工業用原材料『ピロガロール』（樹脂重合・酸化防止剤・防錆剤）

フォトレジスト用増感剤原料、接着剤の酸化防止剤、キレート剤として使用可…

ピロガロールは、古くから医薬原料や写真現像剤として使用されてきました。近年は、『ピロガロール』は、フォトレジスト用増感剤原料、酸化防止剤、キレート剤、酵素吸収剤として使用。 【特性】 化学式：1,2,3-トリヒドロキシベンゼン 含有量：99.5%以上 ■還元性が強く， 空気中...

メーカー・取り扱い企業： MP五協フード＆ケミカル株式会社

半導体・電子材料用　高純度溶剤　実績多数【サンプル進呈】

半導体や液晶などの電子材料製造プロセスにおいて、フォトレジスト、剥離剤…

半導体製造プロセス用洗浄剤、フォトレジスト、反射防止膜などへのご使用ニーズにおいて、脱メタル、金属除去、汚染リスク低減のご要望にお応えする薬液です。 ・金属含有量 500 ppt以下の製造実績多数有り ・品目多数、当社製品のほ...

メーカー・取り扱い企業： 日本乳化剤株式会社

レジスト剥離液『アンラスト R510』

剥離された皮膜は比較的小さい！BOD、COD負荷も他のものと比較して低…

『アンラスト R510』は、PVA系フォトレジストの剥離剤です。 特にリードフレーム用として開発。剥離された皮膜は比較的小さく、 また、BOD、COD負荷も他のものと比較して低くなっています。 対象物はポジレジストで、電子工業で...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

特殊溶剤（溶媒・剥離剤・洗浄剤等用途）の『ピロリドン系溶剤』

溶媒・助溶剤・フォトレジスト剥離液・洗浄/剥離剤・湿潤剤等に使用される…

当社が取り扱うアセチレン誘導体はアセチレンを出発原料とした製品群となります。溶剤、界面活性剤、モノマー、機能性ポリマーなど幅広い分野で使用されている製品を取り扱っています。当社は日本において長年にわたり販売活動を行っており、豊富な製品知識をもってお客様の製品開発をサポート致します。 アセチレン誘導体から製造される『ピロリドン系特殊溶剤』を紹介します。 【代表製品】 ■ γ-ブチロラ...

メーカー・取り扱い企業： MP五協フード＆ケミカル株式会社

半導体、液晶の製造プロセス薬剤『グリコールエーテル・アミン』

【サンプル進呈】半導体、液晶などの電子材料製造プロセス薬剤のメタルフリ…

■グリコールエーテル 低金属管理された高品質グリコールエーテルは、半導体や液晶などの製造プロセスにおいて、フォトレジスト、剥離剤、洗浄剤、エッチング剤などの溶剤として広く利用されています。当社は各金属を数ppbレベルに管理した高品質なグリコールエーテルを豊富に取り揃えており、構造や沸点を広範囲で選択可能です。ま...

メーカー・取り扱い企業： 日本乳化剤株式会社

微細加工用ポジ型フォトレジスト電着処理剤『ハニレジストAP』

電子部品などの微細加工に適したフォトレジストタイプの電着処理剤！

『ハニレジストAP』は、ハニー化成の長年に亘り培われてきた、当社が世界に先駆けて開発したアルミ建材用電着塗装技術（電着樹脂合成技術、電着液管理技術、電着プロセス技術）を基本とし、開発された微細加工用ポジ型レジスト電着処理剤です。 プリント基板やCOF・TCPへの Reel to Reelによる高速処理（通電時間10秒で 膜形成が可能）・微細加工が可能です。 スルーホール内の処理能力に...

メーカー・取り扱い企業： ハニー化成株式会社

工業用洗浄剤『アンラスト RMR-2』

フォトレジスト現像設備清掃用の洗浄剤！NBRなどの軟質ゴムにも使用が可…

『アンラスト RMR-2』は、アルカリタイプの水溶性洗浄剤です。 低発泡性で、NBRなどの軟質ゴムにも使用が可能。 ドライフィルムレジスト等が固着した設備に塗布し、ウエスなどで 拭き取ることで容易に設備を清掃できます。 【特長】 ■ドライフィルムレジスト等が固着した設備に塗布し、ウエスなどで 　拭き取ることで容易に設備を清掃できる ■低発泡性 ■NBRなどの軟質ゴムにも...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

