油圧装置・発電機の見える化・省人化＝リアルタイム遠隔監視システム

PR圧力、温度、流量、オイル清浄度管理を備えた、ICT遠隔監視クラウド型（…

圧力、温度、流量、オイル清浄度管理を備えた、ICT遠隔監視クラウド型 Watchlog PRO 油圧システム モニタリング ユニットを油圧システムに設置することで、流量、圧力、温度、およびオプションでオイルの清浄度が継続的に、4G (SIM カード)または Wi-Fi 経由で専用クラウドに送信されるか、貴社ウェブサーバーに送信されます。センサーの測定値は、殆どのウェブブラウザからアクセスできるオ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社チヒロ 東京営業所

廃棄太陽光パネルリサイクル装置『PVリサイクルハンマー設備』

PR廃棄太陽光パネルを１回の処理でほぼ完全にガラス、アルミ枠、バックシート…

太陽光パネルは、再生可能エネルギー電力の買取制度（FIT）、地産地消型の独立電源としての期待もあり、急速に普及しましたが、寿命や破損によって、廃棄量は最大年間約80万トン、約4,000万枚が排出されるとの試算もあります。 『PVリサイクルハンマー設備』は、廃棄太陽光パネルをゴミとせず、新たな"資源"として再活用するリサイクル装置です。 また、アルミ枠分離からガラス分離までの連続運転が可能になりま...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社タイガーチヨダ

スパッタリング装置『nanoPVD-S10A』

高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

グネトロンスパッタリング装置 ● 到達圧力5 x 10-5Pa（*1x10-4Paまで最速30分！） ● スパッタ源 x 3：連続多層膜膜制御, 同時成膜 ● 膜均一性±3% ● 多彩なオプション：上下・回転、ヒータ、磁性材用カソード、他 ◉ nanoPVDは、最大スパッタ源3源+3系統（MFC制御）、RF/DC PSUの増設（最大2電源まで）連続多層膜・2源同時成膜（RF/DC、...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

スパッタリング装置『MiniLab-026』

小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

x4）に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、プラズマエッチングも製作可能。 グローブボックス収納タイプもございます（*要仕様協議）。 フレキシブルにカスタマイズが可能な豊富なオプション部品を揃えております。 ◉ 最大基板サイズ：Φ6inch ◉ 抵抗加熱蒸着源フィラメント、ルツボ、ボート式（最大4源） ◉ 有機蒸着ソース：1cc or 5cc ◉ Φ2inchマグネト...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

スパッタカソード『ONYXシリーズ』販売・修理/メンテも対応可能

高機能・高品質なマグネトロンスパッタカソード！

のスパッタ装置での使用可能: 他社の装置にも適応可能 ■高真空対応: 幅広い用途に対応する高真空環境で使用可能 ■φ1インチからφ12インチ迄の対応: ターゲットサイズの柔軟な選択可能 ■豊富なオプション機構: シャッターやチルトアングルなど、多彩なオプション有 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

R&D用スパッタ装置 QAMシリーズ

各種研究開発、材料開発等に幅広く対応できる成膜装置。多様性・拡張性を持…

【成膜室】 ・処理方式：　バッチ式／ロードロック式 ・カソード方式：　ロングスローマグネトロンスパッタリング　※ヘリコンスパッタ（通称）　※オプション ・カソード数：　2インチカソード（磁性体、非磁性体共用）　Max.4台まで搭載可能 ・搭載電源：　DC500W　1台　※DC500W、RF300Wを選択でき、Max.2台まで搭載可能　※オ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アルバック／ULVAC, Inc.

研究開発用スパッタリング装置

高水準な仕様と豊富なオプションで様々な成膜用途に適した研究開発用スパッ…

バッチ式タイプの2機種をご用意 ■タッチパネルで簡単な操作・成膜条件管理、メンテナンスも容易な装置コンセプト ■設置スペースを取らないコンパクトな装置 ■お客様のご要望・用途に応える豊富なオプション ■低温・高温スパッタにも対応 ■広範囲に分布が良いスパッタ源を標準搭載（±5%以内（SiO2でφ170mm以内）） ■少量生産、夜間自動運転に対応した自動搬送オプションも可能 ...

