ダイヤモンドライクカーボン膜（DLC）コーティング加工

PR金属から樹脂まで幅広く対応。金型や摺動部品の耐摩耗性向上に。メッキの代…

『PEKURIS COAT』は、当社独自のプラズマイオン注入成膜装置を使用し、 潤滑性に優れたDLC膜をワークに形成するコーティング加工です。 イオン注入効果により、高密着成膜が容易で、ステンレス鋼や工具鋼、 アルミ合金等にも成膜可能。また、低温での処理が可能で、 融点の低い樹脂やゴム、アルミなどにも対応しております。 DLCコーティングでお困りの方は、ぜひお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社栗田製作所 本社・京都事業部

Enapter社「AEM式水電解水素製造装置」

PRAEM（アニオン交換膜）式水電解を採用。アルカリ水電解・PEM水電解の…

【AEM式水電解水素製造装置　3つの特長】 １．高圧・高純度の水素を生成 　　99.999%純度の水素を3.5MPaGの高圧で生成可能。電極反応はアルカリ 　　水電解と同じですが、腐食性の高い濃アルカリ液を使用しません。セ 　　ル構造はPEM水電解と同様、膜電極接合体構造で高速応答性、広い運 　　転範囲、間欠運転を許容する等の優れた特性を持ちます。 ２．貴金属不要で低コストを実現 　...

メーカー・取り扱い企業： 三國機械工業株式会社

研究開発用真空蒸着装置

目的・コストに合わせて柔軟に対応！大学・公的研究機関や基礎実験用に。

【その他の特長】 ■コンパクトな筐体に電子蒸発源を標準装備した前扉型 ・電子銃蒸発源により酸化膜や高融点金属の成膜に対応 ・本格的な薄膜デバイスの研究開発・試作が可能 ・複数タイプのイオンプレーティング機構も装備可能 ・半導体・電子デバイスから新素材・表面処理用途まで幅広い用途で実績豊富 ■全...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

多目的スパッタリング装置

研究開発から量産までサポート！

【特長】 ●金属・合金・絶縁膜など広範囲な材料や反応性成膜の形成が可能です。 ●基板固定での高速成膜や、基板回転での大面積成膜が可能です。 ●タッチパネルによる操作性向上、ロギングシステムによるデータ管理が容易。 【各...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

Ｃｕエッチング対応高密度プラズマエッチング装置

新プラズマ源ＨＣＤ（ホローカソード放電）電極搭載、各種メタルやＣｕ薄膜…

マ源HCｄ（ホローカソード放電）型電極搭載。無磁場・無アンテナのシンプルなk構造で従来型電極より一桁高いプラズマを密度を実現。 独自開発高密度プラズマと独自プロセスで各種メタルだけでなくＣｕ薄膜などの難エッチング材のエッチングに対応。 新開発HCD型ヘッドはスケールアップが容易で矩形基板や大型基板の高精度エッチングが可能。 ３００ｍｍウェハや積層基板、最大１ｍ□までの基板のメタルエッチ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

HCD型高密度プラズマエッチング装置

シンプルな機構で高密度プラズマを実現。ウェハから１ｍ□基板まで対応。Ｓ…

従来型の容量結合型プラズマエッチング装置にくらべ一桁高い密度のプラズマを実現。高周波アンテナや磁石を使用せず、電極構造のみの工夫によって高精度エッチングが可能。従来型のエッチング装置（CCP型・ICP型）とのハード上の互換性も高く低コスト・高い信頼、稼働率の実現に寄与。 ウェハレベルの基板だけでなく大型基板のエッチングにも対応可能 基板の大型化にスムースに対応可能な新型高密度プラズマエッチング...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

有機EL用成膜装置

有機EL用の実験装置です。搬送系の操作は、PCより制御可能です。全自動…

有機EL成膜用の有機蒸着セル（KOD-Cell）が16台、金属材料蒸着の際には、金属蒸着セルが標準装備されます。有機用、金属用と共通して少量サイズのルツボにて構成されており、装置チャンバー内に極力チャンバー汚染...

メーカー・取り扱い企業： 北野精機株式会社

粉体提供可能なネガ型レジスト　H-SiOx

電子ビーム描画装置、EUV露光装置、ナノインプリント・リソグラフィ用途…

間において少量ずつのご使用が可能です。 即納対応：必要な時にすぐに手に入ります。 常時同じ粘度での使用が可能：使用前に混合するので増粘しません。 濃度調整可能：アプリケーションに合わせた幅広い範囲の膜厚を作成可能です。 最高レベルの線幅：7nmの線幅を実現 【液体】 少量から購入可能：必要量に応じて対応します。 短納期：受注後1カ月以内での納品が可能です。 受注生産：より長いシェルライフでのお...