アダマンタン誘導体

種々のアダマンタン化合物とその誘導体をラインアップしております。

アダマンタンは耐熱性、脂溶性、昇華性、耐湿性、高屈折率、耐薬品性などに優れた性質を持っています。 また、アダマンタン誘導体は、エレクトロニクス分野においては半導体製造用のフォトレジストとして、医薬品分野においては原料として利用されています。 詳細はカタログをダウンロードしていただくか、 お気軽にお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： 関東化学株式会社 バイオケミカル部

【フッ素系界面活性剤『フタージェント』　用途事例】　レベリング性

レベリング性、濡れ性を向上！分散、表面改質に有効なフッ素系界面活性剤

オロアルキル基を有する 界面活性剤に比べ、特異的な物性を示します。 様々な分野で、炭化水素系界面活性剤やシリコーン系界面活性剤に比べて 優れた性能を示します。 【用途例】 ○フォトレジスト液 ○ハードコート液 ○光学フィルム ○塗料、コート液 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ネオス

N-メチル-2-ピロリドン(NMP)市場の調査レポート

NMP の市場規模は、CAGR 6.8% で 2022 年までに 7 …

リケーションに基づいて、NMP 市場のエレクトロニクス セグメントは最高の CAGR で成長すると予測されています。 NMPは、リチウムイオン電池の製造時の溶剤、半導体デバイスの製造時のフォトレジストストリッパー、および電子デバイスの洗浄試薬として電子機器で使用されます。 NMPは、PCB、ポリアミド/ポリイミドワイヤーエナメル、エポキシおよびポリウレタンコーティングを製造するための溶剤と...

メーカー・取り扱い企業： SDKI Inc.

電子化学品・材料市場調査報告書

世界の電子化学品・材料市場は、2023－2033年の予測期間中に7.5…

世界の電子化学品・材料市場は、タイプ別（特殊ガス、CMPスラリー、フォトレジスト化学薬品、導電性ポリマー、Low K誘電体、湿式化学薬品、シリコンウェーハ、PCBラミネート）、用途別（半導体およびその他）、および地域別に分割されます。北米地域は、市場シェアの点で世界をリー...

メーカー・取り扱い企業： SDKI Inc.

フォトレジスト剥離液『アンラスト OS15』

キレート剤を含有しており、鉄板表面の除錆作用もあるフォトレジスト剥離液…

『アンラスト OS15』は、カゼイン系、PVA系レジスト及びドライフィルム レジストの剥離に適したフォトレジスト剥離液です。 20kg缶／ドラム／1tコンテナでご用意。 キレート剤を含有しており、鉄板表面の除錆作用もあります。 【処理条件】 ■濃度：3倍希釈～原液 ■温度：50～7...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

フォトレジスト剥離液『アンラスト RC-D6』

ドライフィルムレジスト剥離液やウレタン塗料の剥離等に使用可能！

『アンラスト RC-D6』は、レジストや塗料の剥離用途に適した フォトレジスト剥離液です。 溶剤タイプの剥離液で、ドライフィルムレジスト剥離液や ウレタン塗料の剥離等に使用可能。 18kg缶／ドラムでご用意しています。 【処理条件】 ■濃度：原液 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

フォトレジスト剥離液『アンラスト TP160』

鉄系基材に対し、防・除錆効果あり！生分解性がよく、環境負荷が少ないです

『アンラスト TP160』は、生分解性がよく、環境負荷の少ない フォトレジスト剥離液です。 苛性ソーダ、苛性カリ、有機アルカリ等アルカリベースの剥離液に添加する ことにより、レジストの剥離が容易。 鉄系基材に対し、防・除錆効果があります。 【特長】 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

フォトレジスト剥離液『アンラスト RW-C』

浸漬法、スプレー法に対応！苛性アルカリと高沸点溶剤の混合品をご紹介

『アンラスト RW-C』は、樹脂に対して強力な剥離、洗浄性があり、 浸漬法、スプレー法に対応可能なフォトレジスト剥離液です。 ガラス基板の再生・洗浄、樹脂レジストの剥離用途に好適。 苛性アルカリと高沸点溶剤の混合品です。 【処理条件】 ■濃度：原液処理 ■温度：50～70℃ ■時...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

フォトレジスト剥離液『アンラスト M601』

浸漬法、スプレー法に対応！浸透性が高いため、細部まで剥離が可能！

『アンラスト M601』は、有機アルカリタイプでアルミ基板にも使用可能な フォトレジスト剥離液です。 20kg缶／ドラムでご用意しています。 浸透性が高いため、細部まで剥離が可能。浸漬法、スプレー法に対応できます。 【処理条件】 ■濃度：原液 ■温度：常温～...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所