メーカー・取り扱い企業： 芝浦メカトロニクス株式会社

多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S060】

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

【主仕様】 ・SUS304 60ℓ容積 400x400x400mm フロントローディングチャンバー *ラージチャンバーオプションMiniLab-070（450 x 450 x 450）有り ・最大基板サイズ：Φ8inch ・ポンプ：ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ（ドライポンプ可） ・真空排気：真空/ベント自動...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

SDR型巻取式スパッタリング装置（RｔｏＲタイプスパッタ装置）

サンプルテスト対応中　フィルム・金属箔に成膜、フレキシブルデバイスや先…

ムだけでなく金属箔を含む幅広い基板に実績 独自開発による高使用率カソードと実績豊富な搬送機構により安定した稼動を実現。 プラズマ前処理電極や磁性材用カソード、基板加熱用メインロールなど豊富なオプション機構を揃えており多目的なフィルム連続処理装置として運用可能 Ｒ＆Ｄ用小型機やシート対応のバッチ型装置など目的・用途に合わせて柔軟にハード＆ソフトの実現...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

スパッタリング装置『MiniLab-060』

蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…

【主仕様】 ・SUS304 60ℓ容積 400x400x400mm フロントローディングチャンバー *ラージチャンバーオプションMiniLab-070（450 x 450 x 450） ・ポンプ：ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ（ドライポンプも可） ・最大基板サイズ：Φ8inch ・真空排気：真空/ベント自動制...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

標準バッチタイプスパッタリング装置（ＳＲＶシリーズ）

多機能・コンパクト・フレキシブル対応、実績と信頼の標準型ラインナップ

ッチタイプスパッタリングシリーズ。広い膜厚分布均一範囲と自動制御機構によって各種電子デバイスや関連材料の成膜工程をの基礎開発から量産までカバーします。 多くの納入実績に支えられた成膜プロセスとオプションにより御要望を確実にサポートします。...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

超高真空スパッタリング装置（STM2323型）

先端薄膜デバイスの研究開発に最適。カスタマイズ容易な枚葉式超高真空イン…

ンラインタイプ 標準６室構成（ロードロック室、カセット室、搬送室、スパッタ室３室） 枚葉式CｔｏＣシステム 到達圧力：１０－⁷ｐａ　Order（スパッタ室） 対象基板：φ２～４インチ オプション機構 高効率強磁性体用カソード、基板磁化機構、エッチング室 カスタマイズ対応...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

実験用スパッタ装置

簡易でありながらφ3インチターゲットのマグネトロンカソードと200L/…

●　価格500万円(税込み) ●　φ3インチターゲット　1元カソード ●　RF300W電源、自動マッチングボックス付 ●　ガス系統：1系統(オプションにて3系統まで対応可)、 　　マスフローコントローラーによる調整 ●　酸化物など絶縁体のスパッタが可能。 ●　オプションにて基板ヒーターの取付可。 ●　余分なものを省きながら使いやすいシ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヤシマ

スパッタ・蒸着源複合型 薄膜装置 【nanoPVD-ST15A】

真空蒸着（金属・有機蒸着源）、スパッタリングカソードの混在設置が可能な…

ができます。 ガス系統最大3系統（プロセス圧力APC自動制御）、連続自動製膜（最大20層）、2源同時成膜など豊富な機能を備え、更に基板加熱ヒーター（500℃）、ドライスクロールポンプなど豊富なオプションも用意。 真空引き・成膜制御・ベント、レシピ作成、更に故障解析、ログ等全て前面の7"タッチパネルで操作、操作の一元管理が可能です。 IntelliLinkソフトウエア付属：Windows P...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

小型スパッタ装置『SS-DC・RF301』

小型設計ながら性能はキープ！高温での基板加熱が可能なスパッタ装置

以下（Oリング透過分を除く） ■排気系：TMP+ダイヤフラムポンプ（またはロータリーポンプ） ■真空計 　フルレンジ真空計（コールドカソード+ピラニーゲージ） 　+キャパシタンスゲージ（オプション） ■基板ステージ：2インチ対応ステージ ■基板加熱温度：MAX500℃（オプションでMAX800℃にも対応可能） ■本体架台：キャスター・アジャスター付き（電源部を含む） ※詳しく...

