分布 | イプロスものづくり

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メーカー・取扱い企業

無黄変型ウレタン微粒子「ダイミックビーズ」

PR柔軟性に優れた架橋ウレタン微粒子です。硬質樹脂の応力緩和に貢献します。

ダイミックビーズは懸濁重合反応によって合成するウレタン微粒子です。真球状でマイクロメートルオーダーの粒子径であり、組成や硬さ、粒子径の調整が可能です。【特長】・ウレタンの高い柔軟性と復元性・シャープな粒度分布・硬質樹脂の応力緩和、低反り、加工時の割れ防止・各種有機溶剤に対する優れた分散性・架橋微粒子のため、高い耐熱性や湿熱信頼性・光拡散性・艶消し性...【製品ラインナップ】粒径...

メーカー・取り扱い企業：大日精化工業株式会社
シリコンラバーヒーター【医療用機器活用事例】メディカルメッセ出展

PR電力の入れ具合で昇温スピードも設計可能！面でしっかりと確実に熱を伝えま…

医療用機器に『シリコンラバーヒーター』を導入した事例をご紹介します。「安定した熱でフィルムなどを加熱したい」「場所により出力を変えたい」「じっくりと安全に温めたい物がある」などが、従来の問題点でした。当製品は、ラバーヒーターと金属の組み合わせで、低温から高温まで面分布の良い加熱面を実現。また、ヒーター内部での回路分けや、1回路でも部分的に出力の強弱をつける設計が可能です。【導入後...

メーカー・取り扱い企業：オーエムヒーター株式会社
光学式細孔率・細孔分布測定装置

世界唯一の分光エリプソメーター技術でのEP(光学式ポロシメーター）細孔…

■ 前処理が必要がなく、 20分/ポイントと従来型に比べて高速に測定が可能です。 ...【アプリケーション】・Low-k膜の細孔率測定・色素増感太陽電池のTiO2細孔率測定・細孔サイズ（0.5~65nm)、厚さ（50nm～５um)のサンプル【特徴】・膜厚、屈折率、表面積、浸透率、ヤング率、CTE計測も測定可能・従来の方式に比べ、短時間での測定が可能（２０分/point...

メーカー・取り扱い企業：日本セミラボ株式会社新横浜本社
LCD用圧力分布測定システム

歩留まりアップを圧力管理からサポート！

◆.液晶ガラスの圧着部などの圧力分布がリアルタイムで測定・表示することができます。 ◆.測定データを２次元・３次元の画面で表示が可能です。また、取り込んだデータは再生が可能で、解析の機能も充実しています。 ◆センサーシート...

メーカー・取り扱い企業：蒲田工業株式会社
12インチ対応ウェハーワックス貼付装置『TEC-1001MB』

化合物半導体ウェハーなど、様々なワークに対応可能です！

貼り付け専用の装置です。ウェハーの特性に合わせ、圧力や温度、時間の条件設定が可能で、デバイスへのダメージも抑制できます。加熱・冷却機構の適正化と高剛性な機構設計により、均一な温度分布や安定した荷重分布を実現し、精度悪化に影響するワックス厚みムラの発生を防ぎます。【特長】 ■ウェハーの特性に合わせ、圧力や温度、時間の条件設定が可能 ■デバイスへのダメージも抑制でき...

メーカー・取り扱い企業：株式会社くまさんメディクス MPSD事業部　大津第1工場
ロータリー式ベーキング装置

ロータリー式ベーキング装置

当社が開発したロータリー式ベーキング装置、ムーブ・スカイは縦型炉構造のため設置面積を大幅に縮小しました。各ステージの仕切り壁により昇温時間の短縮、温度分布の向上、熱効率の改善を実現できました。また従来型タイプよりも搬送トラブルが減り、投入・取出しはラインとの組合せが簡単です。 ★設置スペース大幅縮小　縦型炉構造であるので設置スペースを大幅に縮小...

