ポジ型フォトレジストリムーバー産業の世界市場調査報告書2023

ポジ型フォトレジストリムーバーの世界市場：メーカー、地域、タイプ、アプ…

グローバル市場調査レポート出版社であるGlobaI Info Researchは「世界のポジ型フォトレジストリムーバーの供給、需要、主要メーカー、2023 ～ 2029 年レポート」レポートには、世界市場、主要地域、主要国におけるポジ型フォトレジストリムーバーの販売量と販売収益を調査しています。同時...

メーカー・取り扱い企業： GlobaI Info Research有限会社 Global Info Research

半導体向け感光性樹脂。フォトレジスト　※ラインアップ資料無料進呈

半導体やプリント基板に高密度・高集積の回路パターンを作る工程で使われる…

当社で取り扱う、『フォトレジスト』をご紹介します。 i線用フォトレジストでは各種用途にマッチした幅広い製品を揃え、EUVおよび 液浸ArF用フォトレジストでは、ユーザーの開発スピードに応えながら、 超高解像性能かつ品質の安...

メーカー・取り扱い企業： 住友化学株式会社 機能樹脂事業部 エンジニアリングプラスチックス部

エッチングメタルスクリーン

フォトエッチングによる微細金属メッシュ！製品の製作・加工を承っておりま…

『エッチングスクリーン』は、金属材料をフォトエッチング技術によって 微細な加工を施したものです。 写真技術によって金属薄板表面にフォトレジストのパターンを露光機等で 形成し、フォトレジストに被覆されない材料の露出部分を溶解除去し、 精密なメッシュ形状を製作。 織金網では得にくい微細なメッシュをお客様の御要望に合わせて提供で...

メーカー・取り扱い企業： 石川金網株式会社

情報化学品　感光性材料

高感度・高信頼性を特徴とする重合開始剤や光酸発生剤、高精細な画像を可能…

エポキシ樹脂や界面活性剤といった基盤技術をもとに開発されました。カチオン開始剤、ラジカル開始剤、光酸発生剤、周辺材料、そして新たに光塩基発生剤(開発品)もラインナップに加えております。光硬化・フォトレジスト材料のトータルソリューションの提供を目指します。詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ADEKA

複合加工（微細貫通穴、掘り込み等）

フォトレジストを使用した掘り込み加工とレーザー改質を利用した微細加工を…

当社で行う「複合加工（微細貫通穴、掘り込み等）」についてご紹介します。 フォトレジストを配線保護の目的で使用することが可能。すでに配線の 完了した基板にフォトレジストで保護層をパターニングし、掘り込みや 貫通穴加工を行えます。 また、レーザー改質＋エッチングで加工した...

メーカー・取り扱い企業： 武蔵野ファインガラス株式会社

ネガ型電着フォトレジスト

高精度のめっきエリアを実現するネガ型のフォトレジスト電着プロセス

エレコートＥＵ-ＸＣプロセスは凹凸面や３次元形状品に高精度の部分めっきを実現する為のフォトレジスト電着プロセスです。この電着レジストは耐薬品性に優れ、シアン化銀めっきに他、金めっきや硫酸銅めっきのレジストとしても使用可能です。エッジカバー性に優れ、高精度の現像性を実現しました。精密部分めっ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社シミズ

工業用原材料『ピロガロール』（樹脂重合・酸化防止剤・防錆剤）

フォトレジスト用増感剤原料、接着剤の酸化防止剤、キレート剤として使用可…

ピロガロールは、古くから医薬原料や写真現像剤として使用されてきました。近年は、『ピロガロール』は、フォトレジスト用増感剤原料、酸化防止剤、キレート剤、酵素吸収剤として使用。 【特性】 化学式：1,2,3-トリヒドロキシベンゼン 含有量：99.5%以上 ■還元性が強く， 空気中...