メーカー・取り扱い企業： アリオス株式会社

成膜装置 スパッタ装置

幅広い実績を誇ります。

【特徴】 〇ソース源には低価格の1”スパッタガンや2”～4”スパッタガンの成膜レシピ（ＰＣ制御）システムを有する装置まで幅広い実績を誇ります。 〇多数のオプションも備えております。 〇基板ホルダー（オプション各種・回転、ＸＹ、加熱、冷却、シャッター機構の追加等） ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードして下さい。...

メーカー・取り扱い企業： バキュームプロダクツ株式会社

スパッタリング装置『MiniLab（ミニラボ）シリーズ』

モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント（成膜ソース、ステージなど）、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築する...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

真空蒸着装置『MiniLab-090』（グローブボックス用）

グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…

ficon社 SQM-160（又はSQC-310） 2ch/4ch薄膜コントローラ  ・ユーティリティ：電源200V ３相 15A, 水冷3ℓ/min, N2ベント0.1Mkpa  ・その他オプション：基板回転/昇降, プラズマエッチング, ドライポンプ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

FHR.Roll.1600-FCCLスパッタリング装置

FCCL（フレキシブル銅張積層板）製造用高スループットロール to ロ…

FCCL（フレキシブル銅張積層板）製造用高スループットロール to ロール型スパッタリング装置です。 特徴 １．装置構成の自由度が高い ２．高い温度安定性 ３．適正なシード層形成 ４．オプションでクロームフリーの接着層が可能 ５．高剥離強度を実現 詳しくはお問合せください。...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

【MiniLab-SA125A】 多元マルチスパッタ装置

高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…

源, パルスDC電源を独自の'プラズマ・スイッチング・リレー'モジュールでマルチカソードに自在に配置を組み合えることが可能、様々な用途に柔軟に対応 高温基板加熱ステージ（二重ジャケット水冷式）オプション -1) Max600℃（ランプ加熱） -2) Max1000℃（C/Cコンポジット） -3) Max1000℃（SICコーティング） ロードロック内逆スパッタステージ -1) 300...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

水素フリーDLCコーティング装置（高密度スパッタＡＤＭＳ装置）

　独自技術で従来に無い水素フリーDLC膜を形成（水素含有量１％以下）優…

ティングに対応した基板自公転機構を備え、小型機械部品の生産に最適。 実績豊富な各部機構と制御ソフトに加えデータロギングソフト等優れたインターフェースによって優れた操作性と安定した稼動を実現 オプションで従来型ＰＩＧーＣＶＤ機構を装備可能。ＰＶＤ＋ＣＶＤのデュアルタイプのＤＬＣコーティング装置と幅広い用途に対応。 同一バッチで基板表面エッチング／イオン窒化／水素フリーＤＬＣ成膜まで一貫処理 ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】

スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置 コンパクトフレームに…

標準） + N2, O2 最大3系統まで増設 ◉ USB端子付 Windows PCに接続し、最大1000layer, 50filmのレシピを作成・保存。PCでデータロギング ◉ 他、多彩なオプションを用意 ◉ 7"タッチパネル簡単操作 PLC自動プロセスコントロール...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

簡易実験用スパッタリング装置

手動バッチ型と簡易ロードロック型の2機種　簡易ロードロックタイプで化合…

応・納入後のフォローまで一貫して丁寧な対応を 行っています。 【特長】 ■リーズナブルなコストと高いプロセス性能 ■少量生産にも対応可能な高い信頼性 ■豊富な実績に支えられた豊富なオプション類と柔軟なハード対応 ■先端分野の薄膜開発にロードロック機構と事前成膜テストで 　プロセス開発をサポート ■デモ機を常設し、サンプルテスト対応可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただく...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

