排気 | イプロスものづくり

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セラミックス触媒による排気脱臭技術『セラ・ダイナミックス』

PR繰り返し使えて長寿命！自己再生能力を持つセラミックでカンタン悪臭対策！

『セラ・ダイナミックス』は、セラミック触媒を使用し、排気などのニオイを強力脱臭できる技術です。空調ダクトや排ガスダクトに設置するだけで、悪臭、油ミスト、有機溶剤を強力に吸着、分解、無害化し、悪臭防止法・PRTR・近隣対策ができます。 30万～40万種と言われる臭気成分に幅広く対応可能。用途や臭気成分などの条件に合わせて選べる製品ラインアップも魅力です。【『セラ・ダ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ファインセラ
廃液減容化装置『蒸発・濃縮装置 (電気式小容量)』

PR臭気成分などを熱分解して排気！廃液処理のコスト削減を可能に！

本装置は、電気ヒーターで廃液中の水分を蒸発させて濃縮し、蒸発時に発生する臭気成分などを熱分解して排気する、廃液減容化装置です。水溶性切削液、水溶性研削液などの含油廃液の場合は濃縮油を有価物にする事も可能です。【特徴】 ■廃液処理のコスト削減可能 ■高温、高粘度、スラッジ含有濃縮液の自動排出機構 ■排熱利用の省エネ機構 ■脱臭触媒を標準設置して排気ガスに臭気・煙が出ない ...
メーカー・取り扱い企業：プリテクノジャパン株式会社
マグネトロンスパッタコーター　SC-701MC

イオンダメージを軽減するマグネトロンカソード採用フルオートマチック…

軽量コンパクトながら高い再現性をもつデスクトップスパッタコーター【特徴】 ○イオンダメージを軽減するマグネトロンカソード採用 ○マグネトロンカソードが、質の高い薄膜作製に貢献 ○排気 → コーティング → 大気開放までフルオート ○電極用のスパッタ薄膜が手軽にコーティングできます ...

メーカー・取り扱い企業：サンユー電子株式会社
全自動イオンコーター　SC-701AT

SEM用試料作製に適した全自動イオンコーター

QUICK AUTO COATER SC-701ATは、真空排気からコーティング(エッチング)、大気解放までを自動で行なう全自動タイプのコーターです。【特徴】 ○膜厚制御連動方式により、個人差の少ないコーティングが可能(良再現性)。 ○コーティング/...

メーカー・取り扱い企業：サンユー電子株式会社
8インチスパッタコーター　SC-708シリーズ

大型サンプルの全面コーティングに最適なイオンコーターです。4～8インチ…

【仕様】 ○適用可能ターゲット：Au/Au-Pd/Pt/Pt-Pd/Pd 〇スパッタ方式：DC/平行平板型〇排気操作：手動式〇排気装置：直結型ロータリーポンプ　100L/min(自動リーク付) 〇寸法(W/D/H)：282/450/440mm ...

メーカー・取り扱い企業：サンユー電子株式会社
多種金属対応　プログラマブルスパッタコーター

Ni、Cr、W、Ti、Al等多種金属対応のハイスペックコンパクトコータ…

様】 ○ターゲットサイズ：φ49mm 〇適用可能ターゲット：Au/Pt/Au-Pd/Pt-Pd/Ag/Pd/W/Ni/Mo/Cr/Ti/Al etc. 〇試料サイズ：φ70mm(Max) 〇排気操作：手動式〇排気装置：直結型ロータリーポンプ　100L/min(自動リーク付) 〇スパッタ方式：DCマグネトロン/平行平板型〇寸法(W/D/H)：360/422/265mm...

