DCブラシレスモータ用コントローラ

PRメカナムホイールを制御するサンプル動画あり！開発時間短縮に貢献します！

『DCブラシレスモータ用コントローラ』は、AGV（無人搬送車）や 移動型ロボットなどのモータ制御の開発時間短縮に貢献します。 シングルまたはデュアルチャンネルタイプをそれぞれ「SBLシリーズ」「FBLシリーズ」「GBLシリーズ」でラインアップ、高回転対応機種もございます。 CAN通信にも対応するほか、ホールセンサやエンコーダなど多くのロータ位置検出センサに対応しており、サーボモータ制御も可能...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アキュレイトシステムズ 伊那事業所

工作機械クーラント用ファインバブル浄化装置『バブルフレッシャー』

PR夏場に発生する腐敗臭を低減！液中の細かい汚れの浮上分離により、切削液の…

『バブルフレッシャー』は、クーラント中に浮遊する汚れを水面に集めて、 日常の清掃を簡単にするファインバブル浄化装置です。 腐敗臭を低減し、作業環境をより良くします。 また、クーラント寿命が長くなり、作業性・生産性が向上。 DC24V専用ポンプにより、低電圧安全設計を実現しています。 【特長】 ■小型で邪魔にならない ■水中に置くだけ簡単設置 ■薬剤なしで安全に臭い抑制 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社坂本技研

スパッタリング装置『nanoPVD-S10A』

高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

高機能 ハイパフォーマンス RF/DCマグネトロンスパッタリング装置 ● 到達圧力5 x 10-5Pa（*1x10-4Paまで最速30分！） ● スパッタ源 x 3：連続多層膜膜制御, 同時成膜 ● 膜均一性±3% ● 多彩なオ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

小型スパッタ装置『SS-DC・RF301』

小型設計ながら性能はキープ！高温での基板加熱が可能なスパッタ装置

『SS-DC・RF301』は、2"マグネトロンカソードと基板加熱機構をそれぞれ 1基搭載した小型スパッタ装置です。 シンプルな設計により、事務机の約半分のスペースに設置可能。 基板上下機構を採用し、タ...

メーカー・取り扱い企業： アリオス株式会社

【MiniLab-SA125A】 多元マルチスパッタ装置

高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…

連続多層膜、同時成膜（2〜6元同時成膜：RF, DCをHMIより自在に配置切替） 高出力RF, DC電源, パルスDC電源を独自の'プラズマ・スイッチング・リレー'モジュールでマルチカソードに自在に配置を組み合えることが可能、様々な用途に柔軟に対応...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

【マグネトロンスパッタリングカソード】

不純物なく金属・絶縁物等を堆積するRF, DC, パルスDC対応高効率…

【主仕様】 ■RF, DC, パルスDC対応 ■ターゲット厚さ：1/16"〜1/4" ■N型同軸コネクター接続 ■水冷式：4ℓ/min, 0.35Mpa Φ6mmチューブ接続 ■ケース材質：SUS304 ■ターゲッ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

【多目的真空蒸着装置】スパッタリングソース

多目的真空蒸着装置HEXシステム用RF&DCスパッタリングソース

多目的真空蒸着装置HEX／HEX-L用のスパッタリングソースです。 ターゲットが導体の場合はDCモードで、絶縁体の場合はRFモードで使用することができます。ガスフードが標準装備されているため、ターゲット表面近傍での圧力を高め、成膜中のチャンバー圧力を低く抑えることが可能です。 冷却水配管...

メーカー・取り扱い企業： テガサイエンス株式会社

蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム【MiniLab】

2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置（スパッタ、…

・抵抗加熱蒸着 x 2 ・有機蒸着限 x 2 2. MiniLab-S060A（スパッタリング装置） ・基板サイズ：Φ8inch ・Φ2"マグネトロンカソード x 4源同時スパッタ ・DC, RF両電源対応 3. Load Lockチャンバー ・プラズマエッチングステージ ロードロック室では「RF/DC基板バイアスステージ」による基板表面のプラズマクリーニング、又、同社独自の『...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