大気非暴露型多元スパッタ装置

硫化物対応も可　薄膜固体二次電池研究用専用成膜装置 ターゲット～成膜…

を踏襲、小径ターゲットを使用し大面積（φ１８０）への成膜が可能。 基板加熱ヒーターと基板水冷機構を標準装備し幅広い成膜条件を実現。 強磁性体カソードや同時スパッタ、ロードロック機構など豊富なオプションを揃えており幅広いハードへの要求に個別対応 ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

量産対応バッチタイプスパッタリング装置　（STH10311型）

φ４１０基板×４枚の自公転基板台を４枚備えたバッチ型のスパッタリング装…

パッタリング装置 カソード：ロータリーマグトロンカソード３元 対応基板：φ４１０までの平板基板 カソード電源：DCおよびRF 付属機構：基板加熱機構、逆スパッタ、バイアススパッタ機構 オプション機構 同時スパッタ機構 CｔｏＣ化、インライン化...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

R%D用マルチチャンバスパッタリング装置

R&Dやニッチプロセスへの対応に特化　量産用装置では困難な少量生産や試…

先端薄膜プロセス開発・少量生産専用の低コスト型マルチチャンバスパッタリング装置。 膜厚制御性に優れた高効率カソードと豊富なオプション機構により幅広い分野に対応 Ｓｉ半導体の電極・配線膜だけでなく、マイクロ磁気デバイスやＭＥＭＳ用の磁性体膜・絶縁膜・保護膜など各種プロセスに実績 蒸着・アニール・ＣＶＤなどの異種プロセス室も...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

簡易実験用スパッタリング装置（ＳＲＶ３１００型）

小径基板専用のコンパクトタイプスパッタリング装置　全手動操作で低コスト…

成膜系：φ３インチカソード　１元装備 　　　：高周波電源　　　　　１源装備　 　　　：基板加熱機構標準装備 　　　：排気系　拡散ポンプ＆油回転ポンプ 操作系：全手動 オプション機構 磁性材用カソード　コンベンショナルカソード　ＤＣバイアス 逆スパッタ機構　バイアススパッタ機構　基板高温加熱 主ポンプ変更（ターボ分子ポンプ採用） 全自動化 ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

【ホットステージ】超高温基板加熱ステージ Max1800℃

超高温基板加熱ステージに、基板昇降・回転、RF/DC基板バイアスの全て…

PBNコーティング, PGコーティング, AlNヒーター ◉ 各種真空フランジ接続：ICF, ISO(KF/LF), JIS(VG/VF)フランジ ◉ K, C, R熱電対付属 ◉ その他オプション：温度制御ユニット, Inc, グラファイト or SiC基板ホルダー...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

全自動ロールクリーニングシステム　「CMW-SRR/ULT」

クリーンルーム内の使用に最適！全自動でロールを洗浄するシステムです。

【特徴】 [全自動クリーンヘッド] ○CMW-SRR/ULT Gapless(TM)仕様にオプションとしてデザイン ○CMW-SRRモデルのロール洗浄には「SRRクリーン」 ○CMW-ULTモデルのロール洗浄には「IPA」 ○クリーンヘッド部分の布はクリーンルーム内で使用できる素材を使用...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヤンゴージャパン

コンパクトウェブクリーナー装置　「CMC」

ワーク幅 255,350,450,550,600,750mmに対応！

構造とダブルロール構造を用意しています。 【特徴】 ○サイドスライド機構 ○上部ユニットオープン設計 ○20M/68シート プリカット粘着シートロール使用 ○ガイドローラ取付可能（オプション） ○静電気除去ユニット 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヤンゴージャパン

多層膜スパッタリング装置『S600』

ヒーターステージ(1000℃)搭載！開発工程～量産工程まで様々な用途へ…

タリング装置です。 高品質・高精度な成膜によりデバイス品質の向上。高スループット、 生産歩留り向上、材料利用効率の最適化によりコスト競争力をアップします。 多様な成膜条件に対応したオプションにより多品種少量生産、柔軟な 生産計画へ対応可能です。 【特長】 ■最大5基のカソード搭載により多様なプロセスと高生産性を両立 ■T/S距離調整により長期間の高膜厚均一性を維持 ■...