メーカー・取り扱い企業：サンユー電子株式会社
多機能スパッタリング装置【MiniLab-S060】

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

x500℃, 800℃, 又は1000℃（C/C、又はSiCコート）基板回転・上下昇降（ステッピングモーター自動制御） APC自動制御：アップストリーム（MFC流量調整）又はダウンストリーム（排気側バルブ自動開度調整）寸法：1,120(W) x 800(D) ●プラズマエッチングはメインチャンバー、ロードロックチャンバーのいずれへも設置可能です。 ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
研究開発用スパッタリング装置

コンパクト・ローコスト・充実機能、研究開発用ローコストスパッタリング装…

少量生産対応可能な上位機種の能力を手動操作型の簡易実験機で実現８インチ対応の多元高周波スパッタリング装置。高速排気と高いプロセス性能によりＭＥＭＳ・化合物半導体・電子デバイスの基礎研究に対応電子部品の量産対応実績を持つバッチタイプスパッタリング装置シリーズ...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店
RFスパッタ装置『SP-3400』

逆スパッタも可能！500Wの高周波電源を1台搭載し、金属・酸化物・絶縁…

整合器は自動整合器を2台搭載することにより切替にて逆スパッタもでき、成膜時の膜厚分布を良くする為に基板回転の機構も標準で搭載。オペレートタッチ画面を採用しており、初心者でも簡単に排気系の自動操作を行うことが可能で、誤作動防止のための安全回路を搭載しています。【特長】 ■3インチ用カソードを3源搭載 ■電源は500Wの高周波電源を1台搭載 ■金属・酸化物・絶縁物...

メーカー・取り扱い企業：株式会社サンバック本社
バイアススパッタリング装置『SPR-014-B』

良好な絶縁膜形成を実現するバイアススパッタリング装置！

ピンホール密度が低く、良好なステップカバレージ性を備えた良好な絶縁膜形成ができます。【特長】 ■低いピンホール密度 ■良好なステップカバレージ性 ■次の電極層に有利な平坦性　・排気系はドライポンプと磁気浮上型TMPの排気システム　・基板側とターゲット(カソード)に高周波電力を同時に印可　・ロードロック式の1元スパッタリング装置（容易に基板セット可能） ※詳しくは...

メーカー・取り扱い企業：株式会社日本シード研究所
簡易実験用スパッタリング装置（ＳＲＶ３１００型）

小径基板専用のコンパクトタイプスパッタリング装置　全手動操作で低コスト…

高い信頼性をもつ上位機種と真空槽・排気系を共通化。操作方法の手動化によって低コスト化を実現。膜種・目的に合わせて各部（カソード・基板台等）が選択可能。実績豊富な各部機構と安定した成膜性能で研究開発作業の効率化・質の向上が「図れます。...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店
ロードロック方式スパッタリング装置「SPH-2500-II」

膜厚分布：トレー内 ±1.2％、トレー間 ±1.5％を達成しました。

用効率カソード） ○DC電源　800V、3.75A （MAX1.5kW） ○トレイサイズ　L350mm×H210mm ○基板搬送方式　ラック＆ピニオン搬送 ○ストッカー　10トレイ収納 ○排気系　ターボ分子ポンプ 2式／油回転ポンプ 2式【性能】 ○膜厚分布　トレイ内 ±1.2%　トレイ間 ±1.5% ○ターゲット使用効率　４４％（最大） ○タクト　3分／サイクル　 ※1枚...

メーカー・取り扱い企業：株式会社昭和真空
射出成形機連動型高速スパッタ・重合システムSPP-SERIES

樹脂基板への金属膜、保護膜が全自動で成膜可能！

【仕様】 ○最大基板寸法　W180×L340×D150mm ○基板材質　PC, PET, PP, PE 等 ○スパッタレート：10nm/sec ○排気速度　0.1paまで30sec ○排気系　RP＋TMP ○生産サイクルタイム：基板投入から成膜、重合、取り出しまで約80sec以下 ○反射率：85％以上、KOH　１％　10min ○SP室＋...

