テルモセラ・ジャパン株式会社 ロゴテルモセラ・ジャパン株式会社

最終更新日:2018-10-14 18:09:11.0

  • 製品カタログ
  •  
  •  

◆nanoPVD-T15A◆ 卓上型高性能真空蒸着装置

基本情報◆nanoPVD-T15A◆ 卓上型高性能真空蒸着装置

nanoPVD-T15A

カタログ発行日:2018/10/15

限られたラボスペースを有効活用できる小型卓上ベンチトップサイズ装置に、最新の真空蒸着技術の全てを収納しました。

タッチパネル操作簡単 PLC全自動制御
難しい操作手順を必要とせずどなたでも直感的に操作ができる分かりやすいHMI。
USBケーブルでWindows PCに接続し、ログを保存、自動成膜レシピを作成保存。
限られた開発現場・ラボスペースを最大限有効活用ができる省スペース設計・メンテナンス性にも優れた小型卓上真空蒸着装置です。
◎コンパクトサイズ:804(W) x 530(D) x 512(H)mm
◎重量:40kg〜70kg(装置構成による)
◎優れた基本性能
・到達真空度 5x10-5Pascal
・高性能ターボ分子ポンプ搭載
・Φ2inchもしくはΦ4inch基板
◎蒸着源
・抵抗加熱式蒸着源 TE x 最大2基
・有機蒸着源 LTE x 最大4基(抵抗加熱TEと混在の場合、2基まで)
◎7"タッチパネル
◎連続成膜
・成膜プログラム自動制御
・30種類のレシピ登録
・高精度ワイドレンジ真空ゲージ
◎豊富なオプション
・基板回転
・上下昇降 50mmストローク
・基板シャッター
・ドライポンプ(RP標準)
・USBでWindows PCに接続、ログの保存管理

◆nanoPVD-T15A◆ 卓上型高性能真空蒸着装置

◆nanoPVD-T15A◆ 卓上型高性能真空蒸着装置 製品画像

卓上小型サイズにも関わらず、基本性能・膜質・均一性・操作性の全てを犠牲にせず、スタンドアローン大型機と同様の性能を実現しました。
更に簡単タッチパネル操作でPLC全自動制御。
難しい操作手順を必要とせずどなたでも直感的に操作ができる分かりやすいHMI。
USBケーブルでWindows PCに接続し、ログを保存、自動成膜レシピを作成保存。
限られた開発現場・ラボスペースを最大限有効活用ができる省スペース設計・メンテナンス性にも優れた小型卓上真空蒸着装置です。

 (詳細を見る

【nanoPVD-S10A】卓上型マグネトロンスパッタリング装置

【nanoPVD-S10A】卓上型マグネトロンスパッタリング装置 製品画像

高機能 ハイパフォーマンス RF/DCマグネトロンスパッタリング装置
● 到達圧力5 x 10-5Pa(*1x10-4Paまで最速30分!)
● スパッタ源 x 3:連続自動成膜制御, 同時成膜
● 膜均一性±3%
● 多彩なオプション:上下・回転、ヒータ、磁性材用カソード、他
● Windows PCにUSB接続 ログ保存、プログラムアップロード

◉ nanoPVDは、最大スパッタ源3源+3系統(MFC制御)、RF/DC PSUの増設(最大2電源まで)連続・同時成膜、など多目的にお使い頂くことができます。
・絶縁膜
・導電性膜
・化合物、他

【主な特徴】
◉ 対応基板:2"(1〜3源)、もしくは4"(1源)
◉ 2"カソード x 最大3源
◉ 7"タッチパネル簡単操作 PLC自動プロセスコントロール
◉ MFC搭載高精度プロセス制御
◉ Arガス1系統(標準) + N2, O2 最大3系統まで増設
◉ USB端子付 Windows PCに接続し、最大1000layer, 50filmのレシピを作成・保存。PCでデータロギング。
◉ 他、多彩なオプションを用意 (詳細を見る