メーカー・取り扱い企業： パナソニック プロダクションエンジニアリング株式会社

卓上型マグネトロンスパッタ装置『FDS/FRSシリーズ』

初期導入コストを抑え、拡張で高性能化が可能！研究ステージに合せてグレー…

ネトロンスパッタ装置です。 基本仕様は、DCスパッタ/シングルカソード/ロータリーポンプで 構成される金属薄膜用スパッタ。 RF化、カソード増設、ターボ分子ポンプ仕様などの 拡張オプションにより、研究ステージに合せて グレードアップしていただくことが可能です。 【特長】 ■初期導入コストを抑え、後の拡張で高性能化が可能 ■基本仕様でアルゴン用MFCを備えており、ガス流...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社FKDファクトリ

【多目的真空蒸着装置】電子ビーム蒸着源

多目的真空蒸着装置HEXシステム用1源および4源電子ビーム蒸着源

【主な仕様】 最大パワー：250W（500W：オプション） フラックスモニター：標準装備 蒸着材料：ロッド（最大直径4mmまたはルツボ） 冷却：水冷（1L／分）...

メーカー・取り扱い企業： テガサイエンス株式会社

【マグネトロンスパッタリングカソード】

不純物なく金属・絶縁物等を堆積するRF, DC, パルスDC対応高効率…

ズ ・クランプリング式を採用、ボンディングが不要 ・メンテナンス性に優れ、容易にターゲットの交換が可能 ・シャッター、チムニーポート、ガスインジェクション、磁性材用高強度マグネット、などのオプションが豊富 ・各種フランジサイズ接続に対応...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

RFスパッタ装置『SP-3400』

逆スパッタも可能！500Wの高周波電源を1台搭載し、金属・酸化物・絶縁…

【その他の特長】 ■誤作動防止のための安全回路を搭載 ■ターボ分子ポンプによるクリーンな排気により良質な成膜が行える ■冷却水循環装置、小型コンプレッサはオプションで装備可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サンバック 本社

グローブボックス付　多源RFスパッタ装置

酸素や水分を排除したい研究製膜環境！多層膜、化合物製膜、反応製膜に対応…

大4源搭載可能 ■基板ホルダー 　・基板加熱機構（常用800℃、酸化雰囲気対応） 　・基板回転機構（モーター回転） 　・基板昇降機構（ストローク50mm） 　・基板バイアス印加機構　※オプション ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社

イオンビームスパッタリング装置

RFイオンソースを使用し、シングルステージまたはプラネタリーステージを…

パッタリング用イオンソース 　　フォーカスグリッド 　・アシスト用イオンソース 　　デフォーカスグリッド 　・シングルステージ 　・ターゲットホルダー 　・排気系 　・制御系 【オプション】 　・プラネタリーステージ 　・膜厚計 　　透過型光学モニター 　　水晶膜厚計 　・全自動多層薄膜成膜ソフト...

メーカー・取り扱い企業： アールエムテック株式会社

ＳＲＲ-Ｗ（Ｎ）粘着ロール除塵装置

業界を問わずお客様を悩ませてきたメンテナンス時の粘着ロール洗浄をより迅…

アー駆動/5-7ｋｇ ・ドライブ/フリーロール（駆動用電源不要） ・半自動ロールクリーニング装置/Ｙａｎｇｏ独自のロール洗浄装置 ■粘着ロール ・ノンシリコン（帯電防止機能付き有） ■オプション ・サイドスライド機構/高品質・高精度スライダーキット ・防爆装置/防爆型除電装置 ※改良のため、予告なしに変更する場合があります。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヤンゴージャパン

【多目的真空蒸着装置】抵抗加熱蒸着源

多目的真空蒸着装置HEXシステム用抵抗加熱蒸着源

【主な仕様】 ボート容量：1cc～5cc 温度範囲：50℃～2200°C（材料に依存） 電源：DC600W（オプション：1.5kW）...

