• 防犯カメラで複数拠点を楽々管理!導入成功事例をご覧ください! 製品画像

    防犯カメラで複数拠点を楽々管理!導入成功事例をご覧ください!

    PR複数拠点あるあるを一括解決!手元のスマートフォンやパソコンでどこからで…

    【導入企業成功事例進呈中!詳細は資料をご覧ください】 『キヅクモ』は、ユーザーにいつでもどこでもスマートな気づきを提供する 中小規模の店舗や施設向けのネットワークカメラサービスです。 スマートフォン、タブレットなどお手持ちのデバイスにて現場の状況を リアルタイムに確認可能。 複数拠点にカメラを導入すれば、各拠点の様子を1つの管理画面で確認でき、 臨店の手間、時間、工数を削減できます。 小売店...

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    • FireShot Capture 098 - 複数拠点・遠方拠点の管理にお悩みの方 - いつでも・どこでも拠点を一括管理するネットワークカメラ「キヅクモ」 - kizukumo.com.png

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ラネット

  • GMP仕様対応可能 解砕・分散分級が実現! 『FSハイシフター』 製品画像

    GMP仕様対応可能 解砕・分散分級が実現! 『FSハイシフター』

    PR驚異の縦振幅を実現し、解砕・分散分級!超音波発生装置が不要で、微粉・油…

    「粉体が目詰まりしてしまう...」「振動で解砕も同時にできれば目詰まりしないのに...」「超音波発生装置は高いし...」こんなお困りごとはございませんか? 『FSハイシフター』は波動運動によりスクリーン上の材料が激しく跳ね上げられスクリーンに衝突、材料の凝集は解砕・分散され分級効果が増大します ナイロン網による分級の為、ランニングコストが低減! 網たたきも不要な事からコンタミのリスクを低...

    メーカー・取り扱い企業: 日東機器ファインテック株式会社

  • スパッタリング装置『MiniLab-026』 製品画像

    スパッタリング装置『MiniLab-026』

    小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

    x4)に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、プラズマエッチングも製作可能。 グローブボックス収納タイプもございます(*要仕様協議)。 フレキシブルにカスタマイズが可能な豊富なオプション部品を揃えております。 ◉ 最大基板サイズ:Φ6inch ◉ 抵抗加熱蒸着源フィラメント、ルツボ、ボート式(最大4源) ◉ 有機蒸着ソース:1cc or 5cc ◉ Φ2inchマグネト...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • TMPタイプ 真空蒸着装置 製品画像

    TMPタイプ 真空蒸着装置

    簡単操作のTMP排気システム採用!拡張性に優れたテーブルトップ型真空蒸…

    こだわった装置です。 排気装置「SVC-700TMSG」と蒸着電源「SVC-7PS80」から構成されています。 シンプルかつイージーオペレーションで、将来の機能拡張までをも考慮しています 豊富なオプションにより、薄膜作製実験の幅が拡がります。 また、専用オプションにより、有機物の薄膜作製実験にも対応。 グローブボックス内設置に関するご相談も承ります(実績多数)。 【特長】 ○コンパクトサイズ ...

    メーカー・取り扱い企業: サンユー電子株式会社

  • BS series 研究開発用 電子ビーム蒸着装置 製品画像

    BS series 研究開発用 電子ビーム蒸着装置

    用途や目的に応じて任意にカスタマイズ可能な真空蒸着装置

    日本電子株式会社 BS series 研究開発用 電子ビーム蒸着装置は、研究開発や少量生産に適した蒸着装置です。 様々なオプション機器が搭載可能で、チャンバー形状やロードロック等、ご要望に合わせて制作します。 〇特長 ・蒸着源は、電子ビーム蒸着源(電子銃)、ボンバード蒸着源、抵抗加熱蒸着源を選択でき、任意に組み合わせて複...

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    メーカー・取り扱い企業: アズサイエンス株式会社 松本本社

  • 多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S060】 製品画像

    多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S060】

    コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

    【主仕様】 ・SUS304 60ℓ容積 400x400x400mm フロントローディングチャンバー *ラージチャンバーオプションMiniLab-070(450 x 450 x 450)有り ・最大基板サイズ:Φ8inch ・ポンプ:ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ(ドライポンプ可) ・真空排気:真空/ベント自動...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • スパッタリング装置『MiniLab-060』 製品画像