【ホットステージ】超高温基板加熱ステージ Max1800℃

超高温基板加熱ステージに、基板昇降・回転、RF/DC基板バイアスの全て…

◉ 超高真空・不活性ガス雰囲気中・その他各種プロセスガス雰囲気に対応 ◉ ステージ上下昇降（基板又はヒーター昇降、基板&ヒータ二段昇降式） ◉ 基板回転 ◉ RF(1KW)/DC(800V)バイアス印加（逆スパッタ） ◉ 使用環境に応じたエレメントの選択： グラファイト, CCコンポジット, ハロゲンランプヒーター, グラファイト/SiCコーティング, グラファイト/P...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

ロードロック方式スパッタリング装置 「SPH-2500-II」

膜厚分布：トレー内 ±1.2％、トレー間 ±1.5％を達成しました。

【装置構成】 ○装置サイズ　W2500×D1200×H1440 ○構成　ストッカー + 仕込室 + SP室 インターバック式 ○スパッタ方式　DCマグネトロン ○カソード　5インチ×7インチ　2対（うち1対が高使用効率カソード） ○DC電源　800V、3.75A （MAX1.5kW） ○トレイサイズ　L350mm×H210mm ○基板...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社昭和真空

R&D用スパッタ装置 QAMシリーズ

各種研究開発、材料開発等に幅広く対応できる成膜装置。多様性・拡張性を持…

ソード方式：　ロングスローマグネトロンスパッタリング　※ヘリコンスパッタ（通称）　※オプション ・カソード数：　2インチカソード（磁性体、非磁性体共用）　Max.4台まで搭載可能 ・搭載電源：　DC500W　1台　※DC500W、RF300Wを選択でき、Max.2台まで搭載可能　※オプション ・到達圧力：　1×10-4Pa　以下 ・対応基板サイズ：　Max.φ4インチ×1枚 ・膜厚分布：...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アルバック／ULVAC, Inc.

卓上型マグネトロンスパッタ装置『FDS/FRSシリーズ』

初期導入コストを抑え、拡張で高性能化が可能！研究ステージに合せてグレー…

『FDS/FRSシリーズ』は、必要な機能を備えた研究開発用の 卓上型マグネトロンスパッタ装置です。 基本仕様は、DCスパッタ/シングルカソード/ロータリーポンプで 構成される金属薄膜用スパッタ。 RF化、カソード増設、ターボ分子ポンプ仕様などの 拡張オプションにより、研究ステージに合せて グレードアッ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社FKDファクトリ

8インチスパッタコーター　SC-708シリーズ

大型サンプルの全面コーティングに最適なイオンコーターです。4～8インチ…

【仕様】 ○適用可能ターゲット：Au/Au-Pd/Pt/Pt-Pd/Pd 〇スパッタ方式：DC/平行平板型 〇排気操作：手動式 〇排気装置：直結型ロータリーポンプ　100L/min(自動リーク付) 〇寸法(W/D/H)：282/450/440mm ...

メーカー・取り扱い企業： サンユー電子株式会社

多種金属対応　プログラマブルスパッタコーター

Ni、Cr、W、Ti、Al等多種金属対応のハイスペックコンパクトコータ…

d/W/Ni/Mo/Cr/Ti/Al etc. 〇試料サイズ：φ70mm(Max) 〇排気操作：手動式 〇排気装置：直結型ロータリーポンプ　100L/min(自動リーク付) 〇スパッタ方式：DCマグネトロン/平行平板型 〇寸法(W/D/H)：360/422/265mm...

メーカー・取り扱い企業： サンユー電子株式会社

マグネトロンスパッタコーター　SC-701MC

イオンダメージを軽減するマグネトロンカソード採用 フルオートマチック…

ーゲット：Au/Au-Pd/Pt/Pt-Pd/Ag 〇試料サイズ：φ50mm(Max) 〇排気操作：自動 〇排気装置：直結型ロータリーポンプ　20L/min(自動リーク付) 〇スパッタ方式：DCマグネトロン/平行平板型 〇寸法(W/D/H)：225/420/320mm...

