最大300℃までの耐熱性『超耐熱シリコンゴムシート』

PR【無料カットサンプル有】耐熱温度は300℃！RoHS対応の耐熱シリコン…

会津ゴム工業では『超耐熱シリコンゴムシート』を取り扱っております。 耐熱温度は300℃。 カラーは「黒」と「弁柄」をラインアップしております。 そのほか、ゴムの種類で迷ったりわからないことがありましたら お気軽にお問合せください。成形品、加工品、特注品、その他サイズ お見積りいたします。 【特長】 ■耐熱300℃ ■RoHS対応品 ■カット対応可能 ■無料カットサン...

メーカー・取り扱い企業： 会津ゴム工業株式会社

MAZAK INTEGREX i-200H 新規導入

PR【複合加工・自動化に好適】

竹沢精機は、新たなターニングセンタを導入しました。 同時5軸制御の為、複合的な機械加工及び自動化に対応可能です。 ...・型式　　：　INTEGREX　i-200H 590µ　（MAZAK 製） ・スペック：　φ600 x 590 (同時5軸）　 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社竹沢精機

イオンビームスパッタ装置『scia Coat 200/500』

最大5(220mm径)又は4(300mm径)ターゲット搭載！イオンビー…

『scia Coat 200/500』は、最大200mmウエハ基板又は 300mm×500mm基板対応の製品です。 プロセスは、イオンビームスパッタリング(IBS)、 イオンビームエッチング(IBE)、デュアルイオ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

マグネトロンスパッタ装置『scia Magna 200』

最大200mm径基板！ダブルリングマグネトロン(Fraunhofer …

『scia Magna 200』は、回転式単体マグネトロンの マグネトロンスパッタ装置です。 アプリケーションは、TC-SAW向け温度補償膜(SiO2)、AlN等圧電膜、 光学用高・低屈折膜、絶縁膜(Si3N4, S...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

平行移動式3元RFスパッタリング装置『MSS600-3』

ガス導入と圧力コントロールバルブによるスパッタ圧の制御が可能！

『MSS600-3』は、矩形カソード W100ｘH500mmによる 3元RFスパッタリング装置です。 基板サイズはW200×H300mmであり、X方向へ搬送しながら蒸着します。 また、基板200mmを30秒から15時間の時間で任意に設定し、膜厚調整や 様々な異種積層成膜が可能です。 【特長】 ■自動ス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社愛知真空

スパッタリング装置『nanoPVD-S10A』

高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

・APC自動制御（キャパシタンスマノメータ オプション） ・水晶振動子膜厚モニタ ・シャッター ・寸法：804(W) x 570(D) x 600(H)mm ・重量：約70kg ・電源：200VAC 50.60Hz 15A ・チャンバーサイズ：Φ225（内径）x 250mm ・真空系：TMP + RP（ドライポンプ オプション） ・ペルチェ冷却機構...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

スパッタリングの基礎知識

【技術資料を無料進呈】緻密で硬質な成膜が可能！自動車のミラーなどの生産…

対応するスパッタリング技術】 デクセリアルズのスパッタリング技術の強みは、「多種多様な元素を混ぜ合わせ、目的に合わせて 好適なターゲット素材を作り出せること」です。これまでに私たちは試作品で約200種類、量産品では 約30種類のターゲットを作り出してきました。 当社がスパッタリングターゲットに使用可能な元素は42種類にも及びます。スパッタリングにおける 直接的な製品は「ターゲットの...

メーカー・取り扱い企業： デクセリアルズ株式会社

デスクトップRFスパッタ装置『SVC-700RFIII』

コンパクトな卓上サイズで3源のカソードを搭載。絶縁薄膜、酸化物・窒化物…

【製品仕様】 スパッタ方式：RFマグネトロンスパッタ方式 カソード：φ2インチ×3源/水冷式 スパッタアップ スパッタ電源：RF電源 13.56MHz Max. 200W(手動式マッチングユニット付) 到達真空度：10^-4 Pa台 寸法： 　SVC-700RFIII(制御ユニット)：W370×D310×H195mm 　RF CONTROL UNIT：W...

メーカー・取り扱い企業： サンユー電子株式会社

スパッタリング装置『Star.500-EOSS(R)』

光学用の多層膜を高均一かつ再現性に優れた成膜を行う事を目的に開発！

『Star.500-EOSS(R)』は、光学フィルター成膜用として設計された マグネトロンスパッタシステムです。 成膜用のパーティクルを最小限にするためスパッタアップの方式を採用。 200mm径までのフラット並びに曲面の基板まで対応しており、 基板加熱機構も組み込みできます。 【特長とメリット】 ■傑出した光学多層膜の再現性 ■優れた膜厚均一性 ■シリンダー型スパッタ...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

スパッタリング装置『MiniLab-060』

蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…

2） ・プラズマエッチング：メインチャンバー、ロードロックチャンバーのいずれでも設置可能 【スモールフットプリント・省スペース】 ・デュアルラックタイプ（MiniLab-060）：1200(W) x 590(D)mm 【優れた操作性・直観的操作画面】 Windows PC、または７”タッチパネル。熟練度を問わない簡単操作、且つ安全に最大限配慮しております。...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

