マイクロフルート【2024中部パック出展！】

PR【4/17～中部パックに出展！】原紙使用重量を約10％削減！CO2排出…

『マイクロフルート』はコートボールに比べて、原紙使用重量は約10％ 削減し、年間CO2排出量は471.6kg削減。(ロット6,000で比較) また、軽量化で紙(資源)の削減に貢献し、強度アップで外箱のスペックを 下げることもできます。中層函にぴったりの素材です。 【メリット】 ■CO2排出量の削減 ■軽量化で紙の削減に貢献 ■強度アップで外箱のスペックを下げられる ■ダンボ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社クラウン・パッケージ

高性能・高圧 多用途ポンプ 【プラステコ】 L.TEXシリーズ

PR小流量から大流量、水状から高粘度まで、様々な流体の定量送液ならプラステ…

用途によって選べるタイプ！！ ●ポンプ単体（装置組込式）　●制御部一体型 標準で最大40MPaまでの高圧送液に対応するプランジャ－ポンプです。 当社の主力製品である『超臨界不活性ガス定量供給装置』においても多数実績があります。 最大流量は 10mL/min ～ 1000mL/min と幅広く豊富な機種をご用意しておりますので、 研究・実験用途に適した小流量から量産向けの大流量まで、ご使用目的に...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社プラステコ 本社

スパッタリング装置『nanoPVD-S10A』

高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

高機能 ハイパフォーマンス RF/DCマグネトロンスパッタリング装置 ● 到達圧力5 x 10-5Pa（*1x10-4Paまで最速30分！） ● スパッタ源 x 3：連続多層膜膜制御, 同時成膜 ● 膜均一性±3% ● 多彩なオプション：上下・回転、ヒータ、磁性材用カソード、他 ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

デスクトップRFスパッタ装置『SVC-700RFIII』

コンパクトな卓上サイズで3源のカソードを搭載。絶縁薄膜、酸化物・窒化物…

方式：RFマグネトロンスパッタ方式 カソード：φ2インチ×3源/水冷式 スパッタアップ スパッタ電源：RF電源 13.56MHz Max. 200W(手動式マッチングユニット付) 到達真空度：10^-4 Pa台 寸法： 　SVC-700RFIII(制御ユニット)：W370×D310×H195mm 　RF CONTROL UNIT：W370×D310×H158mm 　チャンバーユニット...

メーカー・取り扱い企業： サンユー電子株式会社

ロードロック方式スパッタリング装置 「SPH-2500-II」

膜厚分布：トレー内 ±1.2％、トレー間 ±1.5％を達成しました。

スパッタ方式　DCマグネトロン ○カソード　5インチ×7インチ　2対（うち1対が高使用効率カソード） ○DC電源　800V、3.75A （MAX1.5kW） ○トレイサイズ　L350mm×H210mm ○基板搬送方式　ラック＆ピニオン搬送 ○ストッカー　10トレイ収納 ○排気系　ターボ分子ポンプ 2式／油回転ポンプ 2式 【性能】 ○膜厚分布　トレイ内 ±1.2%　トレイ間 ±...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社昭和真空

スパッタリング装置『MiniLab（ミニラボ）シリーズ』

モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

tion：MaxΦ6inch ・060（60Litter）-TE/LTE/EB/SP/Etch/：MaxΦ8inch ・080（80Litter）-TE/LTE/EB/SP/Etch/：MaxΦ10inch ・090（90Litter）*Globe Box option -TE/LTE/EB/SP/Etch/：MaxΦ10inch ・125（125Litter）-TE/LTE/EB/SP/...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

R&D用スパッタ装置 QAMシリーズ

各種研究開発、材料開発等に幅広く対応できる成膜装置。多様性・拡張性を持…

チカソード（磁性体、非磁性体共用）　Max.4台まで搭載可能 ・搭載電源：　DC500W　1台　※DC500W、RF300Wを選択でき、Max.2台まで搭載可能　※オプション ・到達圧力：　1×10-4Pa　以下 ・対応基板サイズ：　Max.φ4インチ×1枚 ・膜厚分布：　±5％以内（Al成膜時、基板回転併用） ・基板加熱機構：　●ランプヒータ　常用400°C　※オプション ・排気系：...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アルバック／ULVAC, Inc.