メーカー・取り扱い企業： サンユー電子株式会社

スパッタリング装置『MiniLab（ミニラボ）シリーズ』

モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

【MiniLabフレキシブル薄膜実験装置 構成モジュール】 ◉ 製作範囲 抵抗加熱蒸着（TE）、有機膜蒸着（LTE）、電子ビーム蒸着（EB）、RF/DCスパッタリング（SP）、T-CVD/PE-CVD、プラズマエッチング（RIE） ◉ チャンバー ・026（26Litter）-TE/LTE/SP/CVD/Etch/*Globe Box opti...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

研究開発用スパタ装置『HSK602VTA』

省スペース化を実現！同時放電による合金膜や積層膜の形成に最適なスパタ装…

【仕様】 ■カソード：DCφ2”マグネトロン×6基 ■シャッター機構：全個別シャッター ■スパッタDC電源：500mA × 6台独立 ■基板自転：10～30 rpm ■基板ホルダー：最大φ2、4枚 ■基板加熱：最大...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社ハヤマ

多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S060】

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

Φ2inchカソード x 4基搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF500W or DC850W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

小型スパッタリング装置

コンパクト設計で省スペースを実現！大学や民間の研究室に最適なスパッタリ…

【主な特長】 コンパクト設計により省スペース化を実現 RF/DC電源が可能 優れた膜厚均一性 タッチパネル(PLC)による簡単操作 大学の研究室や民間の研究開発に最適...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マツボー

スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】

スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置 コンパクトフレームに…

能です。 ◉組み合わせは3種類 1. スパッタカソード + 抵抗加熱蒸着源x2 2. スパッタカソード + 有機蒸着源x2 3. スパッタカソード + 抵抗加熱源x1 + 有機蒸着源x1（*DCスパッタのみ） ・蒸着範囲：Φ4inch/Φ100mm ・真空排気系：ターボ分子ポンプ + 補助ポンプ（ロータリー、又はドライスクロールポンプ） ・基板回転、上下昇降ステージ ・Max5...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

量産対応バッチタイプスパッタリング装置　（STH10311型）

φ４１０基板×４枚の自公転基板台を４枚備えたバッチ型のスパッタリング装…

装置形態 平行平板型サイドスパッタリング装置 カソード：ロータリーマグトロンカソード３元 対応基板：φ４１０までの平板基板 カソード電源：DCおよびRF 付属機構：基板加熱機構、逆スパッタ、バイアススパッタ機構 オプション機構 同時スパッタ機構 CｔｏＣ化、インライン化...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

シリンジ、薬液容器などの医療品や自動車にも対応！「DLC成膜」

スパッタリングで硬度なDLC（ダイヤモンドライクカーボン）を成膜し、医…

RAM CATHODEは、ターゲットを4面対向式にすることで、イオン化率を劇的に向上させ HIPIMS電源を使用せず、DCパルス電源でDLC（ta-C）の形成が可能 【従来のスパッタリング法】 カーボンのイオン化率が低い為、硬度なta-C領域を得るには、HIPIMS電源を使用し、 強制的にイオン化率を上げなけ...

メーカー・取り扱い企業： 京浜ラムテック株式会社

立体物用スパッタリング装置

立体物成膜での高いカバレッジを実現！ 最大3台のスパッタカソードを搭…

■ワークサイズ：最大φ5インチ×高さ40mm 　形状・サイズ・材質等で異なりますのでお問い合わせください ■スパッタカソード：マグネトロン方式、ターゲットシャッタ ■スパッタ電源：RFまたはDC ■プロセスガス：Ar、O2、N2、他 ■真空排気：TMP+RP ■圧力制御：APC制御 ■制御操作 　・制御：PLC 　・操作：タッチパネルまたはPC ※詳しくはPDF資料をご覧...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

High-Rate Depo. 圧電膜形成スパッタリング装置

半導体、MEMS、電子部品等に！単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電…

【仕様（抜粋）】 ■基板サイズ：最大φ12インチ ■スパッタカソード：マグネトロン方式、ターゲットシャッタ ■スパッタ電源：RFまたはDC ■プロセスガス：Ar、O2、N2、他 ■基板ステージ 　・基板加熱：700℃（基板表面） 　・自転：最高20rpm ■真空排気 　・構成1：TMP+DP 　・構成2：CP+DP ■...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

