洗浄工程 | イプロスものづくり

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ナノバブル発生装置　PANDORA　コストダウン　生産向上

PR砥石寿命２倍砥石切込み５倍加工抵抗50％減ファインバブルを…

ナノバブル発生装置　PANDORA（パンドラ）は製造業向けに大量のナノバブルとマイクロバブルを同時発生させる事が出来る装置です。ナノバブルを現在お使いのクーラントに発生させる事により冷却効果、洗浄効果を発揮し飛躍的に砥石の寿命を延ばしたり、冷却性能を上げ寸法精度を向上させたり、条件UPにて加工能率を向上させることが可能です。是非、業界最多バブル量にて効果を実感下さい。...国内...

メーカー・取り扱い企業：昌弘貿易株式会社関西営業本部
法規制に非該当でも高性能な洗浄剤『ＡＭＯＬＥＡＡＳ-３００』

PR『ＡＭＯＬＥＡ（アモレア）』は乾燥工程が短縮でき、不燃性で作業環境濃度…

「地球」を考える「化学」の時代。ＡＧＣが提案する新製品！フッ素系溶剤『ＡＭＯＬＥＡ（アモレア）ＡＳ-３００』は、各種法規制や環境規制に非該当、安全で使いやすい不燃のフッ素系洗浄剤です。【特長】 ■環境対応…地球温暖化係数（ＧＷＰ）１未満で、地球環境に配慮した洗浄剤です。 ■洗浄力…ＫＢ値４８の優れた洗浄力で、精密・金属部品の脱脂洗浄に使用可能。可燃性溶剤や臭素系、塩素系溶剤の代替として...

メーカー・取り扱い企業：ＡＧＣ株式会社化学品カンパニー
水なし、風だけでパーティクルを徹底除去『エアースクリューノズル』

【もはや革命】水洗浄不要！エアーブローだけでパーティクルを除去します

の噴出力がケタ違い。強力なエアーブローにより、半導体に付着したパーティクルを除去します。（クラス100対応）つまり、これまで「1.水洗浄 ⇒ 2.水切り ⇒ 3.乾燥」と3ステップで行っていた洗浄工程が一変。水を使わず「エアーブロー」だけ、1ステップで完了。圧倒的に工程を短縮できます。 ■メリット１：生産性・生産量の向上水洗浄～水切り～乾燥の一連の工程が、エアーブローのみによる洗浄に置...
メーカー・取り扱い企業：ピュアトラスト株式会社
石英管洗浄装置(HTC/VTCシリーズ)「薬液、純水削減に貢献」

縦型洗浄装置(VTCシリーズ)は省スペースで「薬液・純水削減」に貢献。…

「HTC／VTC」シリーズは、拡散工程・CVD工程・アニール工程で使用される石英管の洗浄を目的とした石英管洗浄装置です。【特徴】 ■石英管の形状・洗浄用途に合わせた装置ラインナップ　・6インチ・８インチ・１２インチプロセス用の石英管に対応致　・石英管の形状・洗浄用途に合わせ、横型式(HTC)と縦型式(VTC)の装置を選択可能 ■省スペースで「薬液・純水削減」に貢献　・縦型...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行
【半導体対応】100％水切りできる『エアースクリューノズル』

エアーブローでの完全水切りがついに実現！瞬時な100％水切り・完全乾燥…

【とにかく動画が証拠です。必ずご覧ください！】従来のエアーノズルでは、洗浄後にエアーブローのみで100％水切りすることは不可能であり、完全乾燥させるには別途乾燥工程が必要でした。それどころか「エアーノズルでは完全な水切りは不可能」というのが製造業の常識にすらなってしまっています。しかし、当エアーノズルは独自の特許技術により100％水切りを実現。瞬時に100％水切り・完全乾燥が可能となりまし...
メーカー・取り扱い企業：ピュアトラスト株式会社
フォトリソ工程洗浄剤　NDシリーズ

フォトリソ工程装置内（ノズル、搬送ローラー、槽壁等）に固着したレジ…

ドライフィルムレジスト(DFR)現像槽、剥離装置、ソルダーレジスト(SR)現像装置に付着したスカムをスプレイ処理により擦らず、簡単に除去可能なフォトリソ工程洗浄剤です。消泡剤不要であり、溶解許容量まで繰り返し使用する事が可能です。...【特徴】・固着したレジストスカムを簡単に除去・溶解許容量まで繰り返し使用可能・消泡剤不要【製品】 ND-431：DFR現像槽内洗浄、酸性洗浄剤...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ADEKA
FOUP洗浄装置

洗浄しにくい凹凸部を高圧パルスジェットで洗浄！手作業よりも安定した洗浄…

洗浄物との距離を一定間隔に保ちながら、高圧パルスジェットによる各種ボックスの洗浄を行う洗浄装置です。洗浄~乾燥工程まで対応が可能です。【特長】 ■フープ等の複雑な形状に合わせて洗浄 ■洗浄工程を自動化し、洗浄効果が安定 ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）
乾式バレルシリーズ『Sahara(サハラ)』

集塵により快適な作業環境を維持！湿式工程におけるコンパウンド防錆など消…

『Sahara(サハラ)』は、水を使わず、クリーンな作業環境を実現する乾式バレルシリーズです。乾式Water Freeによるトータルメリットを実現。工程(洗浄・防錆・乾燥)短縮により、人的作業が軽減します。また、研磨後の洗浄液の汚れが少ない(洗浄必要時)のも特長で、クリーンな作業環境を実現します。【特長】 ■乾式Water Freeによるトータルメリットを実現...