卓上型『真空蒸着装置』&『スパッタリング装置』

卓上型『真空蒸着装置』&『スパッタリング装置』 製品画像

『nanoPVDシリーズ』は、材料研究・新素材開発・電子デバイス開発などの基礎実験・研究開発用に多目的にご使用いただける小型・高性能真空薄膜実験装置です。

nanoPVD-S10Aは、Ф2inchマグネトロンカードを最大3基搭載、基板回転・上下昇降・加熱500℃シャッターなどのオプションが充実、RF・DC電源両対応、最大3系統のガス入力(MFC制御)に対応。充実した基本性能と豊富なオプションで高品質の成膜が可能となります。

nanoPVD-T15Aは、抵抗加熱蒸着源を最大2基、有機蒸着源最大4基まで搭載し、金属膜・絶縁膜の多層膜、連続成膜が可能な基本性能に優れた蒸着装置です。

【特長】
■SUS304高真空チャンバー:真空到達度5x10-5Pascal
■PLC自動制御、11"タッチパネルによる直感的操作
■装置寸法:804(W)x530(D)x512(H)mm(*T15A寸法)

※上記2製品、及び【nano BenchTopシリーズダイジェストカタログ】【MiniLabフレキシブル薄膜実験装置】のカタログを進呈中です!ダウンロードしてご覧ください。 (詳細を見る

【Mini-BENCH 】超高温小型卓上実験炉 Max2200℃

【Mini-BENCH 】超高温小型卓上実験炉 Max2200℃ 製品画像

◉ 卓上サイズ 省スペース:328(W) x 220(D) x 250(H)mm
◉ るつぼ内サンプル焼成用(るつぼΦ50 x 100), 又はΦ1", Φ2"ウエハー焼成用フラットヒーター
◉ ハイスペック&ハイコストパフォーマンス
◉ 簡単メンテナンス:炉内部品交換が容易
◉ シンプルな構成、メンテナンス性に優れる超高温小型実験炉

実験室での小片試料の超高温加熱実験、新素材研究開発などのさまざまな試料加熱実験が、簡単な操作で行えます。
不活性ガス,真空雰囲気中にて最高温度2200℃を達成!
本体は小型でありながらよりさまざまな分野の研究開発にお使いいただけます。 (詳細を見る

◆ANNEAL◆ 卓上型ウエハーアニール装置

◆ANNEAL◆ 卓上型ウエハーアニール装置 製品画像

高真空水冷式SUSチャンバー内に設置した加熱ステージにより最高1000℃までの高温処理が可能です。チャンバー内にはヒートシールドが設置されインターロックにて安全を確保。マスフローコントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です(APC自動プロセス制御システムオプション)。
又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設、などオプションも豊富。
チャンバー内加熱ステージは、プロセスガス雰囲気・処理温度により3種類のバリエーションがあります。

・ハロゲンランプヒーター:Max500℃
・C/Cコンポジットヒーター:Max1000℃(真空中、不活性ガスのみ)
・SiCコーティングヒーター:Max1000℃(真空、不活性ガス、O2) (詳細を見る

【nanoCVD】卓上型グラフェン/CNT合成装置

【nanoCVD】卓上型グラフェン/CNT合成装置 製品画像

◉ コールドウオール式による高効率・高精度プロセスコントロール
◉ 急速昇温:RT→1100℃/約3分間
◉ 高精度温度流量制御・再現性に優れたハイパフォーマンス機 (詳細を見る

【Nanofurnace】BWS-NANO 卓上型熱CVD装置

【Nanofurnace】BWS-NANO 卓上型熱CVD装置 製品画像

◉ グラフェン, カーボンナノチューブ
◉ ZnOナノワイヤ
◉ SiO2等の絶縁膜など
その他, ホットウオール式熱CVD装置として幅広いアプリケーションに対応 (詳細を見る