【納入事例】地方独立行政法人大阪産業技術研究所様

多層膜の作成を自動で実行することが可能なスパッタ装置の納入事例をご紹介…

ガス導入系、電源系、基板温度制御系および PCと制御装置からなる操作・制御系により構成。 スパッタ室には、ターゲットを取り付けるカソードが3元搭載されており、 それぞれのカソードにRF又はDC電圧を印加、または重畳して印加することも 可能です。 【事例概要】 ■納入先：地方独立行政法人大阪産業技術研究所様 ■納入製品：MS-3C100L型 ※詳しくはPDF資料をご覧いた...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社大阪真空機器製作所

射出成形機連動型高速スパッタ・重合システムSPP-SERIES

樹脂基板への金属膜、保護膜が全自動で成膜可能！

出しまで約80sec以下 ○反射率：85％以上、KOH　１％　10min ○SP室＋重合室　2室構成 ○スパッタ室：高使用効率型カソード 　（ターゲットサイズ440×240mm）、30kW　DC電源 ○重合室：グロー放電式重合電極×1　750W　RF電源 ○スパッタ材料：Al等 ○重合ガス：HMDSO(SiOx用）等 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてくだ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社昭和真空

スクリュー攪拌型粉体スパッタリング装置

省スペースで大容量！各種ご要望に合わせたオーダーメイドも製作可能！

【仕様（抜粋）】 ■ワーク：最大18L（形状・サイズ・材質等で異なります） ■スパッタカソード：マグネトロン方式 ■スパッタ電源：RFまたはDC ■プロセスガス：Ar、O2、N2、他 ■真空排気：拡散ポンプ+RP ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

粉体スパッタリング装置

お客様ご依頼サンプルによる受託成膜、立会実験にも対応いたします！

『粉体スパッタリング装置』とは、直径数μmまでの粉の表面に真空・ プラズマを使って薄膜をコーティングする装置です。 バレルスイング動作を基本とした攪拌機構を有し、 RFまたはDCスパッタ法による成膜が可能。 粉体材料の劣化防止や、粉体表面の電気伝導性の制御、 希少材料の薄膜化による省資源化などへの応用が期待できます。 【特長】 ■撹拌機構で均一な成膜 ■化...

メーカー・取り扱い企業： エイ・エス・ディ株式会社 技術研究所

高電流密度イオンビーム型イオン銃

EUROVAC社製VARIAN型廉価版3keVイオン銃

μA/cm2 　■ 高スパッタリングレート:200Å/min 　■ ビーム径:2.5mm 　■ リモートコントロール機能:ビーム電圧のオンオフ 　■ イオンビームスキャニング機能: 　■ DC偏向機能: 　■ 自動出ガス機能: 　■ 取付フランジ:ICF70 　■ 許容加熱温度:250℃...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社テク

コンビナトリアル・マグネトロンスパッタシステム CMS-3200

単一基板に数100条件の組成分布を形成。有効成膜エリアは1辺25mmの…

ープット化できます。 【特長】 ■2元・3元のコンビナトリアル組成傾斜成膜に対応 ■有効成膜エリア：1辺25mmの正三角形 ■2インチ・マグネトロン・スパッタカソード3基搭載 ■RF・DC電源を各3組最大6基搭載可能 ■LabView によるレシピ編集と全自動コンビナトリアル成膜 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社コメット

【多目的真空蒸着装置】有機蒸着源

多目的真空蒸着装置HEXシステム用有機蒸着源

【主な仕様】 ルツボ容量：15cc（10cc：オプション） 温度範囲：50℃～600℃ 電源：DC 冷却：水冷（1L／分）...

メーカー・取り扱い企業： テガサイエンス株式会社

【多目的真空蒸着装置】抵抗加熱蒸着源

多目的真空蒸着装置HEXシステム用抵抗加熱蒸着源

【主な仕様】 ボート容量：1cc～5cc 温度範囲：50℃～2200°C（材料に依存） 電源：DC600W（オプション：1.5kW）...

メーカー・取り扱い企業： テガサイエンス株式会社