小型スパッタ装置『SS-DC・RF301』

小型設計ながら性能はキープ！高温での基板加熱が可能なスパッタ装置

【仕様】 ■到達真空度：1×10^-4 Pa以下 ■リーク量：1×10^-8 Pa・m3/sec以下（Oリング透過分を除く） ■排気系：TMP+ダイヤフラムポンプ（またはロータリーポンプ） ■真空計 　フルレンジ真空計（コ...

メーカー・取り扱い企業： アリオス株式会社

射出成形機連動型高速スパッタ・重合システムSPP-SERIES

樹脂基板への金属膜、保護膜が全自動で成膜可能！

板への金属膜、保護膜の自動成膜が可能です。 射出成形された基板を全自動で真空成膜（スパッタリング及び重合）することが可能です。 【特徴】 ○全自動 ○サイクルタイム： 80sec（Al：100nm＋SiOx：20nm） ○高い密着度 →アンダーコート無しでも高密着力が得られる 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社昭和真空

イオンビームスパッタリング装置

RFイオンソースを使用し、シングルステージまたはプラネタリーステージを…

お客様用途に合わせて、研究開発用、量産用に装置設計いたします。 【装置特長】 ・プロセス動作圧10-2Pa台(10-4Torr台) 　高真空成膜可能 ・コンタミネーションが少ない ・無加熱成膜可能 ・高密度膜 ・反応性成膜可能 ・イオンビームアシスト追加可能 ・膜厚等の制御性良好...

メーカー・取り扱い企業： アールエムテック株式会社

スパッタリング薄膜（フィルム/繊維）　受託加工/受託成膜/開発

各種材料、基材の加工実績が豊富！基材×薄膜＝光学調整・導電・抗菌/ウイ…

介します。 多様な用途/機能での実績があり、各種材料、基材の加工実績が豊富。 化学繊維、炭素繊維など、独自の繊維へのスパッタ加工に対応しています。 また、最大3400mm幅、スパッタ源10台まで対応可能なスパッタ装置を所有。 薄膜製品開発/販売、成膜受託加工、試作など、お気軽にご相談ください。 【特長】 ■3つの技術軸：光学調整・導電・抗菌/ウイルス ■多様な用途/機能で...

メーカー・取り扱い企業： 積水ナノコートテクノロジー株式会社

真空蒸着装置『MiniLab-090』（グローブボックス用）

グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…

【主仕様】 ・最大基板サイズ：Φ10inch ・SUS304 80ℓ容積 400x400x570mm フロントローディングチャンバー ・ポンプ：ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ（ドライポンプも可） ・真空排気：真空/ベント自...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

【MiniLab-SA125A】 多元マルチスパッタ装置

高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…

ジュールでマルチカソードに自在に配置を組み合えることが可能、様々な用途に柔軟に対応 高温基板加熱ステージ（二重ジャケット水冷式）オプション -1) Max600℃（ランプ加熱） -2) Max1000℃（C/Cコンポジット） -3) Max1000℃（SICコーティング） ロードロック内逆スパッタステージ -1) 300W、又は -2) Soft-Etching(＜30W） システ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

薄膜実験装置_「PRODUCTS GUIDE 2022」

半導体・電子デバイス・燃料電池・ディスプレイなどの研究開発用各種実験装…

◉ nanoベンチトップシリーズ 薄膜実験装置 - nanoPVD-S10Aマグネトロンスパッタリング装置 - nanoPVD-T15A有機膜・金属膜蒸着装置 - nanoCVDグラフェン合成装置 - ANNEALウエハーアニール装置 - MiniLabシリーズフ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

【書籍】薄膜の応力・密着性・剥離トラブルハンドブック

＜Ｑ＆Ａ集付＞ 手元に欲しい一冊！

発刊　　2007年10月　　定価　　9,500円 + 税 体裁　　B5判　225ページ　　ISBN　978-4-901677-86-8 ※詳細な内容につきましては、カタログをダウンロードください※...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社情報機構

平行移動式3元RFスパッタリング装置『MSS600-3』

ガス導入と圧力コントロールバルブによるスパッタ圧の制御が可能！

『MSS600-3』は、矩形カソード W100ｘH500mmによる 3元RFスパッタリング装置です。 基板サイズはW200×H300mmであり、X方向へ搬送しながら蒸着します。 また、基板200mmを30秒から15時間の時間で任...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社愛知真空