【MiniLab(ミニラボ)】シリーズフレキシブル薄膜実験装置

【MiniLab(ミニラボ)】シリーズフレキシブル薄膜実験装置 製品画像

MiniLab R&D用実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材質に応じて都度最適なコンポーネント(成膜源、ステージなど)、制御モジュールを組み込むことにより、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で搭載することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロセス実験への応用が可能になります。
MiniLabシリーズは、研究開発から小規模生産用途まで幅広く対応するハイコストパフォーマンスシステムです。 (詳細を見る

□■□【MiniLab-026】R&D用小型真空蒸着装置□■□

□■□【MiniLab-026】R&D用小型真空蒸着装置□■□ 製品画像

モジュラー組立式「Plug&Play」感覚で、必要なモジュール、コントローラ、コンポーネントを組合せて接続することにより構成される装置です。「MiniLabシリーズ」は、製作範囲が広く、抵抗加熱式蒸着(標準)、EB蒸着、スパッタなどご要望に対してフレキシブルにシステム構成することができるフルカスタムメイド装置です。
MiniLab-026は、シリーズ最小構成の抵抗加熱蒸着専用機です。オプションでグローブボックス連結仕様へのアップグレードが可能。

まずは当社までご相談下さい、別途ご要望に対しての最適なシステムをご提案致します。 (詳細を見る

【MiniLab-M307】ローコストベルジャー式真空蒸着装置

【MiniLab-M307】ローコストベルジャー式真空蒸着装置 製品画像

低コスト版ベルジャー式真空蒸着装置
下記蒸着源から組合せが可能
・抵抗加熱蒸着源 x 最大4
・有機蒸着源 x 最大3
・カーボン蒸着源 x 1(オプション)
・2inchマグネトロンスパッタ x 1(オプション) (詳細を見る

◉MiniLab-WCF/WMF超高温ウエハー焼成炉2200℃

◉MiniLab-WCF/WMF超高温ウエハー焼成炉2200℃  製品画像

◉Max2200℃(真空中1x10-5Torr, N2, Ar)
◉WCF使用雰囲気:真空・不活性ガス(カーボン炉)
◉WMF使用雰囲気:真空・不活性・還元ガス(メタル炉)
◉試料台サイズφ2inch〜φ8inch
◉特注ウエハーホルダ(ウエハートレー)製作可能
◉SiC・GaNデバイス基礎研究、新素材・新材料開発、及びその他先端基礎技術開発部門で活用いただけます。 (詳細を見る

MiniLab-CF/MF 超高温小型実験炉Max2900℃

MiniLab-CF/MF 超高温小型実験炉Max2900℃  製品画像

Max2900℃(カーボン炉)、Max2600℃(メタル炉)
・有効加熱エリアΦ60(MiniLab-CF/MF-M)
・有効加熱エリアΦ150(MiniLab-CF/MF-L)
新素材・新材料開発、及び半導体・電子部品・燃料電池・大陽電池などの先端基礎技術開発部門でのさまざまなアプリケーションに対応。 (詳細を見る

◆◇◆ R&D用小型縦型実験炉 TVF-110 ◆◇◆

◆◇◆ R&D用小型縦型実験炉 TVF-110 ◆◇◆ 製品画像

小片試料〜3inch waferまでの小基板用 サセプタ手動昇降式縦型実験炉
大学・企業研究室での基礎実験用に最適な基礎実験用ローコスト版縦型炉

【用途】
◉ 半導体・太陽電池・燃料電池・電子基板等の熱処理
◉ 基礎実験:縦型管状炉・酸化拡散炉・LPCVD等の簡易熱処理実験 (詳細を見る

【SiC3コーティング グラファイト】部品

【SiC3コーティング グラファイト】部品 製品画像

短納期! 長寿命、密着性・均一性に優れたSiCコート部材
高純度・高耐熱性・熱伝導性等の基本性能に優れたCVD-Cubic SiC(立方晶窒化珪素)コーティングカーボン部品。
MOCVD, Epitaxialプロセス等でのウエハートレー・サセプターなど。
※長寿命、密着性・均一性に優れたウエハートレーを短納期で販売致します。