メーカー・取り扱い企業：株式会社昭和真空
小型スパッタ装置

対応基板は最大φ1インチまで処理が可能！デュアルガスノズルを備えた装置

【仕様】 ■構成：成膜室および排気系、ガス導入系 ■到達圧力：6.7 x 10^-5Pa以下（排気後3時間） ■基板サイズ：1インチSiウェハ1枚 ■膜圧分布：±5%以下（1インチ基板のφ20mm内） ■ターゲット寸法：φ2...

メーカー・取り扱い企業：株式会社和泉テック
スパッタリング装置『MiniLab-060』

蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…

*ラージチャンバーオプションMiniLab-070（450 x 450 x 450）・ポンプ：ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ（ドライポンプも可）・最大基板サイズ：Φ8inch ・真空排気：真空/ベント自動制御・抵抗加熱蒸着：最大4源（Model. TE1～TE4蒸着源）・有機蒸着：最大4源（Model. LTEC-1cc/5cc) ・電子ビーム蒸着：7ccるつぼｘ６（又は...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
真空蒸着装置『MiniLab-090』（グローブボックス用）

グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置高さ570m…

大基板サイズ：Φ10inch ・SUS304 80ℓ容積 400x400x570mm フロントローディングチャンバー・ポンプ：ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ（ドライポンプも可）・真空排気：真空/ベント自動制御・抵抗加熱蒸着：最大4源（Model. TE1～TE4蒸着源）・有機蒸着：最大4源（Model. LTEC-1cc/5cc) ・EB電子ビーム蒸着源：7ccるつぼｘ６...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】

スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置コンパクトフレームに…

着源x2 2. スパッタカソード + 有機蒸着源x2 3. スパッタカソード + 抵抗加熱源x1 + 有機蒸着源x1（*DCスパッタのみ）・蒸着範囲：Φ4inch/Φ100mm ・真空排気系：ターボ分子ポンプ + 補助ポンプ（ロータリー、又はドライスクロールポンプ）・基板回転、上下昇降ステージ・Max500℃基板加熱ヒーター・水晶振動子膜厚センサー・7”タッチパネルH...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
超高真空スパッタリング装置（STM2323型）

先端薄膜デバイスの研究開発に最適。カスタマイズ容易な枚葉式超高真空イン…

１０‐⁷ｐａの排気性能を持つ超高真空スパッタリング装置。標準構成でカセット室・搬送室・エッチング室・複数のスパッタ室を装備。全自動ＣｔｏＣ方式による完全自動運転で研究開発作業の効率化を実現いたします。高効率強磁性...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店
スパッタ・蒸着源複合型薄膜装置【nanoPVD-ST15A】

真空蒸着（金属・有機蒸着源）、スパッタリングカソードの混在設置が可能な…

蒸着源（最大2）・有機蒸着源（最大2） ◆基板サイズ◆ ・〜Φ4inch/Φ100mm基板ホルダー（特注ホルダー応相談） ◆膜厚センサー◆】・水晶振動子膜厚センサー x 1 ◆真空排気◆ ・ターボ分子ポンプ、ロータリーポンプ ◆付属ソフトウエア◆ ・IntelliLink Windows PCリモート監視ソフトウエア ◆オプション◆ ・基板加熱ヒーター Max500℃ ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
R&D用スパッタ装置 QAMシリーズ

各種研究開発、材料開発等に幅広く対応できる成膜装置。多様性・拡張性を持…

1×10-4Pa　以下・対応基板サイズ：　Max.φ4インチ×1枚・膜厚分布：　±5％以内（Al成膜時、基板回転併用）・基板加熱機構：　●ランプヒータ　常用400°C　※オプション・排気系：　1）ターボポンプ　2）ロータリーポンプ　● ドライポンプ　※オプション・最大ガス導入量：　1） Max.50sccm（Ar）　2） Max.10sccm（O2） ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社アルバック／ULVAC, Inc.
High-Rate Depo. 圧電膜形成スパッタリング装置