メーカー・取り扱い企業：木田精工株式会社
拡がり抵抗測定装置『SRP-170/2100』

PN接合の深さおよびキャリヤ濃度分布を測定！オプションにより表面抵抗測…

ます。斜め研磨したSiウェハーを深さ方向に2探針をコンタクトさせ、そのプローブ間の拡がり抵抗値からSiの深さ方向の比抵抗プロファイル、 EPI層の厚み、PN接合の深さおよびキャリヤ濃度分布を測定。「SRP2000」は、プローブのコンディショニング、ベベルアングルの測定、標準サンプルのデータ入力などが全自動化し、多数サンプルの連続自動測定ができ、サンプルは最大6個同時搭...

メーカー・取り扱い企業：日本セミラボ株式会社新横浜本社
シリコンウェハ用圧力分布測定システム

歩留まりアップを圧力管理からサポート！

◆シリコンウェハの大きさにより、センサーシートを用意しています。 ◆バッチ式だけでなく、毎葉式にも対応しています。 ◆センサーシートは厚さ約0.1mmと超薄型となっており、実使用に極めて近い状態での測定が可能です。 ◆測定データは２次元・３次元の画面で表示可能です。また、取り込んだデータは再生が可能で、解析の機能も充実しています（パソコンの使用可能機種は当社にお問い合わせください...

メーカー・取り扱い企業：蒲田工業株式会社
マニュアル両面マスクアライナー『BA100/160/200』

露光光源照度分布は±5％以内！デスクトップ型と自立型のモデルをラインア…

また、アライメント精度はTop-sideにて±2μm、Bottom-sideにて±5μm としております。【仕様（抜粋）】 ■ウェハサイズ：4in/6in/8in ■露光光源照度分布：±5％以内 ■露光解像度　・ソフトコンタクト：L/S 3μm 　・ハードコンタクト：L/S 1μm ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社三明本社、東京支店、大阪支店、神奈川営業所、山形営業所、浜松営業所、名古屋営業所、長野営業所、八戸営業所
半導体検査（ウエハテスト）サービス御提案書

信頼性試験から故障解析レポートまでサポートします！

菱進テックでは、半導体検査（ウエハテスト）サービスを行っています。自動車向け製品の品質管理として、良品チップの更なる品質向上を行うため、ウエハテスト結果より分布外れチップを検出し不良化する OST（Outliers Screening Test）などの技術を提供。その他に静電気管理や地震対策、信頼性試験などがあります。【ウエハテストの技術...

メーカー・取り扱い企業：株式会社菱進テック
ウエハテストの技術

生産数量に合わせたテスター能力改善をご提案致します。

の開発製作を行っています。「OST（Outliers Screening Test）」では、自動車向け製品の品質管理として、良品チップの更なる品質向上を行うため、ウエハテスト結果より分布外れチップを検出し不良化。テストの個別項目の測定値について、分布を算出、主分布より外れたデータのチップを不良化する「PAT」や、テスト結果のマップデータにてウエハ上の位置的な分布より...

メーカー・取り扱い企業：株式会社菱進テック
トップハットビームシェイパー　テクノロジー

滑らかな非球面レンズにより、特定の波長に制限されない高精度なトップハッ…

（特許取得）のトップハットビームシェイパーです。従来技術のDOE（Diffractive Optical Element）と同じように光の回折を利用してガウシアンビームをトップハット（均一な強度分布）に変換しますが DOE と異なり、以下のような特徴を持ちます。＊ひとつの素子で、広い波長範囲の対応が可能＊偽スポットがない＊理論効率が高い＊ライン状や正方形状の光ビームに変換できます。 ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社彩世
多元スパッタリング装置

基板温度900℃を実現！基板ステージに3軸機構を搭載し、均一な膜厚分布…

、金属膜、酸化膜等の積層成膜が可能です。 CVD室、蒸着室、プラズマクリーニング室等の組み合わせも対応可能。また、基板ステージに3軸機構（昇降、公転、自転）を搭載し、均一な膜厚分布を実現します。【特長】 ■当社独自のスパッタカソードを搭載 ■当社独自の急速昇降温基板加熱機構を搭載し、基板温度900℃を実現 ■最大4台のスパッタカソードを搭載し、金属膜、酸化膜等の...

