• 【パワーデバイス】大電流用ソケット 製品画像

    【パワーデバイス】大電流用ソケット

    PR様々なカスタム設計が可能!ご要望に応じて試験治具の設計提案も承ります

    『大電流用ソケット』は、IGBT、電流センサ等のパワーデバイスに対応するテストソケットです。 デバイスの放熱性向上用のためのクランプ固定式やネジ止め式など様々な カスタム設計が可能。低抵抗な材料を用いて100A以上の大電流に対して 製作できます。 大電流の需要が高まっているので、パワーエレクトロニクス分野へ力を入れています。 【特長】 ■IGBT、電流センサ等のパワーデバイスに...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社SDK

  • 高粘度スラリーでも目詰まりしない『W-CELL フィルター装置』 製品画像

    高粘度スラリーでも目詰まりしない『W-CELL フィルター装置』

    PR独自のろ過方式で高粘度液も精密にろ過。100ミクロン以下のスリット幅で…

    『W-CELL フィルター装置』は、インク・塗料・顔料・ラテックス・合成樹脂、 製紙、果実・野菜ジュース、液卵、にごり酒などの分級ろ過や異物除去に適したフィルター装置です。 高粘度・高濃度スラリーでも安定した連続ろ過が可能。 ステンレス製のため耐圧・耐熱性に優れ、長寿命で低ランニングコストを実現します。 スクレーパや逆洗による残渣の除去が容易で、装置の自動化が可能。 大型から小型...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社荒井鉄工所

  • 2次元抵抗加熱蒸着装置 製品画像

    2次元抵抗加熱蒸着装置

    蒸着源はボートタイプ!基板は支柱上のプレートに取付けられており高さは任…

    『2次元抵抗加熱蒸着装置』は、簡単に2つの材料を抵抗加熱により蒸着出来る 装置です。 蒸着源はボートタイプで、基板は支柱上のプレートに取付けられており、 高さは任意に変更可能。 排気系は、DPとRPを併用しておりますので、短時間で高真空が得られます。 【特長】 ■SUS製上チャンバーには、CF70ポートが2式、50φの窓が2式、  又下チャンバーはCF70ポートが6式標準...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

  • スパッタリング装置『MiniLab-026』 製品画像

    スパッタリング装置『MiniLab-026』

    小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

    必要最小限のモジュール・コントローラをPlug&Play感覚で19"コンパクトラックに組込む事により無駄が無く、小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。 マグネトロンスパッタ(最大3源)もしくは抵抗加熱蒸着(金属源 最大4、有機材料x4)に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、プラズマエッチングも製作可能。 グローブ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • TMPタイプ 真空蒸着装置 製品画像

    TMPタイプ 真空蒸着装置

    簡単操作のTMP排気システム採用!拡張性に優れたテーブルトップ型真空蒸…

    「SVC-700TMSG/7PS80」は、TMP+RP型の抵抗加熱式真空蒸着装置です。コンパクトさと使い勝手の良さにこだわった装置です。 排気装置「SVC-700TMSG」と蒸着電源「SVC-7PS80」から構成されています。 シンプルかつイージーオペレーションで、将来の機能拡張までをも考慮しています 豊富なオプションにより、薄膜作製実験の幅が拡がります。 また、専用オプションにより、有機物の薄膜...

    メーカー・取り扱い企業: サンユー電子株式会社

  • 小型真空蒸着装置『HVE-100』【クリーンな成膜を実現!】 製品画像

    小型真空蒸着装置『HVE-100』【クリーンな成膜を実現!】

    クリーンな成膜が可能な小型真空蒸着装置!シャッタを具備しているので安定…

    『HVE-100』は省スペースな小型蒸着装置です。基板成膜面は下向きで 設置、抵抗加熱源からの蒸発で上向きに成膜する配置(デポアップ)です。 シャッタを具備しているので安定した状態で蒸着が可能です。 【特長】 ■高真空排気系:<10^-4Paの到達真空度でクリーンな成膜が可能 ■チャンバはメンテナンスしやすいようにSUS製で内部に防着板を配置 ■省スペース/小型化:W500×D39...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイブリッジ 東京営業所