小型スパッタ装置

対応基板は最大φ1インチまで処理が可能！デュアルガスノズルを備えた装置

【仕様】 ■構成：成膜室および排気系、ガス導入系 ■到達圧力：6.7 x 10^-5Pa以下（排気後3時間） ■基板サイズ：1インチSiウェハ1枚 ■膜圧分布：±5%以下（1インチ基板のφ20mm内） ■ターゲット寸法：φ25.4mm x 3t（非磁性金属材料など） ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社和泉テック

Aera FC-DR980　デジタルマスフローコントローラ

優れた汎用性を備え、多くのシステムに対応する先進のデジタルMFC/MF…

特長 ・使用ガスおよび流量レンジの選択可能　＊ ・アナログ、アナログ/デジタル、デジタルのモード選択 ・ピエゾ制御バルブ ・各種のアラーム/診断機能 ・各種のアラーム/診断機能 ・1x10-10 の気密度を保つ金属シール ・電解研磨、UHP処理済み接ガス面 ＊ マルチガス・マルチレンジ仕様モデルにより対応。...

メーカー・取り扱い企業： 日立Astemo＆ナガノ株式会社

Aera FC-R7700シリーズ　マスフローコントローラ

経済性に優れた高精度ラバーシール

特長 ・高速応答性 ─ 設定値入力後2秒未満で流量安定 ・エラストマー（ゴム）シール ・VCR、VCO、Swagelok準拠の接続部 ・10sccm～200slmのフルスケール流量レンジ ・ノーマリ・クローズ型またはノーマリ・オープン型ソレノイド制御バルブ ・1x10-7Pa・m3/sec（He）以下の外部リークレート...

メーカー・取り扱い企業： 日立Astemo＆ナガノ株式会社

アルミ精密切削加工／大阪・フィリール株式会社

A5056／旋盤加工／アルミ加工【コストダウンはフィリール株式会社にお…

♦材質 A5052　(アルミ) ♦業界 半導体製造装置 ♦加工方法 CNC旋盤加工 マシニング加工 ♦表面処理 　－　(日本国内) ♦個数 10個 ♦説明 半導体製造装置のアルミ精密切削部品となります。 CNC旋盤加工・マシニングでの製作です。 ※是非一度お見積りのご依頼をいただき、御社のご要望にお応えします。 まずはホー...

メーカー・取り扱い企業： フィリール株式会社 本社

R＆D用スパッタ装置『QAMシリーズ』※ユーザーボイス進呈中

「サンプル作業時間が1/3になった！」。コンパクト設計で自動化も推進。…

マグネットの磁場の影響を最小限に抑制。 注）※1：LTS：Long Throw Sputter ・UHV対応（QAM-4のみ） ベーカブル対応の各機器を使用することで成膜室の到達圧力を1×10-6Pa（※2）以下に対応可能。 注）※2：Oリングシール構造を採用し、従来のメタルシールにより格段にメンテナンス性を向上 ※詳しくは資料をダウンロードしてご覧ください。製品に関するお問い合...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アルバック／ULVAC, Inc.

成膜装置向けバッキングプレート

成膜装置で使用されるバッキングプレートです。

こちらはC1020（無酸素銅）で製造した、半導体装置で使われる成膜装置向けのバッキングプレートです。フライス盤による形状出しと、一部形状をマシニングセンタで加工しております。 ボケット加工があり、残りの板厚...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アイジェクト

【多目的真空蒸着装置】有機蒸着源

多目的真空蒸着装置HEXシステム用有機蒸着源

【主な仕様】 ルツボ容量：15cc（10cc：オプション） 温度範囲：50℃～600℃ 電源：DC 冷却：水冷（1L／分）...