メーカー・取り扱い企業： オプトシリウス株式会社

プラズマ溶岩コーティング装置（STV6301スパッタリング装置）

最新プラズマ技術で桜島溶岩をコーティング。天然由来の機能性表面処理。あ…

マグネトロンスパッタリングにて桜島溶岩をコーティング。天然由来の溶岩を先端表面処理に応用。溶岩の特性をいかした熱的・化学的に安定な薄膜を形成。 各種素材（金属・ガラス・繊維）上に装飾膜（透明・干渉色）親水膜を実現。天然素材のため人体にアレルギーがなく、素材の変質・変色を防止。 食器の表面処理に実用化されており、市場の拡大が期待...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

研究・試作に最適な小型プラズマCVD装置『VC-R400F』

独自のLIA方式プラズマ源を採用し、樹脂フィルムや金属箔に超高速、高品…

『VC-R400F』は、独自のLIA(低インダクタンスアンテナ)方式プラズマ源を採用し、樹脂フィルムや金属箔への超高速、高品質な真空成膜を実現するプラズマCVD装置です。 実験・研究・評価・試作に好適。LIA方式の誘導結合型プラズマ(LIA-ICP)使用により、高速/高精度/低ダメージ真空成膜を実現。 多点制御により、よ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社SCREENファインテックソリューションズ

標準バッチバッチタイプ蒸着装置（ＡＭＦシリーズ）

電子デバイス用途のスタンダードシリーズ。Ｒ＆Ｄ用の多目的小型研究用から…

全機種クリーンルーム対応ＢＯＸタイプ １０㎾電子銃装備　高融点金属＆酸化物対応 抵抗加熱電極併用　多層膜＆合金対応（オプション） 薄ウェハ対応ドーム＆ウェハ治具 プロセスに合わせ高温加熱（裏面電極シンター）や冷却（リフトオフプロセス対応 基板機構変更でウェハだけでなくセラミックやガラス基板にも対...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

真空排気装置（真空ポンプユニット）

実績と信頼の排気系ユニット。単一のポンプでは困難な用途に対応。目的に合…

多数の納入台数を誇る水封式真空ポンプ/油回転式真空ポンプ/ドライポンプとメカニカルブースタの組合せにより新たな性能と価値を実現。 乾燥・蒸留・脱気などのケミカルプロセス、脱ガスなどの冶金用途、硬質膜コーティング装置やＣＶＤ装置、樹脂成型などの一般工業用途など、幅広い用途の真空排気の問題を解決！...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

抵抗率／シート抵抗測定器【CRESBOX】

抵抗率／シート抵抗測定器【CRESBOX】

いパソコン+専用ソフトウェアでの操作システム ●測定パターンプログラマブルのため、円型・角型測定可能 ●セルフテスト機能、シリコンウエハ測定用厚さ・周辺位置・温度補正機能 ●シート抵抗・メタル膜厚表示可能 ●円型：最大1,225点、角型：最大1,000点の2-Ｄ/3-Ｄマッピングソフトウェア（オプション） ●対象ウエハサイズ： 2インチ〜8インチ、〜156mm角 （※）その他...

メーカー・取り扱い企業： ナプソン株式会社

スッキリ収納上手！オリジナルガラスマスクラック

竹田東京プロセスサービスでは、マスクメーカーとしての長年の知見を活かし…

クの他にも、マスク関連設備・装置の販売を行っております。 また、お客さまのニーズに合わせて設計、製作するワンオフ装置についても承っております。 【取扱製品】 ■スクリーンマスク 　・膜厚測定装置 　・テンションゲージ 　・洗浄装置 　・寸法測定装置 ■ガラスマスク 　・自動外観検査装置 　・洗浄装置 　・寸法測定装置 　・保管棚 ※詳しくはPDF資料をご...

メーカー・取り扱い企業： 竹田東京プロセスサービス株式会社 湘南藤沢センター、北陸センター、テクノセンター

【資料】Cu/Moエッチング液 SDM ver.70

Cu/Mo膜をエッチングすることが可能な薬液をご紹介します！

当資料は、「Cu/Moエッチング液」のSDMをご紹介している、 バージョン70です。 「PESENG基板 実験条件 概要」では、今回の試作内容が、T角が40(±10)、 CDロスは0.9～1.1(±0.1)であることを掲載。また、ETは100secです。 Cuが0ppmの場合は、CD上が1.70μm、CD下が0.99μm、T角が40度。 Cu15kppmまでの全7パターンの結果を...

