フォトプロセス解析露光装置　UVESシリーズ

最大25箇所、露光条件を変えてオープン・フレーム露光が可能。

フォトプロセス解析露光装置　UVESシリーズはフォトレジストの研究開発用露光ツールです。ステップ露光することで最大25箇所、露光条件を変えてオープン・フレーム露光が可能です。露光されたサンプルをレジスト現像アナライザを用いて現像解析することにより、フォ...

メーカー・取り扱い企業： リソテックジャパン株式会社

リソグラフィシミュレータ　PROLITH

Virtual Lithography Simulator

リソグラフィ・シミュレータは、数値計算により、露光光学系による結像およびフォトレジストの感光・現像の過程をコンピュータ上に表現し、現像後のフォトレジストの形状を算出します。リソグラフィの研究、開発、そして製造に欠かすことのできないツールとなっています。...

メーカー・取り扱い企業： リソテックジャパン株式会社

脱保護反応解析装置　PAGAシリーズ

フォトレジストの高度な評価を行う、さまざまな装置を提供します。

脱保護反応解析装置　PAGAシリーズはPEB及び248mm露光によるin-situ反応解析、脱保護反応パラメータ算出機能。FT-IR室内にベークプレートを配置し、加熱し ながら官能基の変化を観察で来ます。また、紫外線(248nm)照射装置も搭載されており、露光中における酸発生のメカニズムなどの解析にも利用できます。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。...【主な特徴】 ○P...

メーカー・取り扱い企業： リソテックジャパン株式会社

紫外線強度測定器／品番　M1026VR-2T

優れた操作性と拡張性を備えたハンディタイプの紫外線強度計です。

紫外線殺菌ランプの測定、光化学反応光量測定、フォトレジスト光量測定、高分子関係劣化試験測定等、幅広い分野で威力を発揮します。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社シロ産業

膜厚測定

膜厚測定に関するアプリケーション情報を詳しく解説します

アプリケーション向けに光学的および非光学的膜厚特性を測定するための モジュラー式および完全統合型システムの両方を提供しています。 顧客は、シリコンウェーハの厚さを測定し、マスク用のフォトレジスト層を判断し、 コーティングの硬度および摩耗を試験するためのシステムを構成しています。 数量の多いOEMアプリケーション向けコンポーネントも利用できます。 これらのデバイスは、真空紫外...

メーカー・取り扱い企業： オーシャンフォトニクス株式会社