有機化学や材料科学の研究、原子分解能での観察などに！

PRアズサイエンスおすすめの電子顕微鏡、偏光顕微鏡、質量分析計のご紹介

おすすめの3製品をご紹介いたします。 ◆日本電子株式会社　JEM-ARM200F NEOARM 原子分解能分析電子顕微鏡 　冷陰極電界放出形電子銃（Cold-FEG）と高次の収差まで補正可能な新型球面収差補正装置（ASCOR）を標準搭載し、200 kVの高加速電圧だけでなく30 kVの低加速電圧においても原子分解能での観察を実現しました。軽元素を含む材料の明瞭なコントラスト観察が容易になります。...

メーカー・取り扱い企業： アズサイエンス株式会社 松本本社

無料で！レーザ樹脂溶着テストを実施中です。

PRレーザ溶着はそんなに難しくない！溶着テストについて紹介した資料を進呈中…

当社常設のラボで、溶着実験可能です。 樹脂プレート(平板)をご準備頂けましたら、無料で溶着実験を承っています。 また、下記ファシリティを用いた、溶着結果の評価も可能です。 ・マイクロスコープ（ライカ社製） ・強度試験機（自動） ・簡易工作機（切断／穴あけ） ・リークテスト 本体のみの見学やデモンストレーションも、お気軽にお問い合わせください。 ※お手数ですが、御来社に際しては、事前...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社広島

MAX400℃！高温ベーク対応レジスト塗布装置（スピンコーター）

BARCやその他薬液をスピン塗布後、MAX400℃でベーク可能！高温ベ…

当製品は、スピンコーティング、HMDS処理、高温ベーク（MAX400℃）、低温ベーク（MAX200℃）、クーリング機能を搭載。 低温ベークと高温ベークの組み合わせでステップベークも可能です。 レジスト以外での薬品でもスピン塗布後に高温ベーク可能！ その他、ポジレジスト・ネガレ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

自動フォトレジスト塗布装置（スピンコーター）Coater

レジスト膜の面内均一性やウエハ間の平均膜厚の差が少ないコーターです。低…

トステージ：2組 ■スピン塗布ユニット：2組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■レジスト滴下ノズル：2組/CUP ■エッジ・バックリンス：各1組/CUP ■ベークユニット：2組（Max200℃） ■クーリングユニット：1組 ■センタリングユニット：1組 ■装置サイズ：（例）1200×1000×1800(Φ4"本体) 　　　　　　　　　 1600×2500×1800(Φ12...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

厚膜塗布に高粘度専用スピンコーター！自動ポリイミド塗布装置

～10000cP程度の高粘度ポリイミドを均一に塗布する高粘度専用スピン…

【主な仕様例】 ■カセットステージ：2組 ■スピン塗布ユニット：2組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■レジスト滴下ノズル：2組 ■ベークユニット：2組（Max200℃） ■クーリングユニット：1組 ■センタリングユニット：1組 ■装置サイズ：（例）1200×1000×1800(Φ4"本体) 　　　　　　　　　 1600×2500×1800(Φ12...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

自動レジスト現像装置（枚葉式） デベロッパー Developer

枚葉式のためプロセスの再現性が高く、薬液使用量も少なく済みます。品質向…

仕様】 ■カセットステージ：2組 ■スピン現像ユニット：2組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■現像ノズル：1組/CUP ■リンスノズル：1組/CUP ■ベークユニット：4組（Max200℃） ■クーリングユニット：2組 ■センタリングユニット：1組 ■装置サイズ：（例）1400×1100×1800(Φ4"本体) 　　　　　　　　　 400×900×1800(薬液供給＋...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