半導体、MEMS、電子部品等に！単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電…

トロン方式、ターゲットシャッタ ■スパッタ電源：RFまたはDC ■プロセスガス：Ar、O2、N2、他 ■基板ステージ　・基板加熱：700℃（基板表面）　・自転：最高20rpm ■真空排気　・構成1：TMP+DP 　・構成2：CP+DP ■圧力制御：APC制御 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：ジャパンクリエイト株式会社
【納入事例】地方独立行政法人大阪産業技術研究所様

多層膜の作成を自動で実行することが可能なスパッタ装置の納入事例をご紹介…

研究所様に、マグネトロンスパッタリング装置を納入した事例を紹介させていただきます。今回納入しました装置は、当社の「MS-3C100L型」で、スパッタ室、ロードロック室(LL室)、真空排気系、ガス導入系、電源系、基板温度制御系および PCと制御装置からなる操作・制御系により構成。スパッタ室には、ターゲットを取り付けるカソードが3元搭載されており、それぞれのカソードにRF...

メーカー・取り扱い企業：株式会社大阪真空機器製作所
多源同時マグネトロンスパッタ装置『FRS-HGシリーズ』

放電操作が容易！RF電源にオートマッチングを採用したコンパクトな設計

0W×2台オートマッチング仕様 ■カソード：φ2インチ/マグネトロンカソード ■適用ターゲット：Au/Ag/Pt/Pd/Ni/Cu/W/Cr/Ti/Ta/Mo/各種酸化物/各種窒化物 ■真空排気系：ターボ分子ポンプ＋ロータリーポンプ ■真空計：フルレンジゲージ ■ガス流量調整：アルゴン用MFC 50sccm ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社FKDファクトリ
卓上型マグネトロンスパッタ装置『FDS/FRSシリーズ』

初期導入コストを抑え、拡張で高性能化が可能！研究ステージに合せてグレー…

m＞ ■スパッタ電源：DC500V/0.8A ■カソード：φ2インチ/マグネトロンカソード ■適用ターゲット：Au/Ag/Pt/Pd/Ni/Cu/W/Cr/Ti/Ta/Mo/etc. ■真空排気系：ロータリーポンプ 162L/min ■真空計：ピラニゲージ ■ガス流量調整：アルゴン用MFC 20sccm ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社FKDファクトリ
立体物用スパッタリング装置

立体物成膜での高いカバレッジを実現！最大3台のスパッタカソードを搭…

状・サイズ・材質等で異なりますのでお問い合わせください ■スパッタカソード：マグネトロン方式、ターゲットシャッタ ■スパッタ電源：RFまたはDC ■プロセスガス：Ar、O2、N2、他 ■真空排気：TMP+RP ■圧力制御：APC制御 ■制御操作　・制御：PLC 　・操作：タッチパネルまたはPC ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：ジャパンクリエイト株式会社
小型スパッタ装置『SS-DC・RF301』

小型設計ながら性能はキープ！高温での基板加熱が可能なスパッタ装置

【仕様】 ■到達真空度：1×10^-4 Pa以下 ■リーク量：1×10^-8 Pa・m3/sec以下（Oリング透過分を除く） ■排気系：TMP+ダイヤフラムポンプ（またはロータリーポンプ） ■真空計　フルレンジ真空計（コールドカソード+ピラニーゲージ）　+キャパシタンスゲージ（オプション） ■基板ステージ：2インチ対...

メーカー・取り扱い企業：アリオス株式会社
研究・開発用機器/超高真空機器

信頼性の高いシステムを構築！メンテナンスや改造も当社にお任せください

2系統のガス導入が可能な「RFマグネトロンスパッタ装置」や安価で手軽に薄膜作製が可能な「小型真空蒸着装置」など真空成膜装置を多数ラインアップ。その他「真空チェンバー」や「ターボ真空排気装置」などの各種研究用装置もご用意しております。ご用命の際はお気軽にご相談ください。【特長】＜真空成膜装置＞ ■装置の拡張性を考慮 ■経済性なシステムとなるよう設計 ■...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ヤシマ
移動ロードロックシステム『CEX-2420』

スパッタ装置用、PLD装置用の2つの接続ポートを装備！各試料ホルダーへ…

0」間、あるいは、パスカル社製「PLD装置」間で、大気暴露なしに成膜試料を超高真空下で移載搬送できる移動ロードロックシステムです。 L/L室と接続ポート部は、独立したターボ分子ポンプで排気され、試料を常に超高真空下に持ちます。また、スパッタ装置用、PLD装置用の 2つの接続ポートを備え、各試料ホルダーへの試料の移載が可能。無停電電源でバックアップされ、30分以上の移動時...

