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脱炭素化技術に挑戦!熱技術研究所のご紹介【2024最新情報!】
PR開設1周年!約80社のお客様にご来場いただきました。水素燃焼ガスバーナ…
2023年5月に開所した「熱技術研究所」、この一年で数多くのテストを行ってまいりました。 ~テスト設備概要~ ◇アルミ手許溶解保持炉 水素燃焼溶解による「溶湯品質」「溶解効率」を検証テストが可能。実機ベースのアルミ溶解炉です。 溶解能力:150kg/h 溶解:水素燃焼ガスバーナー 保持:電気ヒーター ◇塗装乾燥炉(試験設備) 実際の生産現場と遜色ない設備を使い、4 つの熱源でテストが可能...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社正英製作所
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フレキシブル半導体製造装置『SHUTTLELINEシリーズ』
PR薄膜堆積用PECVD・ドライエッチング・故障解析用プロセス対応。多機能…
『SHUTTLELINE(R)シリーズ』は、RIE/ICP-RIE、PECVD/ICP-CVDに対応し コンパクトながら高性能かつ多機能な半導体製造装置です。 成膜とエッチングプロセスを一台で実現し、様々なウエハサイズと形状に対応可能。 シャトルシステムにより、異なるサンプルサイズでもハードウェアの変更が不要です。 世界で広く採用されており、Plasma-Therm LLCの グ...
メーカー・取り扱い企業: プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社
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高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…
3源)、もしくは4"(1源) ◉ 2"カソード x 最大3源 ◉ 7"タッチパネル簡単操作 PLC自動プロセスコントロール ◉ MFC搭載高精度プロセス制御 ◉ Arガス1系統(標準) + N2, O2 最大3系統まで増設 ◉ USB端子付 Windows PCに接続し、最大1000layer, 50filmのレシピを作成・保存。PCでデータロギング。 ◉ 他、多彩なオプションを用意...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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最大200mm径基板!ダブルリングマグネトロン(Fraunhofer …
『scia Magna 200』は、回転式単体マグネトロンの マグネトロンスパッタ装置です。 アプリケーションは、TC-SAW向け温度補償膜(SiO2)、AlN等圧電膜、 光学用高・低屈折膜、絶縁膜(Si3N4, SiO2, Al2O3)です。 また、プロセスはマグネトロンスパッタとなっております。 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイテック・システムズ
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コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…
or DC850W)+ HiPIMS(PulseDC 5KW) x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF300W(メインチャンバー) + <30Wソフトエッチング(LLチャンバー) 基板加熱:Max500℃, 800℃, 又は1000℃(C/C...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…
振動子センサヘッドx2 ・膜厚制御:Inficon社 SQM-160(又はSQC-310) 2ch/4ch薄膜コントローラ ・ユーティリティ:電源200V 3相 15A, 水冷3ℓ/min, N2ベント0.1Mkpa ・その他オプション:基板加熱, 冷却, 基板昇降・回転, プラズマエッチング, ドライポンプ , ロードロック機構...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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真空蒸着装置『MiniLab-090』(グローブボックス用)
グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…
振動子センサヘッドx4 ・膜厚制御:Inficon社 SQM-160(又はSQC-310) 2ch/4ch薄膜コントローラ ・ユーティリティ:電源200V 3相 15A, 水冷3ℓ/min, N2ベント0.1Mkpa ・その他オプション:基板回転/昇降, プラズマエッチング, ドライポンプ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ(Φ4inch用)…
5pascal ・スパッタカソード:Φ2"(最大6)、Φ3"(最大4) ・プラズマ電源:RF150W, 300W, DC850W, HiPIMS 5KW ・MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング ・ターボ分子ポンプ + ドライスクロールポンプ ・メインチャンバー RIEエッチングステージRF300W ・LLチャンバー <30W 低出力制御*ソフトエッチング ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】
スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置 コンパクトフレームに…
2)、有機材料蒸着(最大4) ◉ 7"タッチパネル簡単操作 PLC自動プロセスコントロール ◉ APC自動圧力コントロール ◉ MFC搭載高精度プロセス制御 ◉ Arガス1系統(標準) + N2, O2 最大3系統まで増設 ◉ USB端子付 Windows PCに接続し、最大1000layer, 50filmのレシピを作成・保存。PCでデータロギング ◉ 他、多彩なオプションを用意 ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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各種研究開発、材料開発等に幅広く対応できる成膜装置。多様性・拡張性を持…
2) ロータリーポンプ ● ドライポンプ ※オプション ・最大ガス導入量: 1) Max.50sccm(Ar) 2) Max.10sccm(O2) 3) Max.10sccm(N2) ・ターゲットサイズ: φ2インチ ・チャンバーベーキング: ● 110°Cベーク(チャンバー水冷込) ※オプション ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社アルバック/ULVAC, Inc.