ロール・スプレーコーターの置き換え！回転カップ式レジスト塗布装置

多彩な薬液に実績あり！低価格の理由は、設計から販売まで自社で行っている…

【主な仕様】 ■カセットステージ：2組 ■スピン塗布ユニット：2組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■レジスト滴下ノズル：2組 ■ベークユニット：2組（Max200℃） ■クーリングユニット：1組 ■センタリングユニット：1組 ■装置サイズ：（例）1200×1000×1800(Φ4"本体) 　　　　　　　　　 1600×2500×1800(Φ12...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

半自動フォトレジスト現像装置（セミオートデベロッパー）

自動機を購入するほど生産量が多くないが、プロセスの再現性を求めるお客様…

【主な仕様】 ■スピン現像ユニット：1組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■現像ノズル：1組/CUP～ ■リンスノズル：1組/CUP ■ベークユニット：1組（Max200℃） ■クーリングユニット：1組 ■センタリングユニット：1組 ■装置サイズ：（例）1300×1450×1800(Φ4"本体・電源・薬液一体) その他オプション多数！ ※詳しくは...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

自動塗布・露光・現像一貫プロセス装置（フルオートリソグラフィ）

レジスト塗布～露光～現像処理を一気通貫。自動で処理可能な装置です。フォ…

エハサイズ：Φ2"～Φ6"、□4インチも可 ■レジスト滴下ノズル：1組 ■バック・エッジリンス：1組/塗布CUP ■現像ノズル：1組 ■リンスノズル：1組 ■ベークユニット：3組（Max200℃） ■クーリングユニット：2組 ■センタリングユニット オリフラ自動位置合わせ機能付き：1組 ■露光ユニット：1組 ■露光光源：超高圧水銀灯(250W，500W)　UV-LED光源も対応...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

厚さ100um！極薄ウェーハ搬送自動レジスト塗布装置　コーター

GaAs、LT、ガラスなどの脆くて薄いウェーハでの搬送・塗布での実績（…

【主な仕様】 ■カセットステージ：2組 ■スピン塗布ユニット：2組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■レジスト滴下ノズル：2組 ■ベークユニット：2組（Max200℃） ■クーリングユニット：1組 ■センタリングユニット：1組 ■装置サイズ：（例）1200×1000×1800(Φ4"本体) 　　　　　　　　　 1600×2500×1800(Φ12...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

2サイズ兼用自動レジストコーター・デベロッパー（塗布・現像）

段取り替え不要、2サイズのウエハ兼用装置です。 低粘度～高粘度レジス…

：1組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■レジスト滴下ノズル：1組 ■バック・エッジリンス：1組/塗布CUP ■現像ノズル：1組 ■リンスノズル：1組 ■ベークユニット：3組（Max200℃） ■クーリングユニット：1組 ■センタリングユニット：1組 ■装置サイズ：（例）1200×1000×1800(Φ4"本体) 　　　　　　　　　 1600×2500×1800(Φ12...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

段取り替えなし！複数ウエハサイズ兼用自動レジスト塗布装置コーター

現状のウエハサイズと将来的に使用したいウエハサイズを兼用した装置を作製…

【主な仕様】 ■カセットステージ：2組 ■スピン塗布ユニット：2組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■レジスト滴下ノズル：2組 ■ベークユニット：2組（Max200℃） ■クーリングユニット：1組 ■センタリングユニット：1組 ■装置サイズ：（例）1200×1000×1800(Φ4"本体) 　　　　　　　　　 1600×2500×1800(Φ12...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

両面プロセスに最適！両面自動フォトレジスト塗布装置　コーター

ウェハ反転ユニットを使うことでウェハの両面塗布を自動で行えます！

【主な仕様】 ■カセットステージ：2組 ■スピン塗布ユニット：2組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■レジスト滴下ノズル：2組 ■ベークユニット：2組（Max200℃） ■クーリングユニット：1組 ■センタリングユニット：1組 ■装置サイズ：（例）1200×1000×1800(Φ4"本体) 　　　　　　　　　 1600×2500×1800(Φ12...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

