プロセス | イプロスものづくり

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コリオリ式マスフローコントローラ/メータ　Quantimシリーズ

PRコリオリ式微小流量の測定と制御の業界標準！幅広い流量レンジで液体・ガス…

『Quantimシリーズ』は、微小流量のガス/流体測定や制御において、高い精度とゼロ安定性を実現するコリオリ式マスフローコントローラ/メータです。特許取得済みのコリオリ式センサは、流体のタイプやプロセス変動に関係なく、低流量の測定が可能。その結果、条件が変化する場合でも、精度、安定性、繰り返し性、再現性の高いマスフロー測定と制御を実現し、卓越したパフォーマンスを提供しま...

メーカー・取り扱い企業： ITWジャパン株式会社
ギ酸還元対応　卓上型真空リフロー装置『VSS-450-300』

PR課題解決事例を進呈中！ギ酸還元でボイドレス・フラックス残渣ゼロの高信頼…

『VSS-450-300』は、はんだリフローや酸化還元処理の他、ペーストの焼結など、様々なアプリケーションにも柔軟に対応した卓上型真空はんだリフロー装置です。有効加熱エリアは300×300×50mmですので、高さのある部品実装にも余裕で対応することができます。【特長】 ■フラックスレスはんだ（還元方式）・フラックス入りはんだ両対応 ■卓上型サイズながら、最大到達温度...
メーカー・取り扱い企業：ユニテンプジャパン株式会社
ガスバリア性に優れ、耐薬品性の高いフッ素樹脂PTFEを解説

PTFEは耐薬品性、耐熱性、ガスバリア性に優れる稀有な樹脂です。

ッ素樹脂の中でも特にガスバリア性が高いことで知られています。これは、PTFEが非常に低い透過性を持つため、ガスや蒸気が容易に通過することができないためです。そのため、化学プラントや半導体製造プロセスなど、厳しい化学的条件下での使用に適しています。さらに、PTFEは耐熱性も高く、-200°Cから+260°Cの温度範囲で使用することができます。これにより、極端な温度条件下でもその性質を維...

メーカー・取り扱い企業：株式会社吉田ＳＫＴ
精密な表面処理で撥水性・撥油性・親水性・非粘着性を向上！

１μm以下のナノレベルの薄膜で撥水性、撥油性、離型性、非粘着性を実現。…

ナノプロセスは機能性材料を1μm以下のナノレベルの薄膜で基材に形成させるコーティングプロセスです。撥水性、撥油性・非粘着性・液滑落性などを向上させます。寸法変化をほとんど起こさず、光学特性を維...

メーカー・取り扱い企業：株式会社吉田ＳＫＴ
水素フリーDLCコーティング装置（高密度スパッタＡＤＭＳ装置）

　独自技術で従来に無い水素フリーDLC膜を形成（水素含有量１％以下）優…

従来に無い水素フリーDLC膜（膜中水素含有量１％以下）を量産装置で実現成膜プロセスに水素を使用しない高密度プラズマスパッタ技術を採用、新方式PVD装置（ADMS＝アーク放電式マグネトロンスパッタリング装置）水素フリーの緻密なDLC膜は従来の水素含有DLC膜に比べＭｏ添加の潤...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店
医薬品生産ラインのコストダウンに成功！表面処理技術紹介

品質向上とコスト削減、二つの課題を一挙に解決！医薬品製造の未来を塗り替…

医薬品は健康と命に深くかかわる製品であるため、シビアな品質が求められます。一方で、その生産には包装工程・搬送工程など普遍的な製造現場に通じるプロセスもあり、予期せぬライン停止や作業負荷、時間がかかりすぎるといったムダも存在します。ムダの削減すなわち「コストダウン」も医薬品生産の大きな課題です。吉田SKTの表面処理技術とは、さまざまな...