    スパッタリング装置『MiniLab-060』

    蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…

    【主仕様】 ・SUS304 60ℓ容積 400x400x400mm フロントローディングチャンバー *ラージチャンバーオプションMiniLab-070(450 x 450 x 450) ・ポンプ:ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ(ドライポンプも可) ・最大基板サイズ:Φ8inch ・真空排気:真空/ベント自動制...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 研究開発用真空蒸着装置 製品画像

    研究開発用真空蒸着装置

    目的・コストに合わせて柔軟に対応!大学・公的研究機関や基礎実験用に。

    種(前扉型・簡易実験型)とも目的・コストに合わせて柔軟な 仕様対応が可能。デモ機を常設し、サンプルテスト対応いたします。 【特長】 ■実績豊富なハードと柔軟なコスト対応 ■目的に合わせた豊富なオプション機構(高温加熱・基板冷却・多元同時蒸着・  有機物用蒸発源 リフトオフプロセス対応) ■プラズマ電極・RFコイルなどのイオン化機構・プラズマ電極追加対応 ■サンプルテストからハードのカスタマイズ...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • LUXEL社製 抵抗加熱蒸着源(エバポレータ) RADAK 製品画像

    LUXEL社製 抵抗加熱蒸着源(エバポレータ) RADAK

    有機物蒸着にも対応。 コンパクトで取扱いが簡単な、抵抗加熱蒸着源

    0年以上にわたり提供している製品です。独自のデザインと技術に基づいた本製品は、汎用性があり、操作性に優れている上に、幅広い材料の蒸着にお使い頂けます。 ルツボの材質、ライナー、熱電対、その他のオプションを適切に選択し、組み合わせることで、有機薄膜デバイス(OLED)、薄膜電池、太陽電池など、さまざまな用途への対応が可能です。 蒸着、成膜を伴う実験を行われている方には特にお薦めです。...

    メーカー・取り扱い企業: ラドデバイス株式会社

  • 超高真空対応小型電子ビーム蒸着源 「KME-70」 製品画像

    超高真空対応小型電子ビーム蒸着源 「KME-70」

    シンプルな設計となっており、研究開発用途におすすめな製品です。

    調整距離 25mm ○ベーキング温度 200℃ ○シャッター駆動 回転(手動) ○T-S間距離 150mm(標準) ○参考蒸着レート 0.5Å/s          溶融材料用ルツボ(オプション) ○試料 フィラメント印加電源(オプション)     イオン電流測定用電流計(オプション) ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...

    メーカー・取り扱い企業: 北野精機株式会社

  • スパッタ・蒸着源複合型 薄膜装置 【nanoPVD-ST15A】 製品画像

    スパッタ・蒸着源複合型 薄膜装置 【nanoPVD-ST15A】

    真空蒸着(金属・有機蒸着源)、スパッタリングカソードの混在設置が可能な…

    ができます。 ガス系統最大3系統(プロセス圧力APC自動制御)、連続自動製膜(最大20層)、2源同時成膜など豊富な機能を備え、更に基板加熱ヒーター(500℃)、ドライスクロールポンプなど豊富なオプションも用意。 真空引き・成膜制御・ベント、レシピ作成、更に故障解析、ログ等全て前面の7"タッチパネルで操作、操作の一元管理が可能です。 IntelliLinkソフトウエア付属:Windows P...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 高真空蒸着装置『RD-1230』 製品画像

    高真空蒸着装置『RD-1230』

    サイリスタ制御により蒸着電圧及び、電流値の調整が可能!排気操作は全自動…

    。 抵抗加熱機構を2対装備しており、サイリスタ制御により蒸着電圧及び、 電流値の調整が可能です。 排気系はターボ分子ポンプによる排気で、排気操作は全自動。 水晶振動式膜厚計もオプションで付けることができ、卓上型タイプとしては 高性能な成膜制御が可能です。 【特長】 ■ロブスカイト太陽電池電極作成用小型蒸着装置 ■抵抗加熱機構を2対装備、サイリスタ制御により蒸着電圧...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社サンバック 本社

  • 高真空蒸着装置『KW-030D』 製品画像

    高真空蒸着装置『KW-030D』

    水晶振動式膜厚モニター搭載!コンパクト設計でクリーンな成膜が可能

    機構も搭載し、2軸の回転角度を調節することにより 斜め蒸着ができます。 【特長】 ■初心者でも容易に作業可能 ■ターボ分子ポンプ搭載 ■基板傾斜機構搭載 ■蒸発源は抵抗加熱3基、オプションでEB加熱に対応 ■水晶振動式膜厚モニター搭載 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社片桐エンジニアリング

  • カーボンコーター SC-701CT 製品画像

    カーボンコーター SC-701CT

    個人差のないカーボン蒸着が可能に! EPMA・分析SEMの前処理用とし…

    着法を採用 → 個人差のないカーボン蒸着を実現 〇蒸着作業時毎にカーボン棒を削る手間を省く 〇ロータリーポンプのみによる排気(低真空)のため、試料表面へのカーボン粒子の回り込みに優れる 〇オプションのマグネトロンスパッタユニット(SC-MC)を取り付けることにより、金属のスパッタコーターとして使用することができます。 ...