反りウェハも搬送！ベルト搬送式自動レジスト塗布装置（コーター）

ベルト搬送タイプのトラックシステムスピンコーターです。高スループットで…

【主な仕様】 ■カセットステージ：2組 ■スピン塗布ユニット：2組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■レジスト滴下ノズル：1組/CUP ■ベークユニット：2組（Max200℃） ■クーリングユニット：2組 ■センタリングユニット：2組 ■装置サイズ：（例）1800×1000×1400(Φ4"本体) 　　　　　　　　　 その他オプション多数！ ※...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

逆テーパー角を一定に！PEB対応レジスト現像装置（デベロッパー）

逆テーパー角度を一定に！ネガレジストやイメージリバーサル用のレジストに…

仕様】 ■カセットステージ：2組 ■スピン現像ユニット：2組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■現像ノズル：1組/CUP ■リンスノズル：1組/CUP ■ベークユニット：2組（Max200℃） ■クーリングユニット：1組 ■センタリングユニット：1組 ■装置サイズ：（例）1200×1000×1800(Φ4"本体) 　　　　　　　　　 1600×2500×1800(Φ12...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

フォトレジスト量削減！回転カップ式塗布装置（スピンコーター）

ポリイミドや高価な高粘度レジストの削減に有効！回転カップ式スピンコータ…

【主な仕様】 ■カセットステージ：2組 ■スピン塗布ユニット：2組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■レジスト滴下ノズル：2組 ■ベークユニット：2組（Max200℃） ■クーリングユニット：1組 ■センタリングユニット：1組 ■装置サイズ：（例）1200×1000×1800(Φ4"本体) 　　　　　　　　　 1600×2500×1800(Φ12...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

自動フォトレジスト塗布・現像装置（コーター・デベロッパー）

低粘度～高粘度レジスト対応！小口径～大口径まで、どのウェハサイズの装置…

：1組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■レジスト滴下ノズル：1組 ■バック・エッジリンス：1組/塗布CUP ■現像ノズル：1組 ■リンスノズル：1組 ■ベークユニット：3組（Max200℃） ■クーリングユニット：1組 ■センタリングユニット：1組 ■装置サイズ：（例）1200×1000×1800(Φ4"本体) 　　　　　　　　　 1600×2500×1800(Φ12...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

2流体スプレー方式自動フォトレジスト現像装置（デベロッパー）

高い圧力から霧状の柔らかい圧力まで自由自在！2流体スプレーレジスト現像…

仕様】 ■カセットステージ：2組 ■スピン現像ユニット：2組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■現像ノズル：1組/CUP ■リンスノズル：1組/CUP ■ベークユニット：4組（Max200℃） ■クーリングユニット：2組 ■センタリングユニット：1組 ■装置サイズ：（例）1400×1100×1800(Φ4"本体) 　　　　　　　　　 400×900×1800(薬液供給＋...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

大型角基板用（～430mm）回転カップ式自動レジスト塗布コーター

430mm角までの大型基板を隅まで均一良く塗ることができます！正方形、…

【主な仕様】 ■カセットステージ：2組 ■スピン塗布ユニット：2組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■レジスト滴下ノズル：2組 ■ベークユニット：2組（Max200℃） ■クーリングユニット：1組 ■センタリングユニット：1組 ■装置サイズ：（例）1200×1000×1800(Φ4"本体) 　　　　　　　　　 1600×2500×1800(Φ12...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

1流体スプレー方式自動フォトレジスト現像装置（デベロッパー）

厚膜現像や処理時間短縮に効果を発揮する1流体現像装置です。スプレー形状…

仕様】 ■カセットステージ：2組 ■スピン現像ユニット：2組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■現像ノズル：1組/CUP ■リンスノズル：1組/CUP ■ベークユニット：2組（Max200℃） ■クーリングユニット：1組 ■センタリングユニット：1組 ■装置サイズ：（例）1200×1000×1800(Φ4"本体) 　　　　　　　　　 1600×2500×1800(Φ12...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