メーカー・取り扱い企業：ジャパンクリエイト株式会社
３次元誘導加熱・温度解析ソフトウエア／μ-TM

複雑な加熱コイル形状に威力、高周波加熱、温度、発熱、磁場分布が見える！

す。クッキングのＩＨヒーティングお始め、機械加工、プレス、鋳造に至ります。課題は誘導加熱コイルが複雑な配置をしておりモデル定義が困難なこと、温度依存性を考慮した解析でなければ、実際の温度分布と差が出てしまう等があります。 μ-ＴＭは誘導加熱専用モジュールとする事で、これら課題に挑戦しています。【特長】・誘導加熱コイルによる磁場解析と非定常温度解析をシームレスに・...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ミューテック
『超高精度誘導発熱ジャケットロール』

250℃のロール表面温度で±0.5℃以内の温度分布を実現するジャケット…

温下で円筒度・真円度ともに0.003mm以内 ■常温下の円筒度・真円度・振れは究極ともいえる0.002mmを実現 ■カレンダやコーティング時の微小な変形を防止 ■ロール表面温度250℃での温度分布は±0.5℃以内の高精度詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：トクデン株式会社
シリコンウェーハ「熱電対付きシリコンウェーハ」

ウェーハ温度分布計測に必要不可欠なツール

【特徴】 ○半導体製造装置の開発・プロセス条件出しや温度分布計測に必要不可欠な　熱電対付きシリコンウェーハを温度計測器専門メーカの安立計器がご提供 ○引張荷重200g以上という高強度な熱接点固定部を実現 ○熱電対の経年変化による精度ズレの影響を最小限...

メーカー・取り扱い企業：安立計器株式会社
『High-Rate Depo. 圧電膜形成スパッタリング装置』

半導体、MEMS、電子部品等に！単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電…

ウェットプロセス装置、真空プロセス装置も取り扱いしておりますので、ご覧ください。「酸化膜／窒化膜プラズマCVD装置」 ■2周波独立印可方式により、低応力、高硬度、高絶縁性を実現 ■優れた膜厚分布および再現性を実現「カーボンナノチューブ合成装置」 ■全自動でCNT合成が可能 ■優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現 ■基板プラズマクリーニングシステム搭載 ■優れた膜厚分...

メーカー・取り扱い企業：ジャパンクリエイト株式会社
NAND解析システム（SigNAS）

NAND解析システム（SigNAS）

析システムです。ビットエラーレート、ECC後のページエラーレート、Data Retention や Program Disturb、Read Disturb によって発生するビットエラー、エラー発生分布などを測定することができます。　アルテラ社StratixIII FPGAを搭載したマザーボード、NANDフラッシュメモリ用TSOPソケットを搭載したドーターボード、Windowsベースの解析ソフ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社シグリード
多機能型・真空蒸着装置「SEC-22C」

リフトオフ・厚膜・低温成膜対応昭和真空の技術を結集させた最上位モデ…

る事ができます。蒸発速度の制御と膜厚の制御は水晶発振式膜厚計により行います。主ポンプはクライオポンプを搭載しています。操作制御系は全自動式になっています。【特徴】 ○良好な膜厚分布が得られるように蒸発源と基板治具が配置されている ○電子ビーム式蒸発源は6点式坩堝を採用していますので、　同一真空中内で6種類の成膜が可能 ○基板はφ75mmで30枚、φ100mmで20枚、...