メーカー・取り扱い企業： MP五協フード＆ケミカル株式会社

半導体・電子材料用　高純度溶剤　実績多数【サンプル進呈】

半導体や液晶などの電子材料製造プロセスにおいて、フォトレジスト、剥離剤…

半導体製造プロセス用洗浄剤、フォトレジスト、反射防止膜などへのご使用ニーズにおいて、脱メタル、金属除去、汚染リスク低減のご要望にお応えする薬液です。 ・金属含有量 500 ppt以下の製造実績多数有り ・品目多数、当社製品のほ...

メーカー・取り扱い企業： 日本乳化剤株式会社

レジスト剥離液『アンラスト R510』

剥離された皮膜は比較的小さい！BOD、COD負荷も他のものと比較して低…

『アンラスト R510』は、PVA系フォトレジストの剥離剤です。 特にリードフレーム用として開発。剥離された皮膜は比較的小さく、 また、BOD、COD負荷も他のものと比較して低くなっています。 対象物はポジレジストで、電子工業で...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

特殊溶剤（溶媒・剥離剤・洗浄剤等用途）の『ピロリドン系溶剤』

溶媒・助溶剤・フォトレジスト剥離液・洗浄/剥離剤・湿潤剤等に使用される…

当社が取り扱うアセチレン誘導体はアセチレンを出発原料とした製品群となります。溶剤、界面活性剤、モノマー、機能性ポリマーなど幅広い分野で使用されている製品を取り扱っています。当社は日本において長年にわたり販売活動を行っており、豊富な製品知識をもってお客様の製品開発をサポート致します。 アセチレン誘導体から製造される『ピロリドン系特殊溶剤』を紹介します。 【代表製品】 ■ γ-ブチロラ...

メーカー・取り扱い企業： MP五協フード＆ケミカル株式会社

フォトリソグラフィー加工（掘り込み）

完全な有機レジスト！すでに加工されたり、メッキがかかっているガラスに彫…

「ガラスフォトリソ加工」はガラス材料に任意のパターンを彫り込む技術です。 ガラス材料にフォトレジストで任意のパターンを形成し、彫り込むことで 凹凸、貫通孔を加工することが可能。 有機レジスト膜を用いたフォトリソは価格や耐久性の面で強みがあるほか、 レジストを剥がす際に基板にダメージ...

メーカー・取り扱い企業： 武蔵野ファインガラス株式会社

【SOシートの工程例】SOシートに塗る

ダイ塗工、インクジェット印刷、蒸着・スパッターなど！機能性パターンの作…

工程例についてご紹介いたします。 耐薬品性に優れるPVA層上に、各種印刷やコーティング等により機能性 パターン（レジスト、金属、機能性樹脂等)の作製が可能。 塗工材料例としては、フォトレジストや導電性ポリマー、UV硬化性樹脂、 PDMS、CNT、金属インキなどが挙げられます。 【概要】 ＜SOシートに塗る＞ ■ダイ塗工、スピンコート、スクリーン印刷 ■インクジェット印...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アイセロ

半導体、液晶の製造プロセス薬剤『グリコールエーテル・アミン』

【サンプル進呈】半導体、液晶などの電子材料製造プロセス薬剤のメタルフリ…

■グリコールエーテル 低金属管理された高品質グリコールエーテルは、半導体や液晶などの製造プロセスにおいて、フォトレジスト、剥離剤、洗浄剤、エッチング剤などの溶剤として広く利用されています。当社は各金属を数ppbレベルに管理した高品質なグリコールエーテルを豊富に取り揃えており、構造や沸点を広範囲で選択可能です。ま...

メーカー・取り扱い企業： 日本乳化剤株式会社

微細加工用ポジ型フォトレジスト電着処理剤『ハニレジストAP』

電子部品などの微細加工に適したフォトレジストタイプの電着処理剤！

『ハニレジストAP』は、ハニー化成の長年に亘り培われてきた、当社が世界に先駆けて開発したアルミ建材用電着塗装技術（電着樹脂合成技術、電着液管理技術、電着プロセス技術）を基本とし、開発された微細加工用ポジ型レジスト電着処理剤です。 プリント基板やCOF・TCPへの Reel to Reelによる高速処理（通電時間10秒で 膜形成が可能）・微細加工が可能です。 スルーホール内の処理能力に...