真空蒸着装置『MiniLab-090』（グローブボックス用）

グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…

時成膜、APC自動制御 ・膜厚モニタ：水晶振動子センサヘッドｘ4 ・膜厚制御：Inficon社 SQM-160（又はSQC-310） 2ch/4ch薄膜コントローラ  ・ユーティリティ：電源200V ３相 15A, 水冷3ℓ/min, N2ベント0.1Mkpa  ・その他オプション：基板回転/昇降, プラズマエッチング, ドライポンプ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

リモートイオンソース型 HR-PVDスパッタリングモジュール

指向性成膜を実現し、リアクティブスパッタリングも可能な高イオン電流ヘリ…

・200mmウェハまで対応可能 ・AVP Technology社独自の制御システムへの変更で中古クラスター装置への搭載も可能です。また、他のPVDやエッチングモジュールとの併用も可能です。 ＊詳細...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

実験用スパッタ装置

簡易でありながらφ3インチターゲットのマグネトロンカソードと200L/…

●　価格500万円(税込み) ●　φ3インチターゲット　1元カソード ●　RF300W電源、自動マッチングボックス付 ●　ガス系統：1系統(オプションにて3系統まで対応可)、 　　マスフローコントローラーによる調整 ●　酸化物など絶縁体のスパッタが可能。 ●　オプションにて基板ヒーターの取付可。 ●　余分なものを省きながら使いやすいシンプルな構造。 ●　800W×600L×900H...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヤシマ

スパッタ・蒸着源複合型 薄膜装置 【nanoPVD-ST15A】

真空蒸着（金属・有機蒸着源）、スパッタリングカソードの混在設置が可能な…

・IntelliLink Windows PCリモート監視ソフトウエア ◆オプション◆ ・基板加熱ヒーター Max500℃ ・ドライスクロールポンプ ◆ユーティリティ◆ ・電源：AC200V 単相 50/60HZ 15A ・プロセスガス：0.2Mpa ・ベントガス：0.04Mpa ・圧縮空気：0.6Mpa ・冷却水：2L/min 0.2Mpa ◆主なアプリケーション◆ ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

Aera FC-R7700シリーズ　マスフローコントローラ

経済性に優れた高精度ラバーシール

特長 ・高速応答性 ─ 設定値入力後2秒未満で流量安定 ・エラストマー（ゴム）シール ・VCR、VCO、Swagelok準拠の接続部 ・10sccm～200slmのフルスケール流量レンジ ・ノーマリ・クローズ型またはノーマリ・オープン型ソレノイド制御バルブ ・1x10-7Pa・m3/sec（He）以下の外部リークレート...

メーカー・取り扱い企業： 日立Astemo＆ナガノ株式会社

RAM インライン型スパッタリング成膜装置

パイロットラインから量産ラインへが展開が可能な装置です。

Max. Sub. Size : 200mm x 300mm x t0.2mm Number of substrate per tray:2 Tray size:350mm×1000mm×20tmm Effective depos...

メーカー・取り扱い企業： 京浜ラムテック株式会社

小型ウェブコーター(ロールＴＯロール）

実験用の小型成膜装置。ＰＥＴ等のフィルムに成膜します。

フィルム巾：100ｍｍ 厚み：50μ～100μ 長さ：200ｍ カソード：2SET RFボンバード可 仕様はお客様のご要望をできる限りお聞きし、柔軟に対応致します。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社富士アールアンドディー

高電流密度イオンビーム型イオン銃

EUROVAC社製VARIAN型廉価版3keVイオン銃

【仕様】 　■ イオンビームエネルギー:0–3keV 　■ イオン電流密度:>300μA/cm2 　■ 高スパッタリングレート:200Å/min 　■ ビーム径:2.5mm 　■ リモートコントロール機能:ビーム電圧のオンオフ 　■ イオンビームスキャニング機能: 　■ DC偏向機能: 　■ 自動出ガス機能: 　■ ...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社テク

ＳＲＲ-Ｗ（Ｎ）粘着ロール除塵装置

業界を問わずお客様を悩ませてきたメンテナンス時の粘着ロール洗浄をより迅…

■形式 ・ＳＲＲ-Ｗ（Ｎ） ■ワーク幅 ・500ｍｍ～2500ｍｍ（2500ｍｍ以上はご相談ください） ■制御装置 ・電源/ＡＣ100ＶＡＣ/200ＶＡＣ、50Ｈｚ/60Ｈｚ ・エアー駆動/5-7ｋｇ ・ドライブ/フリーロール（駆動用電源不要） ・半自動ロールクリーニング装置/Ｙａｎｇｏ独自のロール洗浄装置 ■粘着ロール ・ノンシリ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヤンゴージャパン

サファイア真空覗き窓(ビュ-ポート）

特許的な異質材質溶接技術で溶接しているサファイア真空覗き窓

影響することがない。 ◎広範囲波長でも安定な透過率を持つ。 製品仕様 1.真空度：1x10-10 torr 2.許容温度: -100℃～500℃ 3.透過率:80％以上 4.波長範囲:200nm～4800nm 5.フランジ材質:304S.S.或は316S.S. 6.フランジ接続:KF或はCF 7.磁性:無 ...

