYAGレーザーを入射し成膜ができるCVD装置です。 サンプル導入口はチャンバー側面で、両側開閉可能。 簡単に試料セットする事ができます。 オプションでチャンバー上部にガス供給系（最大5系統）を設置する事も可能です。 【特長】 ■外部ビューポートよりYAGレーザーを入射し成膜ができる ■サンプル導入口はチャンバー側面で、両側開閉可能...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社和泉テック

半導体式マイクロ波電源　5.8GHｚ帯

半導体式マイクロ波電源　5.8GHｚ帯

る加熱より、短時間で実験が可能です。（加熱例：金属粉体 20μ 2g を10秒で20℃→700℃） ラジオのチューニングのように発振周波数（5.7〜6.0GHz　連続可変式）の可変が可能。 オプションとしてパルス巾変調・FM変調・AM変調・発振周波数の掃引・PLL式周波数発生器、出力電力のパターン運転やパソコンとのリンク、試験管、石英管、フッ素チューブ等を用いた減圧、ガス置換などができます。...

メーカー・取り扱い企業： 富士電波工機株式会社 第1機器部

グラフェンCVD成膜装置

炉のスライド移動による急冷機構を搭載

グラェン膜を合成するための管状炉熱CVD装置です 炉のスライド移動機構を搭載、サンプルの急加熱／急冷が可能　　　 オプションで、モータ駆動による自動スライド機能も追加可能　　 オプションで、ターボ排気ポンプの追加により、さらに高品質のグラフェンが成膜可能 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マイクロフェーズ

乾式除害装置(MAKシリーズ)

大気放出できない装置から排出される有害排気ガスを安全に除害処理します。…

イプのバルブを使用し、装置内での 　閉塞が起こりにくい構造となっています。 ・処理剤破過検知のほかに、装置内圧力・処理剤温度等を 　常時モニタリングし、異常発生時に警報を発報します。（一部オプション）...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社巴商会 管理部署：企画営業部

【nanoCVD-8G/8N】グラフェン/CNT合成装置

◉ 大型製造装置設備を使わず、短時間で容易にグラフェン・CNT（SWN…

（ニッケル）箔, SiO2/Si, Al2O3/Si基板，他 ◆Model. nanoCVD-8G（グラフェン用）◆ ・グラフェン生成用，真空プロセス制御 ・ロータリーポンプ標準付属（オプション：TMP, Diffusion or Dry Pump） ・ガス供給3系統（標準） ・試料加熱ステージMax1100℃ ・Kタイプ熱電対 ◆Model. nanoCVD-8N（CNT...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

高性能枚葉式常圧CVD(APCVD)装置 (A200V)

少量・多品種向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　枚葉式…

2300(D) x 2250(H) ●ガス種: SiH4/O2系 (SiH4/PH3/B2H6/O2/N2) 　　　　 TEOS/O3系 (TEOS/TMOP/TEB/O3/O2/N2)(オプション) ●成膜温度: 350～450℃ ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

Agnitron社 研究開発(R&D)～量産用 MOCVD装置

Agnitron社にて独自開発された、高性能、高スループット先端化合物…

Agnitron社のAgilisシリーズは、先端化合物半導体エピ成長を可能にする構成オプションを備えた柔軟なプラットフォームです。研究開発用(R&D用)の小型チャンバではシングル又はデュアルチャンバ構成選択可能、量産機用の大型チャンバではシングルチャンバ構成にて幅広い材料のエピ成長が可能...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

熱触媒式除害装置(TCSシリーズ)

排気ガス中の有害成分を専用触媒により除去します。

CVDプロセスで使用される　NH3（アンモニア）の他 　副生成される可能性が　ある毒性の強いHCN（シアン化水素）にも対応。※1 ● 視認性に優れたデザイン 　集合表示灯及びタッチパネル（オプション）、シグナルタワーによりスピーディーに警報を識別可能。 ● 希釈対応が必要なH2、C2H2も処理可能 　乾式除害では処理できない可燃性ガス（H2、C2H2）も処理可能。H2OとCO2として排...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社巴商会 管理部署：企画営業部

【Nanofurnace】BWS-NANO 熱CVD装置

【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能…

H4, Ar, H2, バブラー用）MFC高精度流量制御：精度±1% F.S. ◉ キャパシタンスマノメータ（バラトロンゲージ）による高精度APC圧力制御 ◉ Lab Viewソフトウエア（オプション）によるリモート制御, データ解析 【主仕様】 ◉ Φ2.5inch（標準）Φ4inch x12inch石英反応管内 ◉ 最高使用温度1100℃ ◉ 試料サイズ：10x10mm, （Φ2...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

真空センサ『730シリーズ』

コンパクトサイズでローコスト。半導体製造ラインなどで活躍。静電容量型

【仕様】 ◎圧力範囲：0～1kPaから0～100kPa ◎精度：±0.5%読み値(±0.25%オプション) ◎補償温度：0～50℃ ◎使用電源：DC12～30V ◎長期安定性：±0.5％FS／年 ◎応答性：20msec ◎過負荷耐圧：300kPa ※詳しくは資料をご覧ください。お問...

メーカー・取り扱い企業： エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社　ST事業部

セトラ社　ウルトラクリーン圧力センサ　モデル２２４シリーズ

特殊ガスのモニターと制御用に開発されたウルトラクリーンセンサ

センサチャンバは３１６Ｌ（ＶＡＲ材）を０．１８Ｒａに電解研磨されおり独自の静電容量センシング技術で高精度で安定した出力信号を供給します。 オプションで多様なチューブ内径と面シール継手が用意されています。 堅牢な構造で配管のねじれ、溶接時の熱衝撃など組み付け時のトラブルを減少させます。 また８５℃までのベーキング処理が可能です。全品ヘリウ...