メーカー・取り扱い企業：株式会社コメット
スクリュー攪拌型粉体スパッタリング装置

省スペースで大容量！各種ご要望に合わせたオーダーメイドも製作可能！

仕様（抜粋）】 ■ワーク：最大18L（形状・サイズ・材質等で異なります） ■スパッタカソード：マグネトロン方式 ■スパッタ電源：RFまたはDC ■プロセスガス：Ar、O2、N2、他 ■真空排気：拡散ポンプ+RP ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：ジャパンクリエイト株式会社
イオンビームスパッタリング装置

RFイオンソースを使用し、シングルステージまたはプラネタリーステージを…

【装置仕様概略】　・スパッタリング用イオンソース　　フォーカスグリッド　・アシスト用イオンソース　　デフォーカスグリッド　・シングルステージ　・ターゲットホルダー　・排気系　・制御系【オプション】　・プラネタリーステージ　・膜厚計　　透過型光学モニター　　水晶膜厚計　・全自動多層薄膜成膜ソフト...

メーカー・取り扱い企業：アールエムテック株式会社
スパッタリング装置多機能スパッタ装置MiniLab-S060A

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

x500℃, 800℃, 又は1000℃（C/C、又はSiCコート）基板回転・上下昇降（ステッピングモーター自動制御） APC自動制御：アップストリーム（MFC流量調整）又はダウンストリーム（排気側バルブ自動開度調整）寸法：1,120(W) x 800(D) ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着などの混在仕様も構成可能です。...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
真空蒸着装置『MiniLab-080』

蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。高さ570…

【主仕様】・SUS304 80ℓ容積 400x400x570mm フロントローディングチャンバー・ポンプ：ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ（ドライポンプも可）・真空排気：真空/ベント自動制御・抵抗加熱蒸着：最大4源点（Model. TE1～TE4蒸着源）・有機蒸着：最大4源（Model. LTEC-1cc/5cc) ・EB電子ビーム蒸着源：7ccるつぼｘ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
□■□【MiniLab-060】フレキシブル薄膜実験装置□■□

蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…

*ラージチャンバーオプションMiniLab-070（450 x 450 x 450）・最大基板サイズ：Φ8inch ・ポンプ：ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ（ドライポンプも可）・真空排気：真空/ベント自動制御・抵抗加熱蒸着：最大4源（Model. TE1～TE4蒸着源）・有機蒸着：最大4源（Model. LTEC-1cc/5cc) ・電子ビーム蒸着：7ccるつぼｘ６（又は...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
□■□【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置□■□

グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置高さ570m…

【主仕様】・SUS304 80ℓ容積 400x400x570mm フロントローディングチャンバー・ポンプ：ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ（ドライポンプも可）・真空排気：真空/ベント自動制御・抵抗加熱蒸着：最大4源（Model. TE1～TE4蒸着源）・有機蒸着：最大4源（Model. LTEC-1cc/5cc) ・EB電子ビーム蒸着源：7ccるつぼｘ６...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
表面処理装置　走査型イオン銃　「40E1型」

表面処理装置　走査型イオン銃

【特徴】 ◯フルソフトウェア動作 ◯２段の差動排気 ◯酸素、水素、ハイドロカーボンのような活性ガスに対しても使用可能 ◯超高真空下でイオン銃の操作が可能 ◯ウィンマスフィルターの装着が可能 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧く...

メーカー・取り扱い企業：株式会社テクノポート