プラズマ除去装置『HDRF』

フォトレジストや有機ポリマ残渣を低温で除去！当社のプラズマ除去装置をご…

プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社で取り扱う、『HDRF』を ご紹介いたします。 MEMS、LED、先端パッケージングのデバイス製造段階で特に重要になる、 フォトレジストや有機ポリマ残渣を低温で除去します。 ご要望の際は、お気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■温度 ・Low temp：50℃ to 150℃ ・High rate：150...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

《新型》スピンスクラブ自動洗浄装置　（CMP後・研磨後洗浄）

量産現場向け　高信頼性自動スクラブ洗浄装置

洗浄機》カタログも参照ください。 ウエハ、枚葉式洗浄装置、基板洗浄装置、スピン洗浄装置、半導体製造装置、半導体、レジスト剥離装置、メガソニック、基板クリーニング装置、洗浄装置、レジスト、フォトレジスト、フォトリソ工程、シリコン、スクラブ洗浄装置、スクラブ洗浄、ウエハ洗浄装置、ウエハ洗浄機、搬送装置...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ソフエンジニアリング

ナノパターン露光装置『PhableR 100』

回折限界を超えた解像度を実現！低コストで周期構造を作製できる露光システ…

『PhableR 100』は、高解像度の周期構造を作製できる低コストの 露光システムです。 フォトレジストをコートし、プロキシミティにマスクセットして露光。 独自の技術により、回折限界を超えた解像度を実現。 サブミクロンスケールのグレーティングや六方配列/三方配列の2Dパターン 作製が行...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社協同インターナショナル