メーカー・取り扱い企業： ハニー化成株式会社

PTFEメンブレンカートリッジフィルター　ポリエチレン部材成型品

フォトレジストなどの機能性樹脂や各種有機溶剤およびガスの濾過に最適！

PTFE製メンブレンフィルターと、ポリプロピレンまたはポリエチレンから構成された、耐薬品性に優れたカートリッジフィルターです。 PTFE製メンブレンフィルターには、界面活性剤を使用していません。 また、フィルターのシールは熱溶融接着のため、クリーンなカートリッジフィルターです。 全製品完全性試験を実施済みで、信頼性の高いカートリッジフィルターです。 有効濾過面積2.3倍(従来品TCF-0...

メーカー・取り扱い企業： アドバンテック東洋株式会社

リグナイト株式会社　事業紹介

プラスチックのイメージを大きく変えるイノベーション

【製品一覧】 ○リグノール ○フォトレジスト用樹脂 ○炭素材料用樹脂 ○含浸用樹脂 ○自己潤滑系耐熱積層材料　リグナイトHR-6526 / HR-6510 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...

メーカー・取り扱い企業： リグナイト株式会社

スリミング加工（薄型化）

湾曲ディスプレイや有機EL照明などに！加工精度はターゲット厚さに対して…

グ技術を活かし、最大550mm×650mm、 最小100mm×100mmの加工が可能。加工精度はターゲット厚さに対して ±10％以内を実現します。 また、スリミングした薄型ガラスに、フォトレジストやレーザー改質を利用し パターン加工・貫通加工・切断加工をするなど、他の当社ガラス加工技術と 組み合わせて、加工することもできます。 【特長】 ■ケミカル液でガラスを溶解し、薄く・...

メーカー・取り扱い企業： 武蔵野ファインガラス株式会社

光酸発生剤【紫外線で反応する特殊化学品】

紫外線照射で簡単かつ安全に酸を発生させる光酸発生剤。時間とエネルギーの…

ジナルの超強酸まで発生可能。 長波長LEDなど各種光源に対応可能な製品をラインナップ。 また、近年課題となっているPFASを含まない製品も取り扱っております。 【用途例】 ・3Dプリンタ ・フォトレジスト ・偏光板接着剤 ・OLED封止剤 ※詳しくはPDFダウンロードまたは、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： サンアプロ株式会社 東京営業所

銀塩フィルム『フォトマスクフィルム』

「工業製品の寸法精度」と「グラフィック印刷の美しさ・表現力」を両立！M…

り露光、現像した 白黒の銀塩フィルムです。 描画したパターンのエッジにグレーの部分がほとんど無く、 大変シャープに表現できます。 MEMS等の微細パターンを形成する際に使用するフォトレジストを 露光するためのツールとして使用します。 【特長】 ■透明な部分は光が透過し、黒い部分は遮光 ■描画したパターンのエッジにグレーの部分がほとんどなし ※詳しくはPDF資料を...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社海野技研 本社

工業用洗浄剤『アンラスト RMR-2』

フォトレジスト現像設備清掃用の洗浄剤！NBRなどの軟質ゴムにも使用が可…

『アンラスト RMR-2』は、アルカリタイプの水溶性洗浄剤です。 低発泡性で、NBRなどの軟質ゴムにも使用が可能。 ドライフィルムレジスト等が固着した設備に塗布し、ウエスなどで 拭き取ることで容易に設備を清掃できます。 【特長】 ■ドライフィルムレジスト等が固着した設備に塗布し、ウエスなどで 　拭き取ることで容易に設備を清掃できる ■低発泡性 ■NBRなどの軟質ゴムにも...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

金属表面処理剤ー金属エッチング剤（日米特許取得）

メタルファンタジー類は、手軽に安全に金属への装飾エッチングや金属組織の…

手軽に安全にステンレス、アルミニウムやチタンを白色ないし銀色にエッチングします。 ●シルクスクリーン印刷、カッティングプロッターやフォトレジストと組み合わせると、マグカップ等へのロゴやネーム入れ、サインの製作、ブライダル商品やメモリアル商品へのエッチング、ウェルカムボードの製作やフォトエッチングから台所用品、家電製品やシステムキッチン...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社フロステック