メーカー・取り扱い企業： テガサイエンス株式会社

【多目的真空蒸着装置】有機蒸着源

多目的真空蒸着装置HEXシステム用有機蒸着源

【主な仕様】 ルツボ容量：15cc（10cc：オプション） 温度範囲：50℃～600℃ 電源：DC 冷却：水冷（1L／分）...

メーカー・取り扱い企業： テガサイエンス株式会社

真空蒸着装置『MiniLab-026』

小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

x4）に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、プラズマエッチングも製作可能。 グローブボックス収納タイプもございます（*要仕様協議）。 フレキシブルにカスタマイズが可能な豊富なオプション部品を揃えております。 ◉ 最大基板サイズ：Φ6inch ◉ 抵抗加熱蒸着源フィラメント、ルツボ、ボート式（最大4源） ◉ 有機蒸着ソース：1cc or 5cc ◉ Φ2inchマグネト...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

【nanoPVD-S10A】マグネトロンスパッタリング装置

高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

ンスパッタリング装置 ● 到達圧力5 x 10-5Pa（*1x10-4Paまで最速30分！） ● スパッタカソード x 3：自動連続多層膜, 2源同時成膜 ● 膜均一性±3% ● 多彩なオプション：基板回転・昇降、基板加熱（Max500℃）、磁性材用カソード、他 ◉ nanoPVDは、最大スパッタ3源+3系統（MFC制御）、RF/DC PSUの増設（最大2電源まで）連続多層膜・2源...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

□■□【MiniLab-026】フレキシブル薄膜実験装置□■□

小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

x4）に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、プラズマエッチングも製作可能。 グローブボックス収納タイプもございます（*要仕様協議）。 フレキシブルにカスタマイズが可能な豊富なオプション部品を揃えております。 ◉ 最大基板サイズ：Φ6inch ◉ 抵抗加熱蒸着源フィラメント、ルツボ、ボート式（最大4源） ◉ 有機蒸着ソース：1cc or 5cc ◉ Φ2inchマグネト...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

スパッタリング装置 多機能スパッタ装置MiniLab-S060A

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

【主仕様】 ・SUS304 60ℓ容積 400x400x400mm フロントローディングチャンバー *ラージチャンバーオプションMiniLab-070（450 x 450 x 450）有り ・最大基板サイズ：Φ8inch ・ポンプ：ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ（ドライポンプ可） ・真空排気：真空/ベント自動...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

トランスファーロッド（Ｚ-φ軸　KTXシリーズ）

【 4000台販売突破キャンペーン実施中 】 弊社トランスファーロッ…

び回転運度を要する機器への応用が可能です。 本体の内部には、電界研磨処理を施し超高真空領域まで使用可能です。 駆動部のストッパーを使用することで、任意の距離・角度での位置決めが可能です。 オプションとして、回転止め機構や延長ハンドルを取り付けることが可能です。 また、腐食性ガス対応の仕様もございますので、ご相談下さい。 ＜3機種共通仕様＞ 許容リーク量：≦1.33×10-11Pa...

メーカー・取り扱い企業： 北野精機株式会社

□■□【MiniLab-060】フレキシブル薄膜実験装置□■□

蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…

【主仕様】 ・SUS304 60ℓ容積 400x400x400mm フロントローディングチャンバー *ラージチャンバーオプションMiniLab-070（450 x 450 x 450） ・最大基板サイズ：Φ8inch ・ポンプ：ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ（ドライポンプも可） ・真空排気：真空/ベント自動制...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

真空蒸着装置『MiniLab（ミニラボ）シリーズ』

モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント（成膜ソース、ステージなど）、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築する...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社