  • LUXEL社製 抵抗加熱蒸着源(エバポレータ) RADAK 製品画像

    LUXEL社製 抵抗加熱蒸着源(エバポレータ) RADAK

    有機物蒸着にも対応。 コンパクトで取扱いが簡単な、抵抗加熱蒸着源

    RADAKはLUXEL社が30年以上にわたり提供している製品です。独自のデザインと技術に基づいた本製品は、汎用性があり、操作性に優れている上に、幅広い材料の蒸着にお使い頂けます。 ルツボの材質、ライナー、熱電対、その他のオプションを適切に選択し、組み合わせることで、有機薄膜デバイス(OLED)、薄膜電池、太陽電池など、さまざまな用途への対応が可能です。 蒸着、成膜を伴う実験を行われている方には...

    メーカー・取り扱い企業: ラドデバイス株式会社

  • 高真空蒸着装置『RD-1230』 製品画像

    高真空蒸着装置『RD-1230』

    サイリスタ制御により蒸着電圧及び、電流値の調整が可能!排気操作は全自動…

    高真空蒸着装置『RD-1230』は、ぺロブスカイト太陽電池電極作成用 小型蒸着装置です。 抵抗加熱機構を2対装備しており、サイリスタ制御により蒸着電圧及び、 電流値の調整が可能です。 排気系はターボ分子ポンプによる排気で、排気操作は全自動。 水晶振動式膜厚計もオプションで付けることができ、卓上型タイプとしては 高性能な成膜制御が可能です。 【特長】 ■ロブスカイト太...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社サンバック 本社

  • 真空蒸着装置『MiniLab-090』(グローブボックス用) 製品画像

    真空蒸着装置『MiniLab-090』(グローブボックス用)

    グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…

    80ℓ大容積MiniLab-080チャンバーをグローブボックスベンチ内に収納可能な構造にしたMiniLab-080のグローブボックスモデル。作業ベンチを最大限活用できるスライド開閉式チャンバー、メンテナンス性を考慮した背面開閉ドアを採用。プロセス処理後の試料を大気・水分に露出せずグローブボックス内の管理された環境内で一貫した処理ができます。GB, ガス精製機はGBモデルの仕様を参照下さい。 ◉ ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • スパッタリング装置『MiniLab(ミニラボ)シリーズ』 製品画像

    スパッタリング装置『MiniLab(ミニラボ)シリーズ』

    モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

    【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント(成膜ソース、ステージなど)、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で装置を構成することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 化合物半導体用蒸着装置(AAMF-C1650SPB型) 製品画像

    化合物半導体用蒸着装置(AAMF-C1650SPB型)

    先端光デバイスに最適な専用蒸着装置。低温・低ダメージ成膜で平滑な膜表面…

    従来型よりコンパクトなチャンバに大口径クライオポンプを採用、チャンバ各機構部に超高真空対応を採用し、クリーンな高真空環境を可能にしました。 蒸発源には水冷式反射電子トラップ付きの電子銃を使用しており、基板への電子の乳を防いだ低ダメージ成膜を実現しています。 実績豊富な6連式電子銃は高融点金属を含む多層膜電極形成に対応しています。また安定した蒸着が特徴でマイクロアークによる基板ダメージやドロップ...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • 高真空蒸着装置『KW-030D』 製品画像

    高真空蒸着装置『KW-030D』

    水晶振動式膜厚モニター搭載!コンパクト設計でクリーンな成膜が可能

    『KW-030D』は、小規模生産用及び各研究機関の実験用として、コンパクト 設計により初心者でも容易に作業ができる高真空蒸着装置です。 ターボ分子ポンプを搭載することにより、高真空での成膜が可能。 また、基板傾斜機構も搭載し、2軸の回転角度を調節することにより 斜め蒸着ができます。 【特長】 ■初心者でも容易に作業可能 ■ターボ分子ポンプ搭載 ■基板傾斜機構搭載 ■蒸...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社片桐エンジニアリング