メーカー・取り扱い企業：株式会社吉田ＳＫＴ
大型プラズマエッチング装置

ウェハやガラス・大型基板のエッチング・アッシングに実績豊富なバッチタイ…

エッチング装置「ＥＸＡＭ」をベースとし最大Φ６００ｍｍもしくは５００ｍｍ□までステージを拡大。大型ステージでファインピッチのエッチング・各種有機物のアッシング・表面改質・クリーニングなど幅広いプロセスに対応「従来機種ＥＸＡＭ」同様にウェハ・ガラス・セラミック基板のエッチングを行なうと共に大型実装基板・カット済みのフィルム基板のエッチング・クリーニング・表面処理にも実績豊富。電子デバイス...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店
Ｃｕエッチング対応高密度プラズマエッチング装置

新プラズマ源ＨＣＤ（ホローカソード放電）電極搭載、各種メタルやＣｕ薄膜…

新開発プラズマ源HCｄ（ホローカソード放電）型電極搭載。無磁場・無アンテナのシンプルなk構造で従来型電極より一桁高いプラズマを密度を実現。独自開発高密度プラズマと独自プロセスで各種メタルだけでなくＣｕ薄膜などの難エッチング材のエッチングに対応。新開発HCD型ヘッドはスケールアップが容易で矩形基板や大型基板の高精度エッチングが可能。３００ｍｍウェハや積層基板、最...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店
【英語版】MECOSTRIP AU-2プロセス資料

連続めっき装置およびフープめっき装置用に開発した選択フラッシュ金めっき…

日本において40年近くの実績を誇る、半導体後工程用、半導体向け選択部分銀メッキ用および、コネクターめっき関連向けのめっき用薬品です。日系大手企業には特に実績があります。連続めっき装置およびフープめっき装置用に開発した選択フラッシュ金めっき用のバック剥離剤です。シアン化カリウム（青化カリ）を入れて使用可能です。詳細はPDF（英語版の技術資料）をダウンロードお願いします。......

メーカー・取り扱い企業：株式会社河口・サポート名古屋事務所
新型コロナウイルス感染症向け免疫/分子デバイスの受託開発・製造

MINIFABとSCHOTT NEXTERION(R)の提携で、新型コ…

した診断およびライフサイエンス製品に変換する事業において18年以上の経験を持っています。 MINIFABの卓越した設計チーム、バイオサイエンスチーム、エンジニアリングチームは、独自のテクノロジーとプロセス技術を組み合わせ、製造用に設計された市場対応製品を生み出しています。MINIFABのISO 13485およびISO 9001認定プロセスは、パイロットラインからハイボリュームのGMP製造および物流...
メーカー・取り扱い企業：ショット日本株式会社
【英語版】MECOSTRIP CPL AGCUプロセス資料

連続めっき装置およびフープめっき装置用に開発された、連続めっきのステン…

日本において40年近くの実績を誇る、半導体後工程用、半導体向け選択部分銀メッキ用および、コネクターめっき関連向けのめっき用薬品です。日系大手企業には特に実績があります。連続めっき装置およびフープめっき装置用に開発された、連続めっきのステンレスベルトから銀・銅を剥離する電解剥離剤です。詳細はPDF（英語版の技術資料）をダウンロードお願いします。...詳細はPDF（英語版の技術資料）を...

メーカー・取り扱い企業：株式会社河口・サポート名古屋事務所
粉末用イオン注入装置

IonPOWDERによる粉体の革新的な表面処理。粉体へのイオン注入…

のガスが使用可能（Ar, He, N2, O2, SiH4, 混合ガス）･装置はレシピで動作可能･PVD(physical vapor deposition)機構も、増設できます。 プロセスの利点低温表面処理：元の材料特性が保持されます。コーティング不要：イオンが深部までで注入されるため、表面は剥がれません。部品の形状を尊重：追加の加工が不要です。精密で局所的な表面処...