メーカー・取り扱い企業： エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社　ST事業部

排気配管内Ｎ２ヒーター（コントローラ内蔵型）

配管形状を選ばず、粉体の析出を抑制し配管内の閉塞を局所集中により防止し…

従来のポンプライフを向上させ、装置の安定稼働率を向上させるツールの一つになります。導入も簡単で、既設のＮ２導入口があればそれを活用でき、排気配管の途中に組み込む事も出来ます。某ポンプメーカーでもオプション採用され特定ユーザー向けに指定仕様にもなっていますので効果は必ず出ると思われます。ヒーターの漏電検出機能は内蔵されており漏電ブレーカ等を使わなくても最低限の安全対策は施されております。窒素流量は...

メーカー・取り扱い企業： エヴァンリード株式会社

枚葉式常圧CVD装置『A200V』

装置サイズを可能な限りコンパクト化！安定した成膜処理と低パーティクルを…

フェイスダウン式成膜方法の採用により優れた膜厚均一性、パーティクル 制御、埋め込み性能を発揮し、SiH4をベースとしたシリコン酸化膜を成膜。 また、TEOS-O3、SiH4-O3もオプション対応が可能な装置です。 【特長】 ■フェイスダウンポジション ■コンパクトな装置デザイン・構成 ■メンテナンス性と高い生産性の両立 ■優れた膜厚均一性と埋め込み性 ■オペレーター...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社天谷製作所

立体物対応実験用プラズマCVD装置

対応可能膜種はDLC、アモルファスSiC等！基板加熱機構付き（最高設定…

【仕様（抜粋）】 ■チャンバー材質：ステンレス製 ■到達真空度：1Pa以下 ■真空ポンプ：ロータリーポンプ＋メカニカルブースターポンプ ■排気圧力コントロール：手動（オプションで自動可） ■成膜対象物：最大Φ100mm×500mm ■高周波出力：最大1kW ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社DINOVAC

クラスター装置『Morpher』

デバイス量産へ、優れたプロセス品質、信頼性、高スループットを提供！

の1σ不均一性（Al2O3、WIW、WTW、B2B、49 pts、5mm EE） ＜基板ローディング＞ 〇真空クラスタツールによる完全自動ロード 〇カセットからバッチへのローディング 〇オプションSMIFステーション ＜主なソフトウェア機能＞ 〇レシピエディター：プロセスの実行中にレシピの作成と変更が可能 〇1つの通信プロトコル（Ethercat）でクラスタ全体を制御 〇マルチタ...

メーカー・取り扱い企業： PICOSUN JAPAN株式会社

SiO2厚膜形成用プラズマCVD装置

厚膜形成用プラズマCVD装置。高速かつ低ストレス（特許出願中）

● 液体ソースのTEOSを用いるLS-CVD法によりステップカバレージと埋め込み効果に優れた成膜が可能。 ● Ge、P、Bの液体ソースを用いて屈折率の任意の制御が可能。標準1系列に加え、オプションでさらに2系列のドーパント導入系の追加が可能。...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

ICPECVD『SI 500 D』

ICPパワーによるイオン密度の制御！低温成膜、低ダメージ、高コンフォマ…

3]の高いプラズマ密度により 低温成膜、低ダメージ、高コンフォマリティーを実現 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 【特長】 ■ICPパワーによるイオン密度の制御 ■オプションのバイアスパワーによるイオンエネルギーの制御 ■リアクター圧力、分離されたガス供給ラインとICPソースと基板電極間の 　間隔調整によるプロセスの最適化 ※詳しくはPDF資料をご覧いただ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

Agnitron社 中古再生MOCVD装置

完全に再生(リファブ)され、アップグレードされたレガシーMOCVD装置…

グだけに留まらず、装置の過去使用履歴が将来の性能にどのように影響を与えるか、部品の再利用可否、交換する適切な時期を把握していますので安心して装置を購入、使用して頂けます。 (1) 標準及びオプションのアップグレードにより新たな機能追加可能。 (2) 部品、サービス提供体制。 (3) 様々なお客様の要求に柔軟に対応。 (4) オプションによりエピ検収保証可能。...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

スパッタリング装置 多機能スパッタ装置MiniLab-S060A

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

【主仕様】 ・SUS304 60ℓ容積 400x400x400mm フロントローディングチャンバー *ラージチャンバーオプションMiniLab-070（450 x 450 x 450）有り ・最大基板サイズ：Φ8inch ・ポンプ：ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ（ドライポンプ可） ・真空排気：真空/ベント自動...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

トランスファーロッド（Ｚ-φ軸　KTXシリーズ）

【 4000台販売突破キャンペーン実施中 】 弊社トランスファーロッ…

び回転運度を要する機器への応用が可能です。 本体の内部には、電界研磨処理を施し超高真空領域まで使用可能です。 駆動部のストッパーを使用することで、任意の距離・角度での位置決めが可能です。 オプションとして、回転止め機構や延長ハンドルを取り付けることが可能です。 また、腐食性ガス対応の仕様もございますので、ご相談下さい。 ＜3機種共通仕様＞ 許容リーク量：≦1.33×10-11Pa...

メーカー・取り扱い企業： 北野精機株式会社

手動陽極酸化装置

従来の陽極酸化装置をさらに応用したポーラスシリコン形成装置。使用薬液・…

【特長】 ■用途に合わせたカスタマイズが可能で研究開発等に適しています。 ■オプションにより薬液供給・回収機能、濃度計等選択出来ます。 ■陽極酸化治具は各種サイズに応じてご提案致します。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ダルトン