  • 真空蒸着とは 製品画像

    真空蒸着とは

    ほぼ真空にした空間で薄膜を形成する成膜技術!真空蒸着の原理についてご紹…

    『真空蒸着』とは、ほぼ真空にした空間で、金属などの蒸着素材を加熱し、 蒸発もしくは昇華した粒子を基板の表面に衝突・付着・堆積させて 薄膜を形成する成膜技術です。 当社では、発熱体の両端に電圧をかけ、流れる電流によるジュール熱で 加熱する抵抗加熱式の真空蒸着装置を採用しています。 【特長】 ■ほぼ真空にした空間で、金属などの蒸着素材を加熱 ■蒸発もしくは昇華した粒子を基板の表面...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社奈良原産業

  • ディスペンス式ギャップフィラー【サーマギャップ】 製品画像

    ディスペンス式ギャップフィラー【サーマギャップ】

    ロボットプログラムによる自動実装も可能。製造・物流でのコスト低減に!2…

    サームゲル・パテはディスペンスで実装する熱伝導ゲル材です。 熱源と放熱器の間に発生するギャップを柔軟に埋めることができます。 ロボットプログラムによる自動実装も可能で、製造・物流などの コストが低減できます。 2液性と異なり、キュアされた製品であり、実装後すぐに使用でき、 熱処理などの後工程が不要です。 【特長】 ●密着性に優れ、きわめて低い熱抵抗を実現 ●圧縮後、ほぼゼロ反発...

    メーカー・取り扱い企業: 太陽金網株式会社 東京営業所

  • 【MiniLab-SA125A】 多元マルチスパッタ装置 製品画像

    【MiniLab-SA125A】 多元マルチスパッタ装置

    高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ(Φ4inch用)…

    連続多層膜、同時成膜(2〜6元同時成膜:RF, DCをHMIより自在に配置切替) 高出力RF, DC電源, パルスDC電源を独自の'プラズマ・スイッチング・リレー'モジュールでマルチカソードに自在に配置を組み合えることが可能、様々な用途に柔軟に対応 高温基板加熱ステージ(二重ジャケット水冷式)オプション -1) Max600℃(ランプ加熱) -2) Max1000℃(C/Cコンポジット) ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 【MiniLab-026/090】グローブボックス薄膜実験装置 製品画像

    【MiniLab-026/090】グローブボックス薄膜実験装置

    小型・省スペース! 有機薄膜開発に好適 蒸着・スパッタ・アニール等全て…

    OLED(有機EL), OPV(有機薄膜太陽電池), OTFT(有機薄膜太陽電池), 又, グラフェン, TMD(遷移金属ダイカルコゲナイド)などの2D材料における成膜プロセスでは、酸素・水分から隔離された不活性ガス雰囲気で試料を取扱う必要があります。 MiniLab-026/090-GBでは、PVDチャンバーをGB内に収納することにより有機膜用途の「酸素・水分フリー」実験環境をコンパクトな省ス...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • Epitaxial-EB蒸着装置 製品画像

    Epitaxial-EB蒸着装置

    最高900℃の高温プロセスが可能!エピタキシャル促進機構により単結晶成…

    『Epitaxial-EB蒸着装置』は、エピタキシャル促進機構により金属膜や酸化膜の単結晶成膜に適した製品です。 基板回転による優れた膜厚分布および再現性を実現させ、またチャンバの メンテナンスが容易。 リフトオフプロセスにも対応しており、適切な表面処理によりパーティクル 低減させます。 マルチチャンバ仕様やバッチ式も製作可能です。 【特長】 ■酸化促進ガス導入機構 ■...

    メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社

  • 卓上型蒸着装置『Meius Light』 製品画像

    卓上型蒸着装置『Meius Light』

    学生向けの実験や教材作りに!卓上で簡単に使えるコンパクトな蒸着装置

    『Meius Light』は、一般家庭のAC100V壁コンセントから 導入が可能な卓上蒸着装置です。 チャンバは分割方式により多くの用途に応じたサブチャンバを搭載可能。 【特長】 ■卓上で簡単に使えるコンパクトサイズ ■蒸発源はタングステンボート2個搭載 ■マグネット駆動式基板シャッタ装備 ■非常停止スイッチ装備 ■排気系はターボ分子ポンプ、電磁フォアバルブ、油回転ポンプの...

    メーカー・取り扱い企業: テクノウェーブ株式会社

  • リフトオフプロセス対応真空蒸着装置 製品画像

    リフトオフプロセス対応真空蒸着装置

    高周波・通信デバイスに多用されるリフトプロセスに対応した専用蒸着装置で…

    『リフトオフプロセス対応真空蒸着装置』は、 化合物半導体やSAWデバイスなど光デバイスや高周波・通信デバイスに 多用されるリフトプロセスに対応した専用蒸着装置です。 蒸発源に電子銃と抵抗加熱電極を装備しており、高融電極膜や貴金属を含む 厚膜の形成が可能。 基板への蒸発粒子の入射角の垂直性に優れており、成膜時の基板の温度上昇を 防ぐ各種機構(基板水冷機構、電子銃用反射電子トラップ...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • ウェハプロセス用真空蒸着装置 製品画像

    ウェハプロセス用真空蒸着装置

    膜厚均一性に優れた成膜機構と高速排気を実現!高品質の電極膜を安定して形…

    『ウェハプロセス用真空蒸着装置』は、6インチまでのウェハへの 電極膜形成に対応したバッチタイプ蒸着装置です。 ディスクリートIC、化合物IC、MEMSデバイスの量産用途に 豊富な実績を持っています。膜厚均一性に優れた成膜機構と高速排気を 実現するオイルフリー排気系により高品質の電極膜を安定して形成が可能。 量産用途の蒸着装置として高い稼働率を誇ります。 【特長】 ■信頼性...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • 卓上型蒸着装置『Mebius』 製品画像

    卓上型蒸着装置『Mebius』

    卓上で簡単に使えるコンパクトな蒸着装置

    『Mebius』は、学生向けの実験や教材作りに適した、コンパクトな 蒸着装置です。 電源は一般家庭のAC100V壁コンセントから導入が可能。 チャンバは分割方式により多くの用途に応じたサブチャンバを 搭載可能です。 【概要】 ■蒸発源はタングステンボート2個搭載 ■排気系はターボ分子ポンプ、電磁フォアバルブ、油回転ポンプの組合せ ■操作不要のマルチ真空ゲージ採用により、...

    メーカー・取り扱い企業: テクノウェーブ株式会社

  • 真空蒸着装置『MiniLab-026』 製品画像

    真空蒸着装置『MiniLab-026』

    小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

    必要最小限のモジュール・コントローラをPlug&Play感覚で19"コンパクトラックに組込む事により無駄が無く、小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。 マグネトロンスパッタ(最大3源)もしくは抵抗加熱蒸着(金属源 最大4、有機材料x4)に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、プラズマエッチングも製作可能。 グローブ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 3源抵抗加熱蒸着装置 製品画像

    3源抵抗加熱蒸着装置

    EB源増設ポート付!4インチ基板対応で、基板加熱機構と膜厚制御機構を備…

    当製品は、金属材料を対象とした3源切り替え式抵抗加熱蒸着装置です。 角型チャンバーにより、メンテナンス性が向上。 4インチ基板対応で、基板加熱機構と膜厚制御機構を備えています。 【特長】 ■基板寸法:100×100 ■基板加熱温度:常用600℃ ■基板回転ホルダー ■水晶式膜厚計 ■EB源増設ポート付 ■抵抗加熱源:100A 3源切替式 ※詳しくはPDF資料をご...