メーカー・取り扱い企業：株式会社マツボー
小サイズ用卓上ディップコーター(デモ機、レンタル機貸出中)

"幅広い速度と可動域、革新的なディップコーター" +++++++++…

的な柔軟性と性能を提供します。300mmの広大な可動域と0.1mm/秒から60mm/秒この設備はナノテクノロジー、半導体製造、生体医学、光学、材料科学など、幅広い分野での革新的なコーティングとプロセス制御に貢献します。微細な構造物やナノマテリアルの合成、高精度なパターン形成、生体適合性のコーティング、光学デバイスの性能向上、新材料の研究、さらには触媒の開発まで、無限の可能性を開きます。この...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ＳＤＩ
【表面処理解決事例】紫外線硬化樹脂を1μmの薄膜表面処理で離型！

ディスプレイパネル封止用UV硬化樹脂の付着防止を実現！超薄膜表面処理『…

またコーティング時の400℃の熱処理により治具に歪みが発生したり、　封止樹脂の硬化に必要な紫外線がコーティングの密着性を損ない、　使用できませんでした。 ■解決コーティング　ナノプロセス(R)　TLS-200 ■課題解決・樹脂付着防止により製品不良激減・精密性改善により治具の長寿命化を実現・生産効率向上 ※解決の効果や経緯などはPDFをダウンロード頂くかお...
メーカー・取り扱い企業：株式会社吉田ＳＫＴ
ロールtoロール式減圧プラズマ処理装置『PR Series』

ロール状フィルム基材の処理に対応。減圧プラズマ処理により、アッシン…

レジストアッシング、絶縁膜エッチングをはじめ、用途に応じた様々な官能基（親水, 親油, 密着性向上,など）を基材表面に強固に付与することができます。本社にデモ機を完備し、随時プロセス評価処理をお請けしております。詳しくはお問い合わせください。【特長】 ■ロールtoロールタイプ ■減圧下でプラズマ処理　・大気圧装置と比べて有機物除去効果や表面改質効果が高い ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社電子技研
真空装置　平行平板評価用プラズマ処理装置　　

半導体、液晶の微細パターニング、DNAチップ製造など微細異方性加工に広…

チャンバー手動開閉式研究開発用タイプから大気ゲート、搬送機構、カセットステーションを増設した全自動システムまで貴社のご要望に適したバージョンが選択できます。プロセス再現性を重視し電極温調用チラー、ＡＰＣを標準装備し、高真空プロセス対応のターボポンプを増設することができます。【特長】 ○RIEプラズマエッチング装置 ○6インチまでのシリコンウエハ、...

メーカー・取り扱い企業：株式会社電子技研
薄膜試作・共同開発・受託開発

薄膜試作・共同開発・受託開発

株式会社SNTは、慶應義塾大学白鳥研究室の研究成果を元にした「試作・共同開発・受託開発」を通じて、ウェットプロセスナノテクノロジーの技術を広める会社です。【特長】弊社が蓄積した技術を活かし、お客様に最適な薄膜サービスを提案いたします！ ◆撥水・撥油膜 ◆光学・導電膜 ◆ウ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社SNT
【エッチング装置/アッシング装置部品の保護膜に】Y5O4 F7膜

Y5O4 F7膜は表面フッ素量変化が小さいのでエッチング装置のエージン…

半導体製造工程の一つであるドライエッチングプロセスにおいてウェハ処理を行うと、プロセスガス自体からの生成物やエッチング時の副生成物がチャンバ内壁やチャンバ内のパーツ表面に付着するといった現象が発生すします。これら堆積物の付着によってプロセスの初期...

メーカー・取り扱い企業：つばさ真空理研株式会社横浜ラボラトリー
ステンレススティール表面処理【耐摩耗性を大幅に強化】

コーディングの様に剥がれない！ステンレス耐摩耗性を強化する表面改質技術

ensitic・Ferritic等）の強度・耐摩耗性および耐腐食性を向上させる新技術＆サービスを提供しております。「EXPANITE」は、単なるコーティングではなく、ステンレス表面部分（厚みはプロセス等による）をダイレクトに改質する高品質・高性能な技術です。用途・目的に合わせて３つのプロセスをご用意しております。プロセスの表面も非常にクリーンなため、洗浄不要です（用途・目的による）。 ■...