メーカー・取り扱い企業：株式会社昭和真空
ロードロック方式スパッタリング装置「SPH-2500-II」

膜厚分布：トレー内 ±1.2％、トレー間 ±1.5％を達成しました。

○トレイサイズ　L350mm×H210mm ○基板搬送方式　ラック＆ピニオン搬送 ○ストッカー　10トレイ収納 ○排気系　ターボ分子ポンプ 2式／油回転ポンプ 2式【性能】 ○膜厚分布　トレイ内 ±1.2%　トレイ間 ±1.5% ○ターゲット使用効率　４４％（最大） ○タクト　3分／サイクル　 ※1枚目を除く ○到達圧力　仕込室 1.0×10^-3Pa以下　SP室 1.0×...

メーカー・取り扱い企業：株式会社昭和真空
R&D用スパッタ装置 QAMシリーズ

各種研究開発、材料開発等に幅広く対応できる成膜装置。多様性・拡張性を持…

ら要求される様々な機能に対して、アルバックの豊富な成膜技術と経験をもとに、幅広く対応できる低価格のＲ&Ｄ装置。【特徴】 ○低圧力プロセス ○多元同時/多積層膜スパッタ成膜 ○良好な膜厚分布 ○LTSの採用 ○磁性体薄膜への対応 ○フロントアクセス詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社アルバック／ULVAC, Inc.
加圧RTA装置

基板加熱温度最高1000℃！基板表面加熱プロセス特有の元素抜けを軽減！

圧RTA装置』は、減圧プロセスから加圧プロセス（0.9MPaG）まで対応することができる製品です。加熱源はハロゲンランプ、昇温レートは最大150℃/secとなっており、優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現します。半導体、MEMS、電子部品といった用途に使用できる装置で、基板表面の高速熱酸化、結晶化、アニーリング処理等が可能です。【特長】 ■加熱プロセス...

メーカー・取り扱い企業：ジャパンクリエイト株式会社
【研究・開発向け分析前加工機械】超精密研磨装置『PERET』

未経験者でも簡単にできる精密研磨装置！難しい高精度な前処理が誰でもでき…

な製品になっています。斜め研磨により、1回の研磨面から広い範囲を対象にSEMやXPSでの深さ方向の観察・分析が可能になります。また、浮彫研磨により研磨面内の広いエリア内の欠陥や材質違いの分布などを精密に観察・分析することができます。【特長】 ■nm削ることで発生する化学変質を起こさない ■浮彫研磨、斜め研磨、樹脂の変質無し研磨 ■高分解能10nm単位の研磨 ■断面を表面...

メーカー・取り扱い企業：株式会社パルメソ
RFスパッタ装置『SP-3400』

逆スパッタも可能！500Wの高周波電源を1台搭載し、金属・酸化物・絶縁…

電源は500Wの高周波電源を1台搭載しており、金属・酸化物・絶縁物等の成膜が可能となっています。整合器は自動整合器を2台搭載することにより切替にて逆スパッタもでき、成膜時の膜厚分布を良くする為に基板回転の機構も標準で搭載。オペレートタッチ画面を採用しており、初心者でも簡単に排気系の自動操作を行うことが可能で、誤作動防止のための安全回路を搭載しています。【特...

メーカー・取り扱い企業：株式会社サンバック本社
ロードロック式EB蒸着装置

好適な表面処理によるパーティクル低減！ロードロック式による高真空プロセ…

『ロードロック式EB蒸着装置』は、基板回転による優れた膜厚分布および再現性を実現しています。ロードロック式による高真空プロセスをはじめ、リフトオフプロセスや、トレイ搬送にも対応。最高900℃の高温プロセスが可能で、チャンバのメンテナンス...