角基板対応自動レジスト塗布・現像装置（コーター・デベロッパー）

低粘度～高粘度レジスト対応！どのウェハサイズの装置も作製可能です！

：1組 ■スピン現像ユニット：1組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12(角基板対応)" ■レジスト滴下ノズル：1組 ■現像ノズル：1組 ■リンスノズル：1組 ■ベークユニット：3組（Max200℃） ■クーリングユニット：1組 ■センタリングユニット：1組 ■ウェハ搬送ロボット：1組（ダブルアームクリーンロボット） その他オプション多数！ ※詳しくはPDF資料をご覧いた...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

半自動レジスト塗布装置(セミオートスピンコーター)Coater

低～高粘度レジスト対応！どのウェハサイズの半自動機（セミオート）も作製…

【主な仕様例】 ■スピン塗布ユニット：1組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■レジスト滴下ノズル：2組 ■ベークユニット：2組（Max200℃） ■クーリングユニット：1組 ■装置サイズ：（例）1200×1000×1800(Φ4"本体) 　　　　　　　　　 1600×2500×1800(Φ12"本体) その他オプショ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

リフトオフ（イメージリバーサル）対応フォトレジスト現像装置

多彩な薬液に実績あり！低価格の理由は、設計から販売まで自社で行っている…

仕様】 ■カセットステージ：2組 ■スピン現像ユニット：2組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■現像ノズル：1組/CUP ■リンスノズル：1組/CUP ■ベークユニット：2組（Max200℃） ■クーリングユニット：1組 ■センタリングユニット：1組 ■UV露光ユニット（LED光源もお選びいただけます） ■装置サイズ：（例）1200×1000×1800(Φ4"本体) 　　...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

静止現像式（パドル）自動フォトレジスト現像装置（デベロッパー）

多彩な薬液に実績あり！低価格の理由は、設計から販売まで自社で行っている…

仕様】 ■カセットステージ：2組 ■スピン現像ユニット：2組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■現像ノズル：1組/CUP ■リンスノズル：1組/CUP ■ベークユニット：4組（Max200℃） ■クーリングユニット：2組 ■センタリングユニット：1組 ■装置サイズ：（例）1400×1100×1800(Φ4"本体) 　　　　　　　　　 400×900×1800(薬液供給＋...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

10000cP！高粘度対応自動レジスト塗布装置（スピンコーター）

10000cPのポリイミドやレジストにも対応可能！ASAP（エイ・エス…

【主な仕様】 ■カセットステージ：2組 ■スピン塗布ユニット：2組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■レジスト滴下ノズル：2組 ■ベークユニット：2組（Max200℃） ■クーリングユニット：1組 ■センタリングユニット：1組 ■装置サイズ：（例）1200×1000×1800(Φ4"本体) 　　　　　　　　　 1600×2500×1800(Φ12...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

R&Dや少量生産に最適！手動レジスト塗布装置(スピンコーター)

研究・開発、小ロット対応のマニュアル装置！卓上タイプとは違う自動機と同…

【主な仕様】 ■スピン塗布ユニット：1組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■レジスト滴下ノズル：2組 ■ベークユニット：2組（Max200℃） ■クーリングユニット：1組 ■装置サイズ：（例）1200×1000×1800(Φ4"本体) 　　　　　　　　　 1600×2500×1800(Φ12"本体) その他オプショ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

高粘度フォトレジスト対応！密閉式自動レジスト塗布装置（コーター）

高粘度フォトレジスト塗布に自信があります！10000cPのポリイミドで…

【主な仕様】 ■カセットステージ：2組 ■スピン塗布ユニット：2組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■レジスト滴下ノズル：2組 ■ベークユニット：2組（Max200℃） ■クーリングユニット：1組 ■センタリングユニット：1組 ■装置サイズ：（例）1200×1000×1800(Φ4"本体) 　　　　　　　　　 1600×2500×1800(Φ12...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