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High-Rate Depo. 圧電膜形成スパッタリング装置
半導体、MEMS、電子部品等に!単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電…
【仕様(抜粋)】 ■基板サイズ:最大φ12インチ ■スパッタカソード:マグネトロン方式、ターゲットシャッタ ■スパッタ電源:RFまたはDC ■プロセスガス:Ar、O2、N2、他 ■基板ステージ ・基板加熱:700℃(基板表面) ・自転:最高20rpm ■真空排気 ・構成1:TMP+DP ・構成2:CP+DP ■圧力制御:APC制御 ※詳し...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社
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立体物成膜での高いカバレッジを実現! 最大3台のスパッタカソードを搭…
さ40mm 形状・サイズ・材質等で異なりますのでお問い合わせください ■スパッタカソード:マグネトロン方式、ターゲットシャッタ ■スパッタ電源:RFまたはDC ■プロセスガス:Ar、O2、N2、他 ■真空排気:TMP+RP ■圧力制御:APC制御 ■制御操作 ・制御:PLC ・操作:タッチパネルまたはPC ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社
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不純物なく金属・絶縁物等を堆積するRF, DC, パルスDC対応高効率…
【主仕様】 ■RF, DC, パルスDC対応 ■ターゲット厚さ:1/16"〜1/4" ■N型同軸コネクター接続 ■水冷式:4ℓ/min, 0.35Mpa Φ6mmチューブ接続 ■ケース材質:SUS304 ■ターゲットクランプ材質:Al, or SUS304 ■ベローズ(*Flex...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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良好な絶縁膜形成を実現するバイアススパッタリング装置!
【特殊仕様】 ■絶縁層用カソード(1個)と電極層用カソード(2個)の計3元スパッタも仕様変更可能 (二酸化ケイ素SiO2や窒化ケイ素Si3N4,型式:SPR-015-B) ■排気系をクライオポンプに仕様変更可能 ■膜厚計で制御して積層する仕様変更可能(型式:SPR-015-B) ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社日本シード研究所
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省スペースで大容量!各種ご要望に合わせたオーダーメイドも製作可能!
【仕様(抜粋)】 ■ワーク:最大18L(形状・サイズ・材質等で異なります) ■スパッタカソード:マグネトロン方式 ■スパッタ電源:RFまたはDC ■プロセスガス:Ar、O2、N2、他 ■真空排気:拡散ポンプ+RP ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社
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高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…
2"カソード x 最大3源 ◉ 7"タッチパネル簡単操作 PLC自動プロセスコントロール ◉ APC自動圧力コントロール ◉ MFC搭載高精度プロセス制御 ◉ Arガス1系統(標準) + N2, O2 最大3系統まで増設 ◉ USB端子付 Windows PCに接続し、最大1000layer, 50filmのレシピを作成・保存。PCでデータロギング ◉ 他、多彩なオプションを用意...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570…
晶振動子センサヘッドx4 ・膜厚制御:Inficon社 SQM-160(又はSQC-310) 多チャンネル成膜コントローラ ・ユーティリティ:電源200V 3相 15A, 水冷3ℓ/min, N2ベント0.1Mkpa ・その他オプション:基板加熱, 冷却, 基板昇降・回転, ドライエッチング, ドライスクロールポンプ , ロードロック機構...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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スパッタリング装置 多機能スパッタ装置MiniLab-S060A
コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…
or DC850W)+ HiPIMS(PulseDC 5KW) x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング プラズマエッチングステージRF300W(メインチャンバー) + <30Wソフトエッチング(LLチャンバー) 基板加熱:Max500℃, 800℃, 又は1000℃(C/...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ(Φ4inch用)…
5pascal ・スパッタカソード:Φ2"(最大6)、Φ3"(最大4) ・プラズマ電源:RF150W, 300W, DC850W, HiPIMS 5KW ・MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング ・ターボ分子ポンプ + ドライスクロールポンプ ・メインチャンバー RIEエッチングステージRF300W ・LLチャンバー <30W 低出力制御*ソフトエッチング ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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□■□【MiniLab-060】フレキシブル薄膜実験装置□■□
蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…
振動子センサヘッドx2 ・膜厚制御:Inficon社 SQM-160(又はSQC-310) 2ch/4ch薄膜コントローラ ・ユーティリティ:電源200V 3相 15A, 水冷3ℓ/min, N2ベント0.1Mkpa ・その他オプション:基板加熱, 冷却, 基板昇降・回転, プラズマエッチング, ドライポンプ , ロードロック機構...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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□■□【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置□■□
グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…
晶振動子センサヘッドx4 ・膜厚制御:Inficon社 SQM-160(又はSQC-310) 多チャンネル薄膜コントローラ ・ユーティリティ:電源200V 3相 15A, 水冷3ℓ/min, N2ベント0.1Mkpa ・その他オプション:基板加熱, 冷却, 基板昇降・回転, ドライエッチング, ドライポンプ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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