メーカー・取り扱い企業：ジャパンクリエイト株式会社
石英ガラス高純度アニール炉

熱源はSiCヒーターを採用！高いクリーン性能を実現した高純度アニール炉

るべく炉体の大型化を進めており、お客様のご要望に応じて専用設計いたします。【特長】 ■ステンレス炉体と高純度断熱材を採用し、高いクリーン性能を実現 ■熱源はSiCヒーターを採用し温度分布性能の向上を図る ■対象製品の大きさに合わせて専用設計が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：アドバンエンジ株式会社
CVD、PECVD横型炉装置『EVADシリーズ』

フロー管理システムが搭載！粉体へも高温でのCVD/PECVDによる処理…

『EVADシリーズ』は、ガス、蒸気、液体や固体原料から合成・成膜可能な、 CVD、PECVD横型炉装置です。シングルゾーン、マルチゾーンによる温度分布を制御し、回転機構付き高品質ステンレス製チャンバーにより粉体へも高温でのCVD/PECVDによる処理が可能。 PLASMICON制御システムにより全自動プロセス、データ保存に対応してい...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ハイテック・システムズ
大電流DC放電型ラインビームイオン源『LBS-120HC』

大型基板対応可能！完全自動化された電源制御システムによる高速ビーム調整

BS-120HC』は、高速イオンビームミリング装置に適用できる大電流DC放電型ラインビームイオン源です。熱陰極を用いた大電流密度イオンビームで、最適化された磁界設計による優れたビーム分布均一性が特長。また、完全自動化で高速ビーム調整を可能とするように設計した専用電源「SPS-HC2」もご用意しております。【LBS-120HC 特長】 ■熱陰極を用いた大電流密度...

メーカー・取り扱い企業：ノベリオンシステムズ株式会社
スパッタ成膜ユニット

スパッタ成膜ユニット

マグネトロンスパッタ源と基板回転機構を装備したスパッタ成膜ユニット【特徴】 ○優れた膜厚分布を実現 ○DCスパッタリング、RFスパッタリングを切り替えて　使用する事が可能 ○2種類のスパッタ源を搭載することにより、異なった膜種を成膜可能 ○逆スパッタ機能搭載により、基板のクリー...

メーカー・取り扱い企業：株式会社メープル
フライアイレンズ

フライアイレンズ

露光装置やプロジェクタでは、フライアイレンズを使った光学系を用いることで照度ムラが打ち消され、照射面で周辺部まで均一で明るい照度分布が得られます。液晶パネル露光装置、半導体露光装置などで利用されています。ジャパンセルでは、単レンズの制作から、レンズ接合・蒸着加工まで一貫した自社製造を行っています。 ◆詳細は...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ジャパンセル
自動フォトレジスト塗布装置（スピンコーター）Coater

レジスト膜の面内均一性やウエハ間の平均膜厚の差が少ないコーターです。低…

厚み150um）、LT（厚み120um）など薄い基板の搬送実績も多数あります！設計から製造・販売まで自社で行っているので、低価格を実現しました！【特長】 ■スピンプロセスによる膜厚分布の高均一性 ■2～12インチまで対応可能 ■低～高粘度（1.7cP～10000cP）まで対応可能 ■自動ウェハサイズ検知機能 ■多彩な薬液に実績あり ■フットプリントの低減（省スペース化）...
メーカー・取り扱い企業：株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
【SHシリーズ基板加熱ヒーター】真空成膜用 Max1100℃

CVD, PVD（蒸着, スパッタ, PLD, ALD等）均熱性・再現…

BN（BNプレート, Moカバー）：φ2.1〜φ6.1inch 真空・不活性ガス用【特徴】 ◎ 最高温度1100℃（SH-BN）, 850℃（SH-IN） ◎ 短時間昇温 ◎ 面内温度分布 ±2%以内 ◎ 制御精度・再現性±1℃ ◎ 低価格 ◎ 短納期（標準約2週間 *フランジ付き, 回転・上下機構, 取付ブラケット付きなどは除く）...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
高温ホットプレート「PA4007型」

最高温度400℃！小型、高温のホットプレートです。

高温ホットプレート「PA4007型」は、全体サイズが158×106mmと小型のため、様々な場面でご使用頂けます。また、最高で400℃まで加熱出来ますが、温度分布も±0.8%と大変優れています。 MSAファクトリーのデジタル温度コントローラ PCCシリーズとワンタッチで接続頂けます。【特徴】 ○最高温度：400℃ ○プレートサイズ：70×80m...