メーカー・取り扱い企業：エア・ブラウン株式会社営業開発部
原子層堆積（ALD）装置

豊富なプロセスレシピを持ちながらも非常に小型な原子層堆積装置

コンパクトな卓上型ALD。半導体デバイス、有機太陽電池、ナノワイヤー、量子ドットなどへの成膜により、表面保護や改質など様々なデバイス開発にご使用いただけます。 プロセスはALD・CVDの材料開発拠点で開発されたもの。順次レシピを増やしてゆき、新規のプロセス開発も承っております。...

メーカー・取り扱い企業： ALDジャパン株式会社
溶射とクロムメッキの違い

耐摩耗性が著しく向上！処理時間が早くドライプロセスのため、乾燥時間が不…

、耐摩耗性が著しく向上します。【溶射の長所】 ■メッキと違い処理槽の枠にとらわれないので、処理槽に入らないような　大きな製品も処理できる（部分処理も可能） ■処理時間が早く、ドライプロセスのため、乾燥時間が不要 ■膜厚としては0.5mm～50mm程度で、薄膜厚膜対応が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：大阪富士工業株式会社
セルテス　低温PVDコーティング加工

低温処理で安定した密着性コーティング！200℃以下の低温処理が可能

特殊スパッタリングおよびプラズマＣＶＤプロセスの採用により低温プロセスで高膜厚精度で密着力にすぐれた耐摩耗、耐焼付き、低摩擦係数などすぐれたトライボロジー特性を持つコーティングを豊富な実績と経験に基づいて高品質、短納期にて請け負います。特にＣ...

メーカー・取り扱い企業：ナノコート・ティーエス株式会社石川事業所
低温DLCコーティング『DOWA-DLC』

金型の耐摩耗性・耐凝着性向上や、機械部品の低フリクション化に！　　～耐…

「DOWA-低温DLC」は、当社独自のPVD+P-CVDプロセスで成膜することにより、耐摩耗性・耐凝着性・低フリクション化に優れた、DLC皮膜を形成するコーティング加工です。成膜装置に高電圧パルス電源を搭載し、DLC皮膜表面の平滑性を保ちつつ...

メーカー・取り扱い企業： DOWAサーモテック株式会社
【金属熱処理ガイド】表面処理とは

材料技術（cf.）の一分野！加工、熱処理などの材料プロセス技術分野と並…

絶縁性、密着性、および、装飾性や美観など、これらの性質のいくつかを向上させることを主要な目的として施されます。材料技術（cf.）の一分野であり、加工、熱処理、溶接、鋳造などの材料プロセス技術分野と並立する存在です。【表面処理とは】 ■素材表面の性質を高めるために行われる機械工作法の一種 ■硬さや耐摩耗性、潤滑性、耐食性、耐酸化性といった性質の　いくつかを向上させる...
メーカー・取り扱い企業：株式会社伊藤熱処理
コーティング「セルテスT多層コーティング」

セルテスラインアップに新規多層被膜登場！

冷間鍛造金型・打抜き金型の耐荷重性・耐衝撃性向上にセルテスT 多層コーティング。 PBS（プラズマブースタースパッタリング）プロセスにより250℃以下の低温処理が可能です。低温処理にもかかわらずロックウェルC スケール150kgf 押込み試験でも剥離がまったく観察されません。【特徴】 ○低温処理でも高密着力 ○...

メーカー・取り扱い企業：ナノコート・ティーエス株式会社石川事業所
クラスター装置『Morpher』

デバイス量産へ、優れたプロセス品質、信頼性、高スループットを提供！

ペクト比サンプル（最大1：2500）〇基板材料：Si、ガラス、化合物半導体各種＜処理温度と容量＞〇～300℃ 〇最大1000ウエハ／24時間@膜厚15 nm Al2O3 ＜一般的なプロセス＞〇1桁秒～のサイクルタイム可能なバッチプロセス 〇Al2O3、SiO2、Ta2O5、HfO2、ZnO、TiO2、ZrO2、メタル〇バッチ1％未満の1σ不均一性（Al2O3、WIW、WT...