    メーカー・取り扱い企業: ケニックス株式会社

  • □■□【MiniLab-026】フレキシブル薄膜実験装置□■□ 製品画像

    □■□【MiniLab-026】フレキシブル薄膜実験装置□■□

    小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

    必要最小限のモジュール・コントローラをPlug&Play感覚で19"コンパクトラックに組込む事により無駄が無く、小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。 マグネトロンスパッタ(最大3源)もしくは抵抗加熱蒸着(金属源 最大4、有機材料x4)に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、プラズマエッチングも製作可能。 グローブ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 真空蒸着装置『MiniLab-080』 製品画像

    真空蒸着装置『MiniLab-080』

    蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570…

    80ℓ容積 400(W)x400(D)x570(H)mm D型ボックスチャンバーで構成されるML-080は、060と同等の構成で更にチャンバーを高くすることによりTS距離調整範囲が長く、大口径基板での蒸着時の膜均一性が向上、真空蒸着に最適なモデルです。ロードロック機構も追加できるML-060の上位機種。060同様に、コンパクトながら抵抗加熱蒸着(金属/絶縁物/有機材料),EB蒸着, RF/DC/P...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • □■□【MiniLab-080】フレキシブル薄膜実験装置□■□ 製品画像

    □■□【MiniLab-080】フレキシブル薄膜実験装置□■□

    蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570…

    80ℓ容積 400(W)x400(D)x570(H)mm D型ボックスチャンバーで構成されるML-080は、060と同等の構成で更にチャンバーを高くすることによりTS距離調整範囲が長く、大口径基板での蒸着時の膜均一性が向上、真空蒸着に最適なモデルです。ロードロック機構も追加できるML-060の上位機種。060同様に、コンパクトながら抵抗加熱蒸着(金属/絶縁物/有機材料),EB蒸着, RF/DC/P...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 真空蒸着装置『MiniLab(ミニラボ)シリーズ』 製品画像

    真空蒸着装置『MiniLab(ミニラボ)シリーズ』

    モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

    【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント(成膜ソース、ステージなど)、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で装置を構成することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 真空蒸着技術 製品画像

    真空蒸着技術

    製品の美しさはもちろんのこと、機能面もご満足いただける仕上がりにいたし…

    奈良原産業の『真空蒸着技術』を紹介します。 当社では、発熱体の両端に電圧をかけ、流れる電流によるジュール熱で 加熱する抵抗加熱式の真空蒸着装置を採用。 金属を蒸発させて、プラスチック製品などの非金属の表面を金属化する メタライジングにより、製品により洗練された光沢で高級感を付加いたします。 また、小ロット多種品の生産にも対応可能なライン構成となっています。 【特長】 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社奈良原産業

  • □■□【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置□■□ 製品画像

    □■□【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置□■□

    グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…

    80ℓ大容積MiniLab-080チャンバーをグローブボックスベンチ内に収納可能な構造にしたMiniLab-080のグローブボックスモデル。作業ベンチを最大限活用できるスライド開閉式チャンバー、メンテナンス性を考慮した背面開閉ドアを採用。プロセス処理後の試料を大気・水分に露出せずグローブボックス内の管理された環境内で一貫した処理ができます。GB, ガス精製機はGBモデルの仕様を参照下さい。 ・最...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 多元マルチスパッタ装置【MiniLab-S125A】 製品画像

    多元マルチスパッタ装置【MiniLab-S125A】

    高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ(Φ4inch用)…

    連続多層膜、同時成膜(2〜6元同時成膜:RF, DCをHMIより自在に配置切替) 高出力RF, DC電源, パルスDC電源を独自の'プラズマ・スイッチング・リレー'モジュールでマルチカソードに自在に配置を組み合えることが可能、様々な用途に柔軟に対応 高温基板加熱ステージ(二重ジャケット水冷式)オプション -1) Max600℃(ランプ加熱) -2) Max1000℃(C/Cコンポジット) ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

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