    メーカー・取り扱い企業: サンユー電子株式会社

  • スパッタリング装置『MiniLab(ミニラボ)シリーズ』 製品画像

    スパッタリング装置『MiniLab(ミニラボ)シリーズ』

    モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

    【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント(成膜ソース、ステージなど)、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築する...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 【MiniLab-026/090】グローブボックス薄膜実験装置 製品画像

    【MiniLab-026/090】グローブボックス薄膜実験装置

    小型・省スペース! 有機薄膜開発に好適 蒸着・スパッタ・アニール等全て…

    4源) ・Φ2"マグネトロンカソード(最大3基) ・プラズマエッチング ・基板加熱ステージなどを搭載 ◉ 高精度膜厚制御 ◉ ターボ分子ポンプ+ロータリーポンプ(ドライスクロールポンプオプション) ◉ その他豊富なオプション *その他の詳細仕様は当社へお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 小型真空蒸着装置『HVE-100』【クリーンな成膜を実現!】 製品画像

    小型真空蒸着装置『HVE-100』【クリーンな成膜を実現!】

    クリーンな成膜が可能な小型真空蒸着装置!シャッタを具備しているので安定…

    制工具不要で蒸着ボートの交換作業容易 ・ボート以外にフィラメントの装着も可能 ■基板保持機構 ・Φ70の試料ステージは上蓋をハッチ式のチャンバ上蓋に設置してある為、試料交換作業が容易 ・オプションで加熱/冷却機構の実装可能 ■蒸着シャッタ ・手動式直線型シャッター機構により任意の安定した電流値で成膜のスタート/ストップ制御が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイブリッジ 東京営業所

  • ◆nanoPVD-T15A◆ 高性能 有機膜・金属膜蒸着装置 製品画像

    ◆nanoPVD-T15A◆ 高性能 有機膜・金属膜蒸着装置

    限られたラボスペースを有効活用できる小型ベンチトップサイズ装置に、最新…

    LTE x 最大4基(抵抗加熱TEと混在の場合、2基まで) ◉7"タッチパネル ◉連続成膜 ・成膜プログラム自動制御 ・30種類のレシピ登録 ・高精度ワイドレンジ真空ゲージ ◉豊富なオプション ・基板回転 ・上下昇降 300mmストローク ・基板シャッター ・ドライポンプ(RP標準) ・USBでWindows PCに接続、ログの保存管理...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 真空蒸着装置『MiniLab-090』(グローブボックス用) 製品画像

    真空蒸着装置『MiniLab-090』(グローブボックス用)

    グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…

    ficon社 SQM-160(又はSQC-310) 2ch/4ch薄膜コントローラ  ・ユーティリティ:電源200V 3相 15A, 水冷3ℓ/min, N2ベント0.1Mkpa  ・その他オプション:基板回転/昇降, プラズマエッチング, ドライポンプ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 簡易実験用蒸着装置(EM-645型) 製品画像

    簡易実験用蒸着装置(EM-645型)

    シンプル コンパクト 高機能 実験、基礎研究に最適 ユーザーニーズに応…

    標準2元の抵抗加熱蒸発源を装備した全手動型蒸着装置。 Φ2~3インチウェハから特殊基板まで柔軟に対応。 蒸発源追加、同時蒸着、基板冷却・高温加熱機構等豊富なオプション 社内デモ機にてサンプルテスト対応...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • 【MiniLab-SA125A】 多元マルチスパッタ装置 製品画像

    【MiniLab-SA125A】 多元マルチスパッタ装置

    高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ(Φ4inch用)…

    源, パルスDC電源を独自の'プラズマ・スイッチング・リレー'モジュールでマルチカソードに自在に配置を組み合えることが可能、様々な用途に柔軟に対応 高温基板加熱ステージ(二重ジャケット水冷式)オプション -1) Max600℃(ランプ加熱) -2) Max1000℃(C/Cコンポジット) -3) Max1000℃(SICコーティング) ロードロック内逆スパッタステージ -1) 300...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】 製品画像

    スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】

    スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置 コンパクトフレームに…

    標準) + N2, O2 最大3系統まで増設 ◉ USB端子付 Windows PCに接続し、最大1000layer, 50filmのレシピを作成・保存。PCでデータロギング ◉ 他、多彩なオプションを用意 ◉ 7"タッチパネル簡単操作 PLC自動プロセスコントロール...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 化合物半導体用蒸着装置(AAMF-C1650SPB型) 製品画像

    化合物半導体用蒸着装置(AAMF-C1650SPB型)

    先端光デバイスに最適な専用蒸着装置。低温・低ダメージ成膜で平滑な膜表面…

    自公転ドームの切替使用が可能。 基板加熱ヒーターを標準装備しており、成膜前の基板のべ―クと共に幅広い用タッチパネルによる全自動操作とデータロギングを標準装備し安定した稼動を実現しています。 オプション類も豊富で基板水冷機構・高温加熱機構・同時蒸着機構・ロードロック機構など実績機構より目的に合わせて選択可能 ...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • リフトオフプロセス対応真空蒸着装置 製品画像

    リフトオフプロセス対応真空蒸着装置

    高周波・通信デバイスに多用されるリフトプロセスに対応した専用蒸着装置で…

    への入射角の垂直性(90°±3°at6インチウェハ) ■基板水冷機構による低温蒸着(70℃以下=実績値) ■大口径排気系による高速排気とクリーンなバックグラウンドによる緻密な膜質 ■豊富なオプション類による柔軟なハード&ソフト対応(枚葉式=CtoC化  ロードロック化 複合プロセス化=ロードロック化+他プロセス室接合) ■デモ機を常設し、サンプルテスト対応可能 ※詳しくはPDF資...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • ウェハプロセス用真空蒸着装置 製品画像

    ウェハプロセス用真空蒸着装置

    膜厚均一性に優れた成膜機構と高速排気を実現!高品質の電極膜を安定して形…

    構と高速排気を 実現するオイルフリー排気系により高品質の電極膜を安定して形成が可能。 量産用途の蒸着装置として高い稼働率を誇ります。 【特長】 ■信頼性の高い基本構成 ■豊富なオプション機構  ・蒸発源、多連式電子銃(10kw)、抵抗加熱蒸発源、多元同時蒸着機構 ・高温加熱(最高550℃)=3面プラネタリードーム  ・基板クリーニング、イオンガン、RFボンバード機構 ・...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • 標準バッチバッチタイプ蒸着装置(AMFシリーズ) 製品画像

    標準バッチバッチタイプ蒸着装置(AMFシリーズ)

    電子デバイス用途のスタンダードシリーズ。R&D用の多目的小型研究用から…

    全機種クリーンルーム対応BOXタイプ 10㎾電子銃装備 高融点金属&酸化物対応 抵抗加熱電極併用 多層膜&合金対応(オプション) 薄ウェハ対応ドーム&ウェハ治具 プロセスに合わせ高温加熱(裏面電極シンター)や冷却(リフトオフプロセス対応 基板機構変更でウェハだけでなくセラミックやガラス基板にも対応...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • イオンアシスト蒸着用TELEMARKイオンソースシリーズ 製品画像

    イオンアシスト蒸着用TELEMARKイオンソースシリーズ

    イオンアシスト蒸着に最適なイオンソースを提供します

    が得られます 8.パルスモード/連続モード/基板クリーニングモード/ガスパージモードの運転切替が可能 9.RS232を装備し外部PCからコントロールが可能です 10.イオンカレントモニタをオプションで用意しております 11.イオン電流のフィードバック制御が可能 ...

    メーカー・取り扱い企業: VISTA株式会社

  • Epitaxial-EB蒸着装置 製品画像

    Epitaxial-EB蒸着装置

    最高900℃の高温プロセスが可能!エピタキシャル促進機構により単結晶成…

    DP ■膜厚コントロール:水晶式膜厚センサ ■制御操作  ・制御:PLC  ・操作:タッチパネルまたはPC ■データロギング:外部メモリまたはPC ■基板搬送:真空搬送ロボット ■オプション:基板加熱900℃(基板表面)、基板冷却、基板バイアス、基板回転  抵抗加熱蒸発源(最大6台)、反応ガス供給ユニットなど ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい...

    メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社

  • 超高性能光学薄膜用蒸着装置 「Sapio 1300/1550」 製品画像

    超高性能光学薄膜用蒸着装置 「Sapio 1300/1550」

    低パーティクル仕様の超高性能光学薄膜用蒸着装置です。

    特性が得られる高精度を実現しました。 徹底した放出ガス対策により、槽内が汚れていても特性のみならず、安定した膜質が得られます。 【特徴】 ○高効率排気システム ○低パーティクル仕様(オプション) ○高精度膜厚制御システム ○高出力・大面積照射イオンソース 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社昭和真空

  • コンパクトレーザーMBE装置『PAC-LMBE』 製品画像

    コンパクトレーザーMBE装置『PAC-LMBE』

    扱いやすいデザインで各種成膜条件の制御が容易!6種類のターゲットが使用…

    ■拡張性が高い ■到達真空度:6.7×10^-7Pa(5×10^-9Torr)以下 ■6種類のターゲットが使用可 ■ロードロック室ユニットにより、真空中でターゲットや基板を簡単交換 ■オプションポート:各種コンポーネント取付可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社パスカル

  • 『真空機用導入機シリーズ 総合カタログ』※無料進呈中 製品画像

    『真空機用導入機シリーズ 総合カタログ』※無料進呈中

    直線・回転運動、多軸複合運動を高精度伝達。蒸着セルなど各種導入機を多数…

    【主な掲載内容】 ■1軸・直線運動(Z軸)  ■1軸・回転運動(φ軸) ■多軸・複合運動     ■蒸着セル ■シャッター機構     ■エントリーハッチ ■ベロージョイント    ■オプション ※詳しくは資料をご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

    メーカー・取り扱い企業: 北野精機株式会社

  • IBAD(イオンアシスト蒸着法)装置 CVI series 製品画像

    IBAD(イオンアシスト蒸着法)装置 CVI series

    真空蒸着よりも緻密で強度が高く、表面が平滑な成膜が可能!

    ークとご要望をお聞かせください。 【成膜スペック】 ワークサイズ:Φ100~300mm(不定形・円筒も可能) 層形成:単層膜、多層膜可(MAX4層) パターン蒸着:メタルマスク対応(オプション) 【適応膜】 高融点金属、クロム、シリコン、アルミ、銅、SiO₂、SiN、ZnO など ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社クリエイティブコーティングス

  • 真空蒸着装置『MiniLab-026』 製品画像

    真空蒸着装置『MiniLab-026』

    小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

    x4)に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、プラズマエッチングも製作可能。 グローブボックス収納タイプもございます(*要仕様協議)。 フレキシブルにカスタマイズが可能な豊富なオプション部品を揃えております。 ◉ 最大基板サイズ:Φ6inch ◉ 抵抗加熱蒸着源フィラメント、ルツボ、ボート式(最大4源) ◉ 有機蒸着ソース:1cc or 5cc ◉ Φ2inchマグネト...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • □■□【MiniLab-026】フレキシブル薄膜実験装置□■□ 製品画像

    □■□【MiniLab-026】フレキシブル薄膜実験装置□■□

    小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

    x4)に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、プラズマエッチングも製作可能。 グローブボックス収納タイプもございます(*要仕様協議)。 フレキシブルにカスタマイズが可能な豊富なオプション部品を揃えております。 ◉ 最大基板サイズ:Φ6inch ◉ 抵抗加熱蒸着源フィラメント、ルツボ、ボート式(最大4源) ◉ 有機蒸着ソース:1cc or 5cc ◉ Φ2inchマグネト...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • スパッタリング装置 多機能スパッタ装置MiniLab-S060A 製品画像

    スパッタリング装置 多機能スパッタ装置MiniLab-S060A

    コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

    【主仕様】 ・SUS304 60ℓ容積 400x400x400mm フロントローディングチャンバー *ラージチャンバーオプションMiniLab-070(450 x 450 x 450)有り ・最大基板サイズ:Φ8inch ・ポンプ:ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ(ドライポンプ可) ・真空排気:真空/ベント自動...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • トランスファーロッド(Z-φ軸 KTLシリーズ) 製品画像

    トランスファーロッド(Z-φ軸 KTLシリーズ)

    弊社トランスファーロッドは、マグネット方式であり、超高真空領域まで使用…

    び回転運度を要する機器への応用が可能です。 本体の内部には、電界研磨処理を施し超高真空領域まで使用可能です。 駆動部のストッパーを使用することで、任意の距離・角度での位置決めが可能です。 オプションとして、回転止め機構や延長ハンドルを取り付けることが可能です。 また、腐食性ガス対応の仕様もございますので、ご相談下さい。 <3機種共通仕様> 許容リーク量:≦1.33×10-11Pa...