メーカー・取り扱い企業： PICOSUN JAPAN株式会社
SDR型巻取式スパッタリング装置（RｔｏＲタイプスパッタ装置）

サンプルテスト対応中　フィルム・金属箔に成膜、フレキシブルデバイスや先…

ＦＰＣに代表されるフレキシブル電子デバイスの量産に実績対応。社内デモ機によるプロセスサポートにより各種の個別要求に確実に対応。一般的な樹脂フィルムだけでなく金属箔を含む幅広い基板に実績独自開発による高使用率カソードと実績豊富な搬送機構により安定した稼動を実現。プラズマ...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店
HEF DURFERRIT JAPAN株式会社　事業紹介

世界の環境・エネルギー問題の改善に貢献するH.E.Fグループ

ライボロジー研究センターとして創業したH.E.Fグループは、物質の表面処理加工に関する多くの技術を開発し、特許を取得、ライセンスを世界中に販売してきました。更に、近年では樹脂製筐体への表面処理プロセスも開発し、電磁遮蔽コーティングサービスも新たにラインナップ。世界を舞台に事業を拡げています。 H.E.Fグループは、研究開発と製造工場両方を備えています。そのため、お客様のニーズにあわせ...
メーカー・取り扱い企業： HEF DURFERRIT JAPAN株式会社
高密着性　低温ＰＶＤコーティング

高密着性　低温ＰＶＤコーティング

安定した密着性！ＰＢＳ（プラズマブースタースパッタリング）プロセス クロムメッキ代替ドライコーティング ■□■特徴■□■ ■低温処理で安定した密着性・２５０℃以下の低温処理が可能なため、ＳＣＭ浸炭鋼やＳＫＳ、　ＳＵＪ等にも、母材硬度低下を最...

メーカー・取り扱い企業：有限会社ツール・テック東北
真空機器関連商品　EBEP処理装置＜FAP-EB/2D＞

CVD、エッチング、表面改質のプロセスに最適です。

真空機器関連商品　EBEP処理装置＜FAP-EB/2D＞は、低圧高密度プラズマによる高速・高品質表面処理装置で、CVD、エッチング、表面改質のプロセスに最適です。低圧力領域においてエネルギー可変電子ビームにより、プロセスガスを高効率に解離、電離を行なうことができ、高密度の活性種を生成することが可能。CCPプラズマ、ICPプラズマでは達成できない...

メーカー・取り扱い企業：株式会社片桐エンジニアリング
円形塗布装置『RSコータ』

独自スリットダイで自由に円形塗布！Spiral Coaterに代わる新…

（塗布液使用量はスピンコータの1/3以下） ■洗浄液の使用量及び廃液量も大幅に削減でき、よりエコな生産が可能に ■異形材料への塗布、異形状の塗布が可能システム提案も対応いたします。 プロセスフロー例：ロードポート（EFEM） → アライメント →コータ → BAKE → CP → ロードポート（EFEM) 乾燥プロセス Option：VCD（真空乾燥装置）焼成プロセス Op...

メーカー・取り扱い企業：中外炉工業株式会社
環境対応型防錆処理　ジコラムコーティングシステム

環境対応型亜鉛アルミ被覆プロセスで薄膜長期防錆処理

環境対応型高耐食亜鉛アルミ被覆プロセス『ZICOLLUMTM（ジコラム）』は、完全クロムフリー、無水素脆性、無排水処理が可能な表面処理剤です。各種金属締結部品やプレス品への薄膜長期防錆処理を行います。至誠を以って一貫したサービスをご提...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ウチダウィンスター事業部
ステルスダイシング受託加工サービス

水分を嫌うデバイスに！完全ドライプロセスのレーザーカッティング技術

局所的にレーザー加工を行い、エクスパンドにより基板を分割する技術です。ウェーハ表面に損傷を与えず内部のみを割断するため、チップ裏面のチッピングは極小に抑えられます。また、完全ドライプロセスの為、水分を嫌うデバイスやコンタミネーション防止などに適した加工技術です。【特長】 ■対応サイズ：φ2～φ8インチ ■少量から対応可能 ■薄si ウェハの切断がとくに有効 ■高...