メーカー・取り扱い企業： 日揚科技股份有限公司

仕様多様化真空フランジ-「ICFフランジシリーズ」

高真空及び超高真空に対応可能の真空部品

【特長】 ○製品多様化 ○規格品を提供可能以外の特製品を提供できます。 ○製品の材質は基本的にSUS304ですが、他の材質も製造可能です。 ○許容温度：-200℃～450℃(OFHC Copper) ●規格品を提供可能以外に客先のニーズを応じて特注品を製造も可能なので、その他機能・ボルトの穴数や製品の厚みが規格品と違いの場合、ご相談ください。...

メーカー・取り扱い企業： 日揚科技股份有限公司

RAM クラスター型スパッタリング成膜装置

拡張スロットが5つあり、スパッタチャンバーや蒸着装置、グローブボックス…

Max. Sub. Size : 200mm x 200mm x t1mm Effective deposition width:200mm Number of substrate per tray:1 Deposition me...

メーカー・取り扱い企業： 京浜ラムテック株式会社

【nanoPVD-S10A】マグネトロンスパッタリング装置

高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

・APC自動制御（キャパシタンスマノメータ オプション） ・水晶振動子膜厚モニタ ・シャッター ・寸法：804(W) x 570(D) x 600(H)mm ・重量：約70kg ・電源：200VAC 50.60Hz 15A ・チャンバーサイズ：Φ225（内径）x 250mm ・真空系：TMP + RP（ドライポンプ オプション）...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

真空蒸着装置『MiniLab-080』

蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570…

同時成膜、APC自動制御 ・膜厚モニタ：水晶振動子センサヘッドｘ4 ・膜厚制御：Inficon社 SQM-160（又はSQC-310） 多チャンネル成膜コントローラ ・ユーティリティ：電源200V ３相 15A, 水冷3ℓ/min, N2ベント0.1Mkpa ・その他オプション：基板加熱, 冷却, 基板昇降・回転, ドライエッチング, ドライスクロールポンプ , ロードロック機構...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

【アルミ精密部品】プレート

半導体製造装置のアルミ精密部品　大阪　【コストダウンはフィリール株式会…

♦材質 A5052　(アルミ) ♦業界 半導体製造装置 ♦加工方法 マシニング加工 ♦表面処理 　－　(日本国内) ♦個数 200個 ♦説明 半導体製造装置のアルミ精密フライス部品となります。 弊社では、トリプル検査体制を行っております。 ※是非一度お見積りのご依頼をいただき、御社のご要望にお応えします。 ...

メーカー・取り扱い企業： フィリール株式会社 本社

トランスファーロッド（Ｚ-φ軸　KTXシリーズ）

【 4000台販売突破キャンペーン実施中 】 弊社トランスファーロッ…

ルを取り付けることが可能です。 また、腐食性ガス対応の仕様もございますので、ご相談下さい。 ＜3機種共通仕様＞ 許容リーク量：≦1.33×10-11Pa・m3/sec 許容加熱温度：≦200℃ 直進力：6kgf 回転トルク：9kgf/cm 回転角目盛：16° 駆動軸径：φ16mm 接続フランジサイズ：ICF-114FH 駆動方式：マグネット ◎詳しくはPDF資料をご...

メーカー・取り扱い企業： 北野精機株式会社

□■□【MiniLab-060】フレキシブル薄膜実験装置□■□

蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…

x 4 ・プラズマエッチング：メインチャンバー、ロードロックチャンバーのいずれでも設置可能 【スモールフットプリント・省スペース】 ・デュアルラックタイプ（MiniLab-060）：1200(W) x 590(D)mm 【優れた操作性・直観的操作画面】 Windows PC、または７”タッチパネル。熟練度を問わない簡単操作、且つ安全に最大限配慮しております。...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

□■□【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置□■□

グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…

同時成膜、APC自動制御 ・膜厚モニタ：水晶振動子センサヘッドｘ4 ・膜厚制御：Inficon社 SQM-160（又はSQC-310） 多チャンネル薄膜コントローラ  ・ユーティリティ：電源200V ３相 15A, 水冷3ℓ/min, N2ベント0.1Mkpa  ・その他オプション：基板加熱, 冷却, 基板昇降・回転, ドライエッチング, ドライポンプ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

Aera FC-R7800シリーズ　マスフローコントローラ

高精度・信頼性のメタルシールモデル

特長 ・高速応答性 － 設定値入力後1秒未満で流量安定 ・耐腐食設計 ・メタルシール採用 ・VCR準拠の接続部 ・10sccm～200slmのフルスケール流量レンジ ・ノーマリ・クローズ型またはノーマリ・オープン型ソレノイド制御バルブ ・1x10-11Pa・m3/sec（He）以下の外部リークレート...

メーカー・取り扱い企業： 日立Astemo＆ナガノ株式会社