メーカー・取り扱い企業： パナソニック環境エンジニアリング株式会社 本社

研究・試作に最適な小型プラズマCVD装置『VC-R400G』

独自のLIA方式プラズマ源を採用し、ガラス、金属などの平板基材に超高速…

『VC-R400G』は、独自のLIA(低インダクタンスアンテナ)方式プラズマ源を採用し、ガラス、金属などの平板基材に超高速、高品質な真空成膜を実現するプラズマCVD装置です。 実験・研究・評価・試作に好適。LIA方式の誘導結合型プラズマ(LIA-ICP)使用により、高速/高精度/低ダメージ真空成膜を実現。 多点制御により、よ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社SCREENファインテックソリューションズ

プラズマCVD装置

パワーデバイス、LED、MEMS等の量産で多数の実績がある装置です。

膜質の制御範囲が非常に広く、様々なお客様の求める膜質に対応します。また、化合物ウエハや特殊ウエハなど、従来の装置では問題があった安定した自動搬送を実現し、歩留まり向上に貢献します。当社では、お客様のご要望を出来るだけ装置に反映するため、装置毎のカスタマイズを積極的に行います。社内にデモ機を常設していますので、お気軽にご相談ください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社日本生産技術研究所

有機デバイス蒸着装置　真空エリプソメーター蒸着装置

真空蒸着中に光学特性をリアルタイムに測定可能です！

96ｍｍ） ○外部フィードスルー用ポート（NW40）3ポート ○真空排気ポート（NW40）1ポート ○最大基板サイズ：Φ110ｍｍ ○基板加熱もしくは基板冷却機構 ○蒸発源：2源（同時2源） ○水晶膜厚計、基板シャッター付き ○高真空ポンプ：ターボポンプ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイエルエステクノロジー

リモートイオンソース型 HR-PVDスパッタリングモジュール

指向性成膜を実現し、リアクティブスパッタリングも可能な高イオン電流ヘリ…

HR-PVDスパッタリングモジュール ・ヘリコンプラズマイオンソースを用いたリモートプラズマソースによりICPソースと比べ高いイオン化効率を実現しています。 ・傾斜角方向からの優れた直進性により、膜厚均一性およびステップカバレッジにおいても優れた結果を得ています。 ・リモートプラズマにより、基盤を低温に保っての成膜を実現します。 ・ターゲット利用効率においても優れた結果が得られています。 ＊...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

簡易実験用スパッタリング装置（ＳＲＶ３１００型）

小径基板専用のコンパクトタイプスパッタリング装置　全手動操作で低コスト…

高い信頼性をもつ上位機種と真空槽・排気系を共通化。操作方法の手動化によって低コスト化を実現。膜種・目的に合わせて各部（カソード・基板台等）が選択可能。実績豊富な各部機構と安定した成膜性能で研究開発作業の効率化・質の向上が「図れます。...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

ラウンドスプレコーター

ラウンドスプレコーター

微細小物部品のスプレーコーティング装置です。 バスケットに投入された塗装部品を回転しながら、スプレーします。外部からの熱風送風により、空中に跳ね上がった微細部品の塗装膜が同時に定着乾燥する構造となっています。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エース設備

ポーラスシリコン形成装置（陽極酸化装置）

従来の陽極酸化装置をさらに応用したポーラスシリコン形成装置。使用薬液・…

陽極酸化装置は従来、電流を流し酸化膜を形成させる装置でしたが、さらに応用したポーラスシリコン形成装置は使用薬液・電流密度を変えることで多孔質シリコンを形成する装置です。 ※詳しくはPDF（カタログ）をダウンロードいただくか、お気...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ダルトン

金属の梨地加工はメッキとの相性抜群！ステンレスの梨地仕上げ方法？

金属の梨地加工にはメリットがたくさん！メッキとの相性は？ステンレスの梨…

微細な凹凸と言ってもその程度によって様々なパターンがあり、 代表的なものでは、光沢梨地、半光沢梨地、無光沢梨地などがあります。 また、梨地仕上げはメッキとも相性抜群で、メッキをすることで保護膜を形成し、腐食を防ぐことができます。 また、クロムメッキとニッケルメッキのように2種類を組み合わせることにより、さらに耐食性を向上させることも可能です。...

メーカー・取り扱い企業： 三共理化学株式会社

シリコンウェーハエッジポリッシャー　【日本製】

省スペース＆ハイスループットをコンセプトに開発された新しいシリコンウェ…

●ウェハーを選ばず高スループット研磨が可能 ●加工面精度を向上 ●ケミカルフリーの研磨が可能 ●各種膜の除去が可能 ●ウェハー製造の各工程へ導入が可能...