    メーカー・取り扱い企業: 北野精機株式会社

  • トランスファーロッド(Z-φ軸 KTXシリーズ) 製品画像

    トランスファーロッド(Z-φ軸 KTXシリーズ)

    【 4000台販売突破キャンペーン実施中 】 弊社トランスファーロッ…

    び回転運度を要する機器への応用が可能です。 本体の内部には、電界研磨処理を施し超高真空領域まで使用可能です。 駆動部のストッパーを使用することで、任意の距離・角度での位置決めが可能です。 オプションとして、回転止め機構や延長ハンドルを取り付けることが可能です。 また、腐食性ガス対応の仕様もございますので、ご相談下さい。 <3機種共通仕様> 許容リーク量:≦1.33×10-11Pa...

    メーカー・取り扱い企業: 北野精機株式会社

  • □■□【MiniLab-060】フレキシブル薄膜実験装置□■□ 製品画像

    □■□【MiniLab-060】フレキシブル薄膜実験装置□■□

    蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…

    【主仕様】 ・SUS304 60ℓ容積 400x400x400mm フロントローディングチャンバー *ラージチャンバーオプションMiniLab-070(450 x 450 x 450) ・最大基板サイズ:Φ8inch ・ポンプ:ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ(ドライポンプも可) ・真空排気:真空/ベント自動制...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 真空蒸着装置『MiniLab(ミニラボ)シリーズ』 製品画像

    真空蒸着装置『MiniLab(ミニラボ)シリーズ』

    モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

    【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント(成膜ソース、ステージなど)、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築する...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 真空蒸着装置『MiniLab-080』 製品画像

    真空蒸着装置『MiniLab-080』

    蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570…

    nficon社 SQM-160(又はSQC-310) 多チャンネル成膜コントローラ ・ユーティリティ:電源200V 3相 15A, 水冷3ℓ/min, N2ベント0.1Mkpa ・その他オプション:基板加熱, 冷却, 基板昇降・回転, ドライエッチング, ドライスクロールポンプ , ロードロック機構...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 真空蒸着装置『nanoPVD-T15A』 製品画像

    真空蒸着装置『nanoPVD-T15A』

    限られたラボスペースを有効活用できる小型ベンチトップサイズ装置に、最新…

    LTE x 最大4基(抵抗加熱TEと混在の場合、2基まで) ◉7"タッチパネル ◉連続成膜 ・成膜プログラム自動制御 ・30種類のレシピ登録 ・高精度ワイドレンジ真空ゲージ ◉豊富なオプション ・基板回転 ・上下昇降 300mmストローク ・基板シャッター ・ドライポンプ(RP標準) ・USBでWindows PCに接続、ログの保存管理...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 多元マルチスパッタ装置【MiniLab-S125A】 製品画像

    多元マルチスパッタ装置【MiniLab-S125A】

    高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ(Φ4inch用)…

    源, パルスDC電源を独自の'プラズマ・スイッチング・リレー'モジュールでマルチカソードに自在に配置を組み合えることが可能、様々な用途に柔軟に対応 高温基板加熱ステージ(二重ジャケット水冷式)オプション -1) Max600℃(ランプ加熱) -2) Max1000℃(C/Cコンポジット) -3) Max1000℃(SICコーティング) ロードロック内逆スパッタステージ -1) 300...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • □■□【MiniLab-080】フレキシブル薄膜実験装置□■□ 製品画像

    □■□【MiniLab-080】フレキシブル薄膜実験装置□■□

    蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570…

    nficon社 SQM-160(又はSQC-310) 多チャンネル成膜コントローラ  ・ユーティリティ:電源200V 3相 15A, 水冷3ℓ/min, N2ベント0.1Mkpa  ・その他オプション:基板加熱, 冷却, 基板昇降・回転, ドライエッチング, ドライスクロールポンプ , ロードロック機構...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • □■□【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置□■□ 製品画像

    □■□【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置□■□

    グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…

    nficon社 SQM-160(又はSQC-310) 多チャンネル薄膜コントローラ  ・ユーティリティ:電源200V 3相 15A, 水冷3ℓ/min, N2ベント0.1Mkpa  ・その他オプション:基板加熱, 冷却, 基板昇降・回転, ドライエッチング, ドライポンプ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

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