メーカー・取り扱い企業：株式会社MSAファクトリー
真空アニール装置

真空アニール装置

セル内部の水分や有機ガスを除去できるので、パネルの品質も向上させることが出来ます。内部ヒーターやファンの改良により、クリーン度の高い槽内環境を実現しました。当社独自の技術により、真空加熱中の温度分布がよく、プロセス時間も短縮されます。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社協真エンジニアリング本社
加圧脱泡装置（オートクレーブ）

液晶ディスプレイの第7世代以降の大型パネル対応

加圧・加熱により粘着シート等の粘着剤に混入した気泡を除去し、粘着強度を短時間に増大させる装置です。当社独自の技術により均一な温度分布が得られ、プロセス時間も短縮されます。液晶ディスプレイの第7世代以降の大型パネル対応のインライン枚葉式のオートクレーブ装置もご用意しております。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社協真エンジニアリング本社
量産工程用露光装置『全自動マスクアライナー』

サイズは4inと8inをご用意！〇型□型試料に対応した高い汎用性を有し…

【仕様】 ■露光光源：照度分布±5％以内 ■露光解像度・ソフトコンタクトL/S 3μm ・ハードコンタクトL/S 1μm ■アライメント精度・Top-side ±1μm ・Bottom-side ±3μm ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社三明本社、東京支店、大阪支店、神奈川営業所、山形営業所、浜松営業所、名古屋営業所、長野営業所、八戸営業所
枚葉式プラズマリフロー装置（フラックスレスリフロー）テスト受付中

フラックスレスウェハバンプリフロー装置。微細バンプのリフローをウェット…

チャージアップダメージフリープロセス。信頼性の高い安定した搬送機構均一な温度分布による３００ｍｍウェハ面内のリフロー温度プロファイル３００ｍｍウェハの本格量産ラインに対応。各種上位通信、ＳＭＩＦポッド等規格対応。テストから設計、納入、立上まで一貫したチームサポート...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店
エアーノズルスリットエアーノズルエアーナイフ AK型

完全な水切りが可能！スプレー全幅における驚異的な均等性のあるエアーナイ…

ノズル幅方向の均一な衝突力分布を最大限に引き出す設計を施し、低圧損で強力なインパクトを得ることが可能なエアーナイフノズルです。【特長】・スプレー全幅における驚異的な均等性。・完全な水切りが可能・極細スリット0...

メーカー・取り扱い企業：株式会社共立合金製作所　/　総代理店　エバーロイ商事株式会社
簡易実験用スパッタリング装置

手動バッチ型と簡易ロードロック型の2機種　簡易ロードロックタイプで化合…

小型基板での少量生産に充分なプロセス性能を実現・ハードの信頼性と膜質の安定性を実現 ■簡易ロードロックタイプ・手動搬送機構を装備・クリーンで高い真空性能・均一な膜厚・プラズマ・加熱分布性能・高結晶性窒化膜(AlN)や高反射率金属膜の形成が可能・紫外ＬＥＤ用ＡｌＮテンプレート作成 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店
高周波超音波洗浄機（メガソニック）　UMCシリーズ

精密洗浄に適する高い周波数洗浄機（500kHz、1MHzHz）----…

超音波出力（ワット数表示）をデジタル詳細設定が可能で、エラー表示機能３、10 %から100 %まで1 % 刻みで出力調整可能４、調整可能なスイープ機能で、連続的な超音波周波数変調で均一な音場分布を実現５、洗浄液中の溶存ガスを追い出す脱気（DEGAS）モードを搭載６、高精度のデジタル調整可能な照射時間と間隔の制御機能７、ファームウェアのアップデート等に利用できるUSBポット付 ...