※ 母材は高純度グラファイトのみとなります。
※ ご支給材料へのコーティングは行っておりませんのでご了承下さい。 (詳細を見る

BHシリーズ【超高温薄膜実験用基板加熱ヒーター】Max1600℃

BHシリーズ【超高温薄膜実験用基板加熱ヒーター】Max1600℃ 製品画像

3種類のサイズ(Φ1, 2, 4inch)4種類のヒーター素線材質(NiCr, Kanthal, Graphite, SiC)に限定して標準化、部品在庫を持つことにより短納期・安価な価格を実現しました。
大学実験室・研究機関に限定した数量限定の製品です。

【特徴】
● 予備ヒーター素線との交換が容易
● 取り扱いが簡単(M6スタッドボルト、支柱)

【標準付属品】
● 熱電対:K素線タイプ アルミナ絶縁スリーブ付き(*C, Rの場合は別売)
● 取付用スタッドボルト

【オプション】
● 標準外素線も用意しております(W, Nb, Mo, Pt/Re, WRe)
● 取付ブラケット
● ホルダー設置用タップ穴加工 (詳細を見る

価格帯 10万円以上 50万円未満 納期

【SHシリーズ基板加熱ヒーター】真空成膜用 Max1100℃

【SHシリーズ基板加熱ヒーター】真空成膜用 Max1100℃ 製品画像

ヒータープレートにインコネルもしくはBNプレートを採用した、熱放射効率が良く、均熱性に優れた成膜装置・真空薄膜実験用高真空対応ホットプレートです。

【ラインナップ】
◎ SH-IN(インコネルプレート):φ1.0〜φ6.1inch 真空・O2・活性ガス用
◎ SH-BN(BNプレート, Moカバー):φ1.0〜φ6.1inch 真空・不活性ガス用

【特徴】
◎ 最高温度1100℃(SH-BN), 850℃(SH-IN)
◎ 短時間昇温
◎ 面内温度分布 ±2%以内
◎ 制御精度・再現性±1℃
◎ 低価格
◎ 短納期(標準約2週間 *フランジ付き, 回転・上下機構, 取付ブラケット付きなどは除く) (詳細を見る

【ホットステージ】超高温基板加熱ユニット Max1800℃

【ホットステージ】超高温基板加熱ユニット Max1800℃ 製品画像

半導体、電子基板、真空成膜プロセス装置・研究開発用【超高温基板加熱機構】
対応基板サイズ:2〜12inch
真空(UHV可能)・不活性ガス・O2・各種プロセス反応性ガス雰囲気等でご仕様いただけます。(詳細別途協議) (詳細を見る

【セラミック・トップ・ヒーターMax1800℃】1〜12inch

【セラミック・トップ・ヒーターMax1800℃】1〜12inch 製品画像

基板加熱ヒーター (窒化アルミプレート)Max 1800℃
対応可能サイズ 1〜12inch用、及び最大φ800まで

ヒーターエレメント:NiCr線(標準)、トッププレート材質:AlN(窒化アルミ)を採用した超高温・加熱効率に優れた成膜実験・製造装置用超高温基板加熱ヒーター(真空ホットプレート)です。(詳細はカタログダウンロードからお問合せ下さい。)
プロセス条件により、多種類のヒーター素線・材料を選択可能。
AlN以外に、石英プレート、インコネルプレートも製作可能 (詳細を見る

【円筒状】グラファイト/CCコンポジット/NiCrヒーター

【円筒状】グラファイト/CCコンポジット/NiCrヒーター 製品画像

ヒーター外周側への高温加熱、もしくは円筒内部への局部高温加熱など。
ご指定の仕様にて都度製作致します。
* 従来の金属ヒーターでは不可能だった高温領域が必要なアプリケーションに応用検討下さい。 (詳細を見る