メーカー・取り扱い企業： アイエムティー株式会社

精密光学用イオンビームスパッター装置　IBS1400／1600

ビューラー・ライボルトオプティクスの真空IBS装置

世界最大の真空装置・機器メーカーとして160年近い歴史を持つライボルトオプティクスは、業界のリーダーとして長年の経験を有し、高精度な光学コーティングを実現するための真空薄膜製造装置およびプロセスを提供しています。研究開発用途から大量生産の大型設備まで様々な真空チャンバーサイズを取り揃え、お客様の多様なニーズにお応えいたします。...

メーカー・取り扱い企業： ビューラー株式会社

小型塗工機

小型サイズの塗工機です。

小型サイズの塗工機です。 平らな真空チャック内蔵のため、シートを固定し、薄膜の塗工時には非常に便利、一定の膜厚で塗工します。 100ｍｍ幅のマイクロメーター付フィルムアプリケーターが付属します。...

メーカー・取り扱い企業： AAポータブルパワー株式会社

フィジカルファインエッチャー（PFE）

プリント配線板やフィルムなど薄板材の表面を一括で均一に梨地加工な物理的…

0.2 ～ 2.0mm までのプリント配線板などの薄板材表面の精密物理洗浄をおこなう表面処理装置。 薄板材両面を均一に処理し、水洗、水切り乾燥までを連続自動処理可能。プリント配線板の洗浄、異物・酸化膜除去、デスミヤ、表面粗化、エッチングなどに使用可能。 ...

メーカー・取り扱い企業： マコー株式会社

【多目的真空蒸着装置】HEX用サンプルステージ

多目的真空蒸着装置HEXシステム用サンプルステージ | 固定、回転、回…

多目的真空蒸着装置HEX／HEX-L用のサンプルステージです。 正しいサンプルステージを選択することは、正しい成膜方法を選択することと同じくらい重要です。サンプルステージの特性は均一性やモルフォロジー、膜組成に影響を与えます。 HEXでは最大直径4インチのサンプル、HEX-Lでは最大直径6インチのサンプル...

メーカー・取り扱い企業： テガサイエンス株式会社

【総合カタログ無料プレゼント】ディップコーター、ナノインコーター

実験・開発用卓上ディップコーター(ディップコーティング装置)、ナノイン…

◆◆今なら総合カタログ無料プレゼント中です。◆◆ 簡易(速度の可変で)に、低コストで、薄膜を均一にコーティングするディップ コーターや、離型剤を定着させるナノインコーターなど、薄膜コーティング技術の ディップ方式を、豊富なラインアップで、多くの分野に展開し用途に応じて選択できます。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ＳＤＩ

卓上ホットプレート 2モデル ＜250℃仕様/350℃仕様＞

コンパクトでありながら、高性能。 幅広いプロセスに対応。

ホットプレートの性能は、フォトリソグラフィープロセスの精度を決める重要なファクターです。 特に、膜厚・線幅・膜質の高い均一性が要求される先端プロセスや、 温度依存性の高い材料でのプロセス開発においては、 ホットプレートの性能が、プロセスパフォーマンスを見極める大きな要因となります。 タ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社 SCREEN SPEサービス

300mmバッチクラスタ装置「Sprinter」

枚葉プロセスレベルの成膜品質をバッチ装置で！クラスタシステムにより生産…

テムは半導体、ディスプレイ、IoT等の業界における 300 mm製造ラインで活躍するバッチALD生産システムです。 SEMI S2 / S8認定のPICOSUN Sprinterは、枚葉成膜の品質と均一性を 高速処理、高スループット、高信頼性と組み合わせています。 処理時間が短く、熱負荷が抑えられるため、破損しやすい基板材料やデバイスにも理想的です。 PICOSUN Spri...

メーカー・取り扱い企業： PICOSUN JAPAN株式会社

ラボ用、高精度スリットコータ『リサーチコータ』LC-R300G

企業や大学の研究室等での実験用途に！様々な塗布条件や材料に対応し、高精…

、塗布材料、塗布条件にて、塗布評価、塗布テストを承っております。お気軽にご用命ください。 ■経験豊富なプロセスエンジニアが装置チューニングを全面的にサポートし、アンコーティングや塗布ムラのない、高い膜厚均一性を実現します。 ■当社の実績あるコータラインアップで貴社の量産展開をサポートします。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社SCREENファインテックソリューションズ