メーカー・取り扱い企業： テガサイエンス株式会社

研究開発用スパタ装置『HSK602VTA』

省スペース化を実現！同時放電による合金膜や積層膜の形成に最適なスパタ装…

【仕様】 ■カソード：DCφ2”マグネトロン×6基 ■シャッター機構：全個別シャッター ■スパッタDC電源：500mA × 6台独立 ■基板自転：10～30 rpm ■基板ホルダー：最大φ2、4枚 ■基板加熱：最大600℃ ■加熱サンプルサイズ：20 × 20mm ■フランジ：電動上下機構 ※詳しくはカタログをご覧いただくか、お気軽...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社ハヤマ

『SSP2500G グローブボックス付きスパッタ装置』

不活性ガス雰囲気中で基板・ターゲットの交換ができる、研究開発用小型スパ…

【性能】 ■真空性能 　到達圧力：≦9×10^-5Pa ■成膜性能 　膜厚分布：φ100mm area≦±5%（回転成膜） ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社菅製作所

【nanoPVD-S10A】マグネトロンスパッタリング装置

高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

高機能 ハイパフォーマンス RF/DCマグネトロンスパッタリング装置 ● 到達圧力5 x 10-5Pa（*1x10-4Paまで最速30分！） ● スパッタカソード x 3：自動連続多層膜, 2源同時成膜 ● 膜均一性±3% ● 多彩なオプション：基板回転・昇降、基板加熱（Max500℃...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

サファイア真空覗き窓(ビュ-ポート）

特許的な異質材質溶接技術で溶接しているサファイア真空覗き窓

溶接方法で異質のステンレスとサファイアを溶接する。 ◎コバールなどの磁性材を使用しないため、周辺の磁場に影響することがない。 ◎広範囲波長でも安定な透過率を持つ。 製品仕様 1.真空度：1x10-10 torr 2.許容温度: -100℃～500℃ 3.透過率:80％以上 4.波長範囲:200nm～4800nm 5.フランジ材質:304S.S.或は316S.S. 6.フランジ接続...

メーカー・取り扱い企業： 日揚科技股份有限公司

非侵襲的血糖モニタリング装置の世界市場レポート2023-2029

『無料サンプル』を入手可能！ 関連リンクから詳細をご覧になり、直接お申…

～2029） 第8章：地域別セグメントの販売量、平均価格、売上、パーセントとCAGR（2018～2029） 第9章：国別の販売量、平均価格、売上、パーセントとCAGR（2018～2029） 第10章：会社概要、製品仕様、アプリケーション、最近の発展状況、販売量、平均価格、売上、粗利益率などについて、市場における主要企業の基本状況を詳しく紹介する 第11章：結論...

メーカー・取り扱い企業： YH Research株式会社

レーザーアニーリング装置の世界市場の調査レポート

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～2029） 第8章：地域別セグメントの販売量、平均価格、売上、パーセントとCAGR（2018～2029） 第9章：国別の販売量、平均価格、売上、パーセントとCAGR（2018～2029） 第10章：会社概要、製品仕様、アプリケーション、最近の発展状況、販売量、平均価格、売上、粗利益率などについて、市場における主要企業の基本状況を詳しく紹介する 第11章：結論...

メーカー・取り扱い企業： YH Research株式会社

グラウトモニタの世界市場動向分析2023　YH Research

『無料サンプル』を入手可能！ 関連リンクから詳細をご覧になり、直接お申…

～2029） 第8章：地域別セグメントの販売量、平均価格、売上、パーセントとCAGR（2018～2029） 第9章：国別の販売量、平均価格、売上、パーセントとCAGR（2018～2029） 第10章：会社概要、製品仕様、アプリケーション、最近の発展状況、販売量、平均価格、売上、粗利益率などについて、市場における主要企業の基本状況を詳しく紹介する 第11章：結論...

メーカー・取り扱い企業： YH Research株式会社

【MiniLab（ミニラボ）】シリーズフレキシブル薄膜実験装置

モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

tion：MaxΦ6inch ・060（60Litter）-TE/LTE/EB/SP/Etch/：MaxΦ8inch ・080（80Litter）-TE/LTE/EB/SP/Etch/：MaxΦ10inch ・090（90Litter）*Globe Box option -TE/LTE/EB/SP/Etch/：MaxΦ10inch ・125（125Litter）-TE/LTE/EB/SP/...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