「研究開発用超高温実験炉シリーズ」製品ダイジェスト

「研究開発用超高温実験炉シリーズ」製品ダイジェスト 製品画像

研究開発分野向け、各種実験装置を紹介します。
◉ MiniLab-CF/MF超高温小型実験炉 Max2900℃
◉ MiniLab-WCF/WMF超高温ウエハー焼成炉 Max2200℃
その他、特注で研究開発用高温炉を設計製作致します。
・縦型/横型炉
・エピタキシャル炉
他 (詳細を見る

【真空熱電対】

【真空熱電対】 製品画像

各種真空規格フランジを接続し、気密性を持たせた熱電対。Kタイプ(クラス2)、シース部SUS316もしくはインコネル。フランジサイズはICF34, ICF70, NW16, NW25, NW40。 (詳細を見る

価格帯 お問い合わせください 納期 1ヶ月以内

【クリーン・テント】

【クリーン・テント】 製品画像

収縮式簡易クリーンルーム「Clean Tent」
(開発元Moorfield Nanotechnology社)
短時間(最短30分!)で容易に施工が可能。
テント本体は畳んで専用バッグに収納、撤収持ち運びが簡単。 (詳細を見る

収縮式簡易クリーンブース『クリーン・テント』

収縮式簡易クリーンブース『クリーン・テント』 製品画像

『クリーン・テント』は、クラス100の清浄度に対応可能な
空気で膨らませる収縮式の簡易クリーンブースです。

30分ほどで設置でき、撤収作業もラクラク。
必要なときに必要な場所でクリーン環境を実現できます。

テント本体はコンパクトに畳め、専用バッグに収納可能。
製造工場や研究開発の現場で幅広く使用できます。

【特長】
■欧州EN規格H14対応のHEPAフィルタを採用
■長寿命設計のファン・フィルター・ユニット
■作業規模で選べるサイズバリエーション
■補強フレーム、ベンチなどオプションも充実

※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。 (詳細を見る

「PRODUCTS GUIDE 2018 Autumn」製品案内

「PRODUCTS GUIDE 2018 Autumn」製品案内 製品画像

研究開発分野向け、各種薄膜実験装置・加熱装置・コンポーネントを紹介します。
◉ 新製品「Mini-BENCH」シリーズ超高温小型卓上実験炉Max2200℃
◉ SiC3立方晶窒化珪素コーティンググラファイト部品
◉ 大気/高真空中/ガス雰囲気中あらゆるプロセス雰囲気に対応する基板均一加熱ヒーター。Max1800℃、φ1inchウエハ用から角型いずれも製作できます。ヒーターエレメントはNICr、グラファイト、CCC、グラファイトSICなど使用条件に応じて都度カスタマイズ致します。
◉ nanoベンチトップシリーズ 薄膜実験装置
◉ 真空導入端子・マグネトロンスパッタ源などの真空部品も取り扱います。 (詳細を見る

取扱会社 ◆nanoPVD-T15A◆ 卓上型高性能真空蒸着装置

テルモセラ・ジャパン株式会社

【営業品目】 1. CVD・PVD薄膜実験用超高温基板加熱ヒーター(1〜12inch) 2. R&D用真空薄膜実験装置 3. 超高温実験炉 4. 赤外線放射温度計 5. 真空用熱電対 6. 真空コンポーネント

◆nanoPVD-T15A◆ 卓上型高性能真空蒸着装置へのお問い合わせ

お問い合わせ内容をご記入ください。

至急度[必須]

ご要望[必須]


  • あと文字入力できます。

目的[必須]

添付資料

お問い合わせ内容

あと文字入力できます。

【ご利用上の注意】
お問い合わせフォームを利用した広告宣伝等の行為は利用規約により禁止しております。
はじめてイプロスをご利用の方 はじめてイプロスをご利用の方 すでに会員の方はこちら
イプロス会員(無料)になると、情報掲載の企業に直接お問い合わせすることができます。
メールアドレス

※お問い合わせの際、以下の出展者へご連絡先(会社名、部署名、所在地、氏名、TEL、FAX、メールアドレス)が通知されます。

テルモセラ・ジャパン株式会社


キーマンインタビュー