メーカー・取り扱い企業：株式会社アシストナビ
エレクトロニクスの発展に貢献するOKUNOの技術をテーマに出展！

表面処理・めっきの技術相談窓口、奥野製薬工業が、半導体パッケージや実装…

ッグサイトで開催されますJPCA Show 2023内の半導体パッケージング展に出展いたします。ウエハ、パッケージ基板、プリント配線板、FPC向けのめっき技術や、パワーモジュール向けめっきプロセス、電子部品向けガラス材料などの新製品を多数出展いたします。ぜひ、東京ビッグサイト東6展示場、6C-05の弊社ブースにお立ち寄りください。 ■プリント配線板／半導体パッケージ基板向け製...

メーカー・取り扱い企業：奥野製薬工業株式会社大阪・放出、東京、名古屋など
円筒状基材用ディップコーター(DT-2002)

「円筒多重コーティング、エアーピッカーの妙技。」

、円筒および円柱状の機材のコーティングに革命をもたらします。一度に複数本を塗布可能なこのディップコーターは、効率性と品質において新次元を切り拓きます。特筆すべきは、その妙技的なコーティングプロセスです。複数の機材を同時に処理するため、作業効率が飛躍的に向上します。この効率の良さは、製造業、工業プロジェクト、大規模な設備において貴重な時間とリソースの節約を実現します。我々のディップコ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ＳＤＩ
ALD（原子層堆積）装置

2重構造チャンバによるメンテナンス負荷低減と内容積のコンパクト化を実現…

【オプション例】・プロセス排気用除外設備・マニュアルハンドリングから自動搬送システムまで対応・不活性ガス用ピュリファイア・プリカーサボトルサイズの選択・お客様の仕様にあわせカスタマイズ化・低価格のＡＬＤ...
メーカー・取り扱い企業：ワッティー株式会社
水素プラズマクリーニング装置（イオンクリーニングタイプ）

H2（水素プラズマの還元力で各種基板表面クリーニング。表面酸化層除去効…

実装基板用のプラズマクリーニング装置「POEM]及び量産用プラズマクリーニング装置のハードを応用、クリーニング用ガス及びプロセスレシピをバージョンアップ。豊富なレシピによる目的別クリーニングプロセスを実現。水素ガス単体によるプラズマクリーニングの高還元性クリーニングに加え、Ａｒ＋Ｈ２の混合ガスによる物理洗浄／還元洗...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店
熱化学処理『窒化処理』

優れた耐食性を実現！環境に配慮した処理プロセスの窒化処理

uid Ionic Nitriding)技術を適用しています。軟窒化処理で硬質クロム鍍金を代替できます。【HEF窒化処理の特長】 ○優れた耐食性 ○高い耐摩耗性 ○環境に配慮したプロセス 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...

メーカー・取り扱い企業： HEF DURFERRIT JAPAN株式会社
【革新的補修】コールドスプレーによる立体補修・積層造形

高温高圧による革新的補修の提供を2023年から本格始動！

『コールドスプレー』は1980年代にロシアで開発された技術であり、材料を固相状態のまま基材に高速で衝突させて皮膜を形成する表面処理です。成膜プロセスは材料の融点以下で行われる為、溶接やめっきなどの既存技術でどうしても免れることが出来ない熱変質、材料の酸化や劣化などがなく、殆どバルク材と同等の性能を維持したまま成膜できます。またコールド...

メーカー・取り扱い企業：カンメタエンジニアリング株式会社
カラーフィルター基板再生装置

液晶用カラーフィルターの製造工程で発生した不良基板を素ガラス基板に…

・弊社は液晶用カラーフィルター基板再生装置のパイオニアです。・コストパフォーマンスが極めて高い設備です。・短期間で設備投資費用を回収できます。・豊富な製作実績に基づく適切なプロセス・仕様提案が可能です。・運用方法からプロセス管理方法まで提案可能です。・第４～第８世代（G4～G8）のマザーガラスに対応可能です。・BM & RGB層（着色層）から透明導電体層（ITO...