真空蒸着装置『MiniLab（ミニラボ）シリーズ』

モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

tion：MaxΦ6inch ・060（60Litter）-TE/LTE/EB/SP/Etch/：MaxΦ8inch ・080（80Litter）-TE/LTE/EB/SP/Etch/：MaxΦ10inch ・090（90Litter）*Globe Box option -TE/LTE/EB/SP/Etch/：MaxΦ10inch ・125（125Litter）-TE/LTE/EB/SP/...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

真空蒸着装置『MiniLab-080』

蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570…

抗加熱蒸着（金属/絶縁物/有機材料）,EB蒸着, RF/DC/PulseDC兼用マグネトロン式スパッタ, RIEプラズマエッチング, CVD,アニールなどの幅広い目的に対応。 ・最大基板サイズ：Φ10inch ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4源 ・有機蒸着源 x 最大4源 ・マグネトロンスパッタリングカソード x 4源 ・電子ビーム蒸着 ・基板加熱ステージ（標準500℃, Max1000℃...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

多元マルチスパッタ装置【MiniLab-S125A】

高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…

ジュールでマルチカソードに自在に配置を組み合えることが可能、様々な用途に柔軟に対応 高温基板加熱ステージ（二重ジャケット水冷式）オプション -1) Max600℃（ランプ加熱） -2) Max1000℃（C/Cコンポジット） -3) Max1000℃（SICコーティング） ロードロック内逆スパッタステージ -1) 300W、又は -2) Soft-Etching(＜30W） システ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

トランスファーロッド（Ｚ-φ軸　KTXシリーズ）

【 4000台販売突破キャンペーン実施中 】 弊社トランスファーロッ…

真空中の試料や機器等に、大気側から直線運動と回転運動を伝達する導入機です。 本製品は、長い距離（500mm～1000mm）での試料等の搬送を行う際におすすめです。 マグネット方式の為、外部との真空封止は完全で、半永久的に安定した動作を得られます。 真空中に取り付けられた直線運動及び回転運度を要する機器への...

メーカー・取り扱い企業： 北野精機株式会社

□■□【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置□■□

グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…

背面開閉ドアを採用。プロセス処理後の試料を大気・水分に露出せずグローブボックス内の管理された環境内で一貫した処理ができます。GB, ガス精製機はGBモデルの仕様を参照下さい。 ・最大基板サイズ：Φ10inch ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4源 ・有機蒸着源 x 最大4源 ・マグネトロンスパッタリングカソード x 4源 ・電子ビーム蒸着 ・基板加熱ステージ（標準500℃, Max1000℃...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

A5052精密切削／丸物／旋盤／大阪

CNC旋盤加工・アルミ精密切削・半導体製造装置部品【コストダウンはフィ…

♦材質 A5052　(アルミ) ♦業界 半導体製造装置 ♦加工方法 CNC旋盤加工 マシニング加工 ♦表面処理 アルマイト処理　(日本国内) ♦個数 10個 ♦説明 半導体製造装置のアルミ精密切削部品となります。 CNC旋盤加工・マシニングでの製作です。 ※是非一度お見積りのご依頼をいただき、御社のご要望にお応えします。 まずはホー...

メーカー・取り扱い企業： フィリール株式会社 本社

アルミ精密切削【半導体製造装置部品】フィリール株式会社へ

アルミ切削／A5052／旋盤加工／大阪【コストダウンはフィリール株式会…

♦材質 A5052　(アルミ) ♦業界 半導体製造装置 ♦加工方法 CNC旋盤加工 マシニング加工 ♦表面処理 　－　(日本国内) ♦個数 10個 ♦説明 半導体製造装置のアルミ精密切削部品となります。 CNC旋盤加工・マシニングでの製作です。 ※是非一度お見積りのご依頼をいただき、御社のご要望にお応えします。 まずはホー...

メーカー・取り扱い企業： フィリール株式会社 本社

Aera FC-R7800シリーズ　マスフローコントローラ

高精度・信頼性のメタルシールモデル

特長 ・高速応答性 － 設定値入力後1秒未満で流量安定 ・耐腐食設計 ・メタルシール採用 ・VCR準拠の接続部 ・10sccm～200slmのフルスケール流量レンジ ・ノーマリ・クローズ型またはノーマリ・オープン型ソレノイド制御バルブ ・1x10-11Pa・m3/sec（He）以下の外部リークレート...

メーカー・取り扱い企業： 日立Astemo＆ナガノ株式会社