アダマンタン誘導体

種々のアダマンタン化合物とその誘導体をラインアップしております。

アダマンタンは耐熱性、脂溶性、昇華性、耐湿性、高屈折率、耐薬品性などに優れた性質を持っています。 また、アダマンタン誘導体は、エレクトロニクス分野においては半導体製造用のフォトレジストとして、医薬品分野においては原料として利用されています。 詳細はカタログをダウンロードしていただくか、 お気軽にお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： 関東化学株式会社 バイオケミカル部

防錆紙、Silver Protek

銀等金属製品の変色、腐食を防止するSilver Protek

間は、保管されている製品の梱包時及び輸送時の環境条件に大きく依存しますが通常の工業規格の環境及び保管条件で、金属製品の変色を1年以上防ぐことができます。 Sｉｌｖｅｒ Protekは銀、銅、フォトレジストコーティング、電子部品や電子基板に悪影響を及ぼすことはありません。長期間の保管と輸送中において変色に敏感な製品はいつもきれいで変色がない状態を保つことができることから大きなコスト削減になります...

メーカー・取り扱い企業： エム・アンド・エス

【SOシート導入事例】三次元リソグラフィ加工技術

平面でレジストを露光！パターンが微細になるほど光回折によりパターンが乱…

【概要】 ■パターンが微細になるほど光回折によりパターンが乱れる （スピナーで均一なレジスト成膜が難しい、露光時のギャップが均一ではない） 　↓ ■フォトレジスト：レジスト材料を成膜、平面でレジストを露光、潜像パターン付きシート 　↓ ■曲面基板へ貼り付け・PET剥離、PVA水解・レジスト現像 　↓ ■エッチング、デポジション、ドーピング ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アイセロ

【フッ素系界面活性剤『フタージェント』　用途事例】　レベリング性

レベリング性、濡れ性を向上！分散、表面改質に有効なフッ素系界面活性剤

オロアルキル基を有する 界面活性剤に比べ、特異的な物性を示します。 様々な分野で、炭化水素系界面活性剤やシリコーン系界面活性剤に比べて 優れた性能を示します。 【用途例】 ○フォトレジスト液 ○ハードコート液 ○光学フィルム ○塗料、コート液 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ネオス

N-メチル-2-ピロリドン(NMP)市場の調査レポート

NMP の市場規模は、CAGR 6.8% で 2022 年までに 7 …

リケーションに基づいて、NMP 市場のエレクトロニクス セグメントは最高の CAGR で成長すると予測されています。 NMPは、リチウムイオン電池の製造時の溶剤、半導体デバイスの製造時のフォトレジストストリッパー、および電子デバイスの洗浄試薬として電子機器で使用されます。 NMPは、PCB、ポリアミド/ポリイミドワイヤーエナメル、エポキシおよびポリウレタンコーティングを製造するための溶剤と...

メーカー・取り扱い企業： SDKI Inc.

＜素材事業＞安全・安定的な供給体制！

お客様それぞれの独自の御要望・仕様・用途に合わせることを最優先で取り組…

＜その他、得意分野＞ * 特殊樹脂 (感光材・プリンテッド・エレクトロニクス・フォトレジストなど） * 無機 粉体 (シリカ・シリコーン・シロキサン・グラフェン・量子ドット・ペロブスカイトなど)...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社MT（MATERIAL TECHNOLOGY）トレーディング

電子化学品・材料市場調査報告書

世界の電子化学品・材料市場は、2023－2033年の予測期間中に7.5…

世界の電子化学品・材料市場は、タイプ別（特殊ガス、CMPスラリー、フォトレジスト化学薬品、導電性ポリマー、Low K誘電体、湿式化学薬品、シリコンウェーハ、PCBラミネート）、用途別（半導体およびその他）、および地域別に分割されます。北米地域は、市場シェアの点で世界をリー...

メーカー・取り扱い企業： SDKI Inc.

