洗浄装置　SA-1109

ウエハー洗浄装置。ハイスペックのクリーン度を要求されるお客様に最適

本装置は、ハイスペックのクリーン度を要求されるお客様に最適の装置です。Max8inchのウエハー5枚を同時に設定されたレシピパラメータに従い、自動で各工程を処理する為の自動化装置です。SDIが所有するディップコート(ディップコーティング)の技術を反映したディップコーター型洗浄装置です。 詳しくはお問い合わせ下さい。...【特徴】 ○ハイスペックのクリーン度を要求されるお客様に最適の装置 ○M...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ＳＤＩ

高性能高機能な洗浄機　ライン規模やレイアウトに応じた洗浄機を提供

完全オーダー品で細かなニーズに対応可能！自動超音波洗浄機や自動車部品精…

弊社は太陽電池、有機ELディスプレイ、自動車、産業機械、家電、食品、厨房機器、 精密機器、油圧機器、通信機器、農業、土木、建設と、広範囲な分野をカバーし、 いずれのマシンも、ユーザーの条件や目的に応じたオリジナル製品として開発しています。 独自の機構による高い機能性、作業性、安全性を確保しながら、 サブミクロン単位のダストを除去することで、高品質、高付加価値の製品づくりをサポートしています。 ...

メーカー・取り扱い企業： 特機工業株式会社

2流体ノズル ナイフジェット KJIS型 幅広製品のミスト洗浄に

スリットから均一に強力なミストを発生するノズル。噴射距離を短く設定でき…

通常のミスト洗浄ノズルは、単孔ノズルを複数個配置させ、噴射高さを50～100ｍｍに設定することで洗浄幅を確保しますが、 ナイフジェットノズルはエアーと液体をノズル内部で混合させ、スリットから均一で強力なインパクトのミストを噴射します。 そのため、噴射距離を従来より短く設定でき、洗浄効果が大幅に向上。 空気や液体の消費量の削減、とくに大型機のユーティリティーの削減に効果を発揮します。 【...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社共立合金製作所　/　総代理店　エバーロイ商事株式会社

ME-1000 枚葉式スピン洗浄装置

ブラシ洗浄、超音波洗浄、リンス洗浄、N2ブロー乾燥の処理を行う装置です…

省スペースで、両面洗浄可能なメカグリップ機構の枚葉式スピン洗浄装置です。 メンテナンスが容易で高速、スピン乾燥、Ｎ２乾燥、によりウオーターマークを軽減します。（特許第3558543)...【特徴】 省スペース、メンテナンス容易 高速、スピン乾燥、Ｎ２乾燥、によりウオーターマークを軽減 両面洗浄可能なメカグリップ機構（特許第3558543) 対応試料サイズ: Ф225以下　ウエ...

メーカー・取り扱い企業： マック産業機器株式会社 テクノロジーセンター

趙微細ファインバブル発生装置『UFB』

環境・農業・食品・水産業等様々な分野で活用可能！

『UFB』は、環境・農業・食品・水産業等 様々な分野で活用可能なファインバブルを発生させる装置です。 活性汚泥法排水処理での、ブロワーエネルギー削減、 汚泥削減に効果があるUFB-A型と 河川・運河・湖での浄化利用では、自然浄化能力が促進される UFB-B型をご用意しております。 【ファインバブル】 ■ウルトラファインバブル ■マイクロバブル ※詳しくは、お気軽にお問...

メーカー・取り扱い企業： WEF技術開発株式会社

UVオゾンクリーナー　UV-1

UV/O3クリーナー・UVオゾンクリーナー

UV-1は、フォトレジストアッシング、シリコンウエハークリーニング、クロムマスククリーニングなど各種半導体プロセスの完全ドライ処理を高濃度オゾンと紫外線照射の相互作用で効率よく行うことを目的として開発された研究開発用の洗浄装置です。 ...【特徴】 ○大気圧作動であるため真空システムが不要 ○コンパクト設計 ○操作が簡単、メンテナンスが容易 ○低コスト ●その他機能や詳細につ...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

株式会社SCREEN SPE クォーツ　郡山工場　事業紹介

安全・機能的な生産体制で石英製品の製造・加工を担う

株式会社SCREEN SPE クォーツの保有する郡山工場は、半導体製造装置関連の 分野における創業以来の生産拠点であり、半導体ウエハー洗浄用処理槽 （石英槽）の開発・製造を鋭意的に展開しています。 クリーン度がハイレベルに保たれた工場内では、材料調達から製品出荷 までの各工程が一貫して機能し、安全かつ効率的な生産体制を構築して います。 また、約1,700℃の高い軟化点を持つク...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社SCREEN SPE クォーツ いわき工場

UVオゾンクリーナー　UV-300H

UV/O3クリーナー・UVオゾンクリーナー

UV-300Hは、フォトレジストアッシング、シリコンウエハークリーニング、クロムマスククリーニングなど各種半導体プロセスの完全ドライ処理を高濃度オゾンと紫外線照射の相互作用で効率よく行うことを目的として開発された洗浄装置です。本装置は従来のUV/O3処理に比べ、高速処理が可能です。 ...【特徴】 ○従来のUV/O3処理に比べ、高速処理（200～300nm/min）が可能 ○非貴金属系触媒...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

UVオゾンクリーナー　UV-300

UV/O3クリーナー・UVオゾンクリーナー

UV-300は、フォトレジストアッシング、シリコンウエハークリーニング、クロムマスククリーニングなど各種半導体プロセスの完全ドライ処理を高濃度オゾンと紫外線照射の相互作用で効率よく行うことを目的として開発された洗浄装置です。 ...【特徴】 ○基板回転機構の採用により均一な処理が可能 ○基板径はφ370mmあり、大面積または多数枚の試料処理が可能 ○非貴金属系触媒のオゾン除去器を内蔵して...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社