メーカー・取り扱い企業：新科産業有限会社
標準バッチタイプスパッタリング装置（ＳＲＶシリーズ）

多機能・コンパクト・フレキシブル対応、実績と信頼の標準型ラインナップ

コンパクトな筐体に３元のカソードを組み込んだ標準バッチタイプスパッタリングシリーズ。広い膜厚分布均一範囲と自動制御機構によって各種電子デバイスや関連材料の成膜工程をの基礎開発から量産までカバーします。多くの納入実績に支えられた成膜プロセスとオプションにより御要望を確実にサポートします。...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店
有機EL用成膜装置

有機EL用の実験装置です。搬送系の操作は、PCより制御可能です。全自動…

可能・有機材料と金属材料とのコンタミ防止用水冷ジャケット標準装備。・蒸着室内で基板とマスクを真空環境下にて各々交換可能。・基板とマスク間ギャップは最少。・基板回転機構により面内の膜厚分布平坦性±5％以内。・有機蒸着セルは指向性に優れており蒸着室内の材料汚染が少ない。・各処理室は特殊表面処理を施し使用真空環境圧力までの到達が速い。・グローブボックスと接続可能である。・...

メーカー・取り扱い企業：北野精機株式会社
縦型真空アニール装置

ウェハプロセス対応　本格量産システム　アニール・シンター・ポリイミドキ…

スや低酸素濃度を求められるプロセスに最適。縦型石英管型アニール装置。最大８インチ相当のウェハや各種基板に対応。ＣｔｏＣシステム採用による自動化＆クリーンシステム。中温から高温まで安定した温度分布性能と急令機構による短タクト処理真空だけでなく各種雰囲気（不活性、酸化、還元）雰囲気処理も可能な多機能型熱処理装置 ...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店
フラックスレス蟻酸リフロー装置

200mm/300mmウェーハ、ガラス、250mmのサブストレートPK…

【フラックスレス蟻酸リフロー】 ■処理時間：60~100枚/時 ■プロセス温度：100~260℃ (最大450℃) ■温度分布：±3℃以下 (9-point 測定) ■省スペースフットプリント: 4.95m2 / L x W x H =1.8 x 2.75 x 2.55 m 4層シングルウエハーチャンバー設計により...

メーカー・取り扱い企業： Yield Engineering Systems, Inc.
精密光学用イオンビームスパッター装置　IBS1400／1600

ビューラー・ライボルトオプティクスの真空IBS装置

基板サイズは4x350mmもしくは最大600mm系の大型基板。可動式ターゲットタワー・RF220 イオン源・OMS5100を用いたダイレクトモニタリング方式にてプラスマイナス0.3％の範囲内で膜厚分布を実現いたします。詳細はお気軽にお問合せください。 ...

メーカー・取り扱い企業：ビューラー株式会社
2,000℃を超えるカーボン加熱炉の開発・設計・試作支援

光ファイバの線引炉やガラス化炉で30年の実績がある加熱炉・加熱システム…

）４．カーボンヒータの抵抗値の設計５．電極設計６．冷却水系統の設計７．給気・排気系統の設計８．運転モード設計９．炉内の流れの設計指針（製品品質を考慮）１０．温度制御・温度分布測定方法カーボンヒータ加熱炉の主な仕様（１）最高温度：2,500℃ （２）ヒータ：断熱材：カーボンヒータ/カーボン系成形断熱材（３）炉体構造：水冷ジャケット（４）炉体材質：ステ...

メーカー・取り扱い企業：プロセスD&Tラボ千葉
インナーカップ式スピンコーター

インナーカップ方式による面内分布の向上と塗布液の軽減安価な価格設定…

【装置仕様】・基板サイズ：MAX２００mm□基板（対角300mm以内）・基板の受渡し方法：人手によるセット/リセット・装置重量：約50Kg 【ユニット構成】・カップ外径：φ５００mm ・カップ材質：SUS＋ミガキ#400 ・カップ処理：オプション　テフロンコーテ...

メーカー・取り扱い企業：ブルーオーシャンテクノロジー株式会社