同軸バレル型アッシング装置

同軸バレル型プラズマ装置

半導体ウエハや小型基板のフォトレジストのアッシング用途の他、等方性プラズマによる全方向からの処理を利用されたい場合に有効です。 量産用自動機は50枚一括処理のYSP650Wをご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： ヤマトマテリアル株式会社

フォトレジスト剥離液『アンラスト OS15』

キレート剤を含有しており、鉄板表面の除錆作用もあるフォトレジスト剥離液…

『アンラスト OS15』は、カゼイン系、PVA系レジスト及びドライフィルム レジストの剥離に適したフォトレジスト剥離液です。 20kg缶／ドラム／1tコンテナでご用意。 キレート剤を含有しており、鉄板表面の除錆作用もあります。 【処理条件】 ■濃度：3倍希釈～原液 ■温度：50～7...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

フォトレジスト剥離液『アンラスト RC-D6』

ドライフィルムレジスト剥離液やウレタン塗料の剥離等に使用可能！

『アンラスト RC-D6』は、レジストや塗料の剥離用途に適した フォトレジスト剥離液です。 溶剤タイプの剥離液で、ドライフィルムレジスト剥離液や ウレタン塗料の剥離等に使用可能。 18kg缶／ドラムでご用意しています。 【処理条件】 ■濃度：原液 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

フォトレジスト剥離液『アンラスト TP160』

鉄系基材に対し、防・除錆効果あり！生分解性がよく、環境負荷が少ないです

『アンラスト TP160』は、生分解性がよく、環境負荷の少ない フォトレジスト剥離液です。 苛性ソーダ、苛性カリ、有機アルカリ等アルカリベースの剥離液に添加する ことにより、レジストの剥離が容易。 鉄系基材に対し、防・除錆効果があります。 【特長】 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

フォトレジスト剥離液『アンラスト RW-C』

浸漬法、スプレー法に対応！苛性アルカリと高沸点溶剤の混合品をご紹介

『アンラスト RW-C』は、樹脂に対して強力な剥離、洗浄性があり、 浸漬法、スプレー法に対応可能なフォトレジスト剥離液です。 ガラス基板の再生・洗浄、樹脂レジストの剥離用途に好適。 苛性アルカリと高沸点溶剤の混合品です。 【処理条件】 ■濃度：原液処理 ■温度：50～70℃ ■時...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

フォトレジスト剥離液『アンラスト M601』

浸漬法、スプレー法に対応！浸透性が高いため、細部まで剥離が可能！

『アンラスト M601』は、有機アルカリタイプでアルミ基板にも使用可能な フォトレジスト剥離液です。 20kg缶／ドラムでご用意しています。 浸透性が高いため、細部まで剥離が可能。浸漬法、スプレー法に対応できます。 【処理条件】 ■濃度：原液 ■温度：常温～...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

スクラッチ試験機による液晶保護フィルムの傷のつきやすさの評価

鉛筆硬度試験に代わる傷つき易さの定量化

コーティングや、軟質及び硬質のコーティングの分析に使用できます。 光学用途から、マイクロエレクトロニクス用途、保護膜、装飾膜など様々な用途向けの、薄膜・多層膜のPVD・CVD・PECVD膜、フォトレジスト、塗装、ラッカーなどの膜の評価に利用できます。 金属合金、半導体、ガラス、反射材や有機材料を含む硬質あるいは軟質の基材も評価できます。 鉛筆硬度試験・サイカス・ウール試験・消しゴム試験では...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アントンパール・ジャパン

【事例】金属表面に非粘着性＝フォトマスクの汚れ防止

金属表面にフロロサーフFG-5093を塗布すると、非粘着性表面となり、…

に塗布すると、表面に非粘着性の性能を付与することができます。非粘着性とは、テープや接着剤、その他の汚れがくっつきにくく、取れやすいということです。 半導体の等倍系フォトマスクに塗布するとフォトレジスト由来の汚れが付着しにくくなります。 なお、この性能は耐久性がありますので長期間性能を保持することができます。 また、コーティング膜は10ナノメーター程度の極薄膜なので、マスク開口部...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社フロロテクノロジー