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真空はんだリフロー装置・酸化膜還元装置『RSS-210-S』
PRギ酸・水素還元両対応!最大200mm×200mmの基板に対応可能な卓上…
ギ酸・水素還元両対応卓上型真空はんだリフロー装置です。 業界最小クラスのコンパクトさながら、 大気・窒素・還元雰囲気(ギ酸または水素)、 また真空リフローにも対応。 さらに高速昇温・水冷方式による高速降温を実現しているので 研究開発や試作に適したモデルです。 はんだリフローや金属の酸化膜還元処理の他、ペースト材料の焼結など、様々な アプリケーションにも柔軟に対応します。 【特長】 ■フラック...
メーカー・取り扱い企業: ユニテンプジャパン株式会社
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特長的な基板にも対応可能な!3D局所加熱のIHはんだ付け装置
PR大きな熱量の出力も可能なため幅広い基板に"1台"で…
『S-WAVE301H』は、大きな熱量を要するプリント基板を スポット加熱する製品です。 バスパー、パワー半導体、4層基板、高多層基板、厚銅基板、 セラミック基板、金属ベース基板といった特長的な基板にも対応可能。 低消費電力、高い加熱効率などの特長はそのままです。 ご用命の際は、当社へお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■低消費電力、高い加熱効率 ■大きな熱量を要...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社富山技販
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チップ部品等の微小実装部品から、基板・コネクターなどのその場観察を実現
「MS-HP500」は、チップ部品等の微小実装部品から、基板(□100mm)・コネクターなどの、その場観察を実現します。 サンプルだけの赤外線集光で秒速高温均一加熱、クリーン加熱とクリヤーな高温観察・簡単構造でメンテナンスフリーなどの特徴があります。 基本構成は、加熱炉本体、試料ホルダー(□100mm石英ホルダー・R熱電対・均熱板)、温度制御器となっています。 【特徴】 ○サンプルだけ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社米倉製作所
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雰囲気処理が可能!シビアなクリーン環境にも対応可能なIR炉です
枚葉式のIR炉です 【特長】 ◆ハイレベルなクリーン度 自己発塵の無いクリーンな構造により、高いクリーン性能を持っております。またシビアなクリーン環境を求められるアレイ基板の処理にも対応可能です。 ◆高い加熱効率 加熱効率に優れた、遠赤外線(IR)加熱方式を採用しており、あらゆる膜厚に対し高効率な処理が可能です。配向膜やパッシベーション膜など厚い膜の処理に最適です。 ◆優れた温度均...
メーカー・取り扱い企業: 光洋サーモシステム株式会社 営業管理部
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Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板…
高真空水冷式SUSチャンバー内に設置した加熱ステージにより最高1000℃までの高温処理が可能です。チャンバー内にはヒートシールドが設置されインターロックにて安全を確保。マスフローコントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です(APC自動プロセス制御システムオプション)。 又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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高真空でも大気圧でも均一加熱、安定加熱 乾燥・脱ガス・ベーキング・ア…
800mm□×800mmH/バッチの大量処理が可能な多用途対応の真空オーブン。 高真空処理・真空置換後の不活性大気圧処理、低真空ガスフロー処理、複数の処理モードを1台で実現。 高真空中の均一加熱で脱ガス・ベーキング。 低真空・ガスフロー雰囲気で脱泡・脱脂・真空乾燥。 真空置換後の不活性雰囲気で部品・成形品 高速加熱アニール 実績豊富な標準タイプから各種カスタマイズで個別対応 目的に合わ...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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1/3~1/4の小型化で乾燥時間が1/3~1/4に短縮になった事例あり…
『WD-100シリーズ』は、省スペースと段取り替えの良さを追求した乾燥炉です。 対象基板サイズは50mm□~125mm□・厚みは0.2mmt~2mmt ホットプレートの高速加熱を最大限生かす、搬送システムの追求により、 高速搬送とダイレクト加熱を達成しました。 マルチサイズ、高速搬送、高速加熱、低フットプリントに対応しています。 【特長】 ■IR雰囲気炉と比べ、乾燥が最大1...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社メック
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ウィケット導入でライン完全の自動化を目指します
プリント基板やシート状印刷物等を、専用治具に立てて搬送し乾燥することができます 印刷機からストッカーまで、ラインの完全自動化が可能となります...[コンベア型乾燥装置] ○ワークをベルト・チェーン等で搬送しながら一定時間加熱処理する装置 ○搬送方式、加熱方式などの違いにより各種タイプをご用意 →ウィケットバー式・チェーンバー式・メッシュベルト式など...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ゴダイエンジニアリング
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アニール炉『MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉』
SiC3, TiC3コーティングヒーター採用:様々なプロセス環境に対応…
◉Max2000℃(真空中1x10-5Torr, N2, Ar) ◉3種類のヒーター材質: ・高純度グラファイト:Φ6〜Φ8inch ・SiC3(炭化珪素)コーティング:Φ4〜Φ8inch ・TiC3(チタン・カーバイド)コーティング:Φ4〜Φ8inch ◉使用雰囲気: ・真空・不活性ガス(グラファイト) ・還元雰囲気(TiC3コーティング) ◉試料台サイズφ4inch〜φ8inc...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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柔軟性・高放熱性 液状エポキシ樹脂シリーズ(常温硬化・加熱硬化)
1~2.8W/m・Kまでの高放熱性(高熱伝導率)樹脂に柔軟性を…
株式会社寺田