メーカー・取り扱い企業：進和工業株式会社本社工場
導電性カーボン薄膜形成装置（アーク放電スパッタリング装置）

導電性カーボン薄膜をスパッタリングで形成。低温（４００℃以下）で不活性…

独自高密度スパッタ法　アーク放電型マグネトロンスパッタリング法（ＡＤＭＳ法）によりメタル成膜と同等のプロセスで導電性カーボン薄膜を形成。従来のスパッタカーボン薄膜に比べて格段に緻密で高い密着性が特徴。導電特性と膜の安定性よりエネルギー・バイオセンサーなどの新分野に対応導電性カーボン薄膜は硬度...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店
標準バッチバッチタイプ蒸着装置（ＡＭＦシリーズ）

電子デバイス用途のスタンダードシリーズ。Ｒ＆Ｄ用の多目的小型研究用から…

対応で各種選択機構を装備。実績豊富な標準仕様から個別要求に細やかに対応。蒸発源・加熱温度・基板機構（プラネタードーム・公転ドーム）操作・ロギングソフト　全てカスタマイズＯＫ社内デモ機でプロセステストも対応　幅広く柔軟なハード＆サポート　 ...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店
ＳｉＣコーティング装置（ＡＦ－ＩＰ装置）

緻密で耐摩耗性と耐酸化性に優れたＳｉＣ（シリコンカーバイド）膜をＰＶＤ…

。４００℃以下の低温で緻密で耐摩耗性・耐酸化性に優れたＳｉＣ膜を形成可能とした新成膜技術を採用。個体シリコンを出発材料としたイオンプレーティング法のためシンプルで環境負荷の少ないクリーンなプロセスを実現。膜厚や膜質の制御性も高くＣＶＤに比べ、排ガス処理・メンテナンス性・設置面積・ランニングコストの全てに優れた新成膜装置 ...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店
アークフィラメント式イオンプレーティング装置　

緻密な酸化膜厚膜（～１０μｍ）を高速形成。新開発イオン化機構搭載　Ｃ…

緻密で耐プラズマ性の高いイットリア膜やＳｉＣ膜を高速形成。高密度プラズマによる反応性プロセスによりCVDより低温で溶射法より緻密な膜質を実現。半導体関連部品にも応用可能なクリーンな成膜プロセスを実現。 PVD法のため装置のメンテナンスも容易で低コスト。絶縁膜（酸化膜・炭化膜）を...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店
【資料】ダイカスト金型表面温度監視システム

ダイカスト加工工程を保つために莫大な信頼できるデータを供給します！

当資料は、マーポスが取り扱う『ダイカスト金型表面温度監視システム』についてご紹介しています。「ダイカストプロセスの最適化」をはじめ、ダイカスト金型の温度の影響をを説明した「適切な金型表面温度分布のモニタリング」などを、写真と図、表を用いて掲載。ぜひ、ダウンロードしてご覧ください。【掲...

メーカー・取り扱い企業：マーポス株式会社
防錆と抗菌の両立。壮麗な青黒色皮膜を形成する3価クロムめっき液他

各種金属の防錆技術や今、気になる抗菌・抗ウイルス処理、低周波対策など、…

紹介】・アルミニウム、マグネシウムなどの各種金属に絶縁性・耐食性を付与するシリカ系コーティング剤・光学部品向け。アルミニウムに微細な凹凸を形成することで幅広い波長で反射率5％以下を実現するプロセス ・着氷防止などに。浸漬処理だけでアルミニウムに撥水性を付与するプロセス ・装飾用途だけじゃない。抗菌・抗ウイルス性のめっき皮膜を形成する3価クロムめっき液・パワー半導体の高温環境下での使...

メーカー・取り扱い企業：奥野製薬工業株式会社大阪・放出、東京、名古屋など
撥水コーティング装置テスト受付中

プラズマ処理で撥水コーティング。低温処理で樹脂フィルムに対応。サンプル…

エッチング・クリーニングで実績豊富なプラズマ技術で撥水コーティングに対応。樹脂フィルム・ガラス・金属薄膜、多種の基板を撥水処理。 プロセス変更で親水化やクリーニングにも対応コパクト・リーズナブル・高信頼性、サンプルテストでプロセス開発に協力。実績と対応のプラズマ表面処理装置...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店