メーカー・取り扱い企業：河新株式会社洗浄機・洗浄剤│バレル研磨機材│ブラスト機材│研磨材　販売及び受託加工
異形条切削ライン・異形条洗浄研磨ライン・異形条レベラー

異形条切削ラインや異形条洗浄バフ研磨ライン、異形条レベラーも製造いたし…

異形条とは銅条の断面を、プレス前工程として、凸凹をはじめとした様々な形にしたものです。主に電子産業における端子部品やLEDの分野に多く使用されています。異形条の種類は夥しくまたその形状も変化しやすいことから、切削法が一般に使われています。しかし、圧延法による製造でも前工程では切削法を採用する場合もあり、今日ではその製造法は重要な役割を担うようになりました。当...

メーカー・取り扱い企業：生田産機工業株式会社
ステンレス製バフ研磨装置　～機械腐食を軽減し長期安定稼働を実現～

ステンレス材質のスタンドやベースを使用することで機械腐食を軽減し長期安…

弊社のバフ研磨装置、砥石研磨装置は、主に伸銅（条）業界においてご使用いただいております。焼鈍後の酸化スケール除去、出荷前の仕上工程等で役立ちます。 ◆長期間の使用で機械周りの錆や腐食が気になる！　洗浄ブース構造で観音扉、飛散防止カバー等によりブース外への水飛散対策をし、　更には高剛性スタンドやベースをステンレス製にする事で設置場所の雰囲気による腐食も防ぐので安心して長期間お使いいただけ...

メーカー・取り扱い企業：生田産機工業株式会社
1チャンバー型薬液スピン・スクラブ洗浄機

シングルチャンバーで各種洗浄からスピン乾燥まで完結。省スペース設計で研…

【用途例】・異物（有機物、無機物）の除去・金属イオンの除去【洗浄工程】・界面活性剤、純水スクラブ洗浄・薬液スプレー・メガソニックスポットシャワー・スピン乾燥【洗浄対象物】各種ウェハ・Si（シリコン）・石英・酸化物・化合物...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）
シングルチャンバー型「ウェハ用多目的スピン・スクラブ洗浄装置」

1チャンバーで異物・金属汚染を取り除く省スペースな洗浄装置！洗浄方法の…

＜　洗浄工程　＞　・　界面活性剤・純粋スクラブ洗浄　・　薬液スプレー　・　メガソニックスポットシャワー　・　スピン乾燥＜　洗浄対象物　＞　各種ウェハ　・　Si(シリコン...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）
高田工業所社製ダイシングフレーム洗浄装置『TFCシリーズ』

ダイシングフレームに付着したテープ糊痕や指紋等を高い洗浄能力を持つ独自…

『TFCシリーズ』は、ウエハー切断（ダイシング）工程で使用されるダイシングフレームに付着した、テープ糊や手脂などをジェットを使用し除去します。ブラシ等の接触物がない為、糊等の2次付着による洗浄性の劣化がありません。 ■特長・高い洗浄性能をもつ独自のジェットノズルを採用した非接触方式洗浄機構 →ブラシ洗浄及びウエス等の布を使用しないので、目づまりによる洗浄力低下、及び再付着があり...

メーカー・取り扱い企業： JFE商事エレクトロニクス株式会社プロセスソリューション営業部実装プロセス営業室
【仕上げ洗浄工程】脱脂洗浄装置（コ・ソルベント方式）

《レンズ・プリズム・精密部品洗浄に》洗浄溶剤が常に再生・再利用され、高…

2種類の洗浄溶剤で洗浄と乾燥を行うコ・ソルベント方式。炭化水素系洗浄溶剤（HC溶剤）で洗浄し、HFE/HFC溶剤（リンス溶剤）でリンス・乾燥する洗浄システムです。 HC溶剤中で溶解された汚れはHC真空蒸留機で蒸留再生され装置外へとたされます。リンス溶剤に持ち込まれたHC溶剤は溶剤分離装置を経て、HC溶剤とリンス溶剤は其々の洗浄槽に戻され、再利用されます。【特徴】 ○経済...

メーカー・取り扱い企業：大川興産株式会社
熱はく離シート「リバアルファ」

加熱することで用意にはく離が可能になる粘着シート。しっかり固定しても熱…

続化が可能。加熱で瞬時にはく離できるので、生産性向上に大きく貢献します。また、はがす手間がかからず省人化を推進します。・ワックスや接着剤を使用した場合、はく離作業後、溶剤などでこれらを除去する洗浄工程が必要ですが、リバアルファは洗浄工程が不要なドライ方式です。ドライ環境で、不純物混入や外部汚染を最小限に抑えます。・力をかけずに自然はく離が可能なため、ワークを傷つけることがなく、歩留り向上に...
メーカー・取り扱い企業：日東エルマテリアル株式会社
e-クリーン　2液1槽式脱脂洗浄機（HC溶剤+HFE溶剤）　

省スペース・低ランニングコスト・低価格の超音波洗浄機！安全・簡単乾燥を…

浄⇒HFE溶剤蒸気でリンス洗浄⇒乾燥工程で速乾性のあるHFE溶剤を回収（乾燥・洗浄終了）⇒取り出し HC溶剤は洗浄中、HFE蒸気に覆われ、直接空気に触れる事が無い為、引火の心配が不要。リンス洗浄工程で使用するHFE溶剤の沸点は56℃で洗浄物の表面温度は56℃以上には上昇しません。洗浄後の製品取り扱いが非常に簡単になります。本装置で使用します溶剤は全て回収・再利用が可能（オプション）。...

メーカー・取り扱い企業：大川興産株式会社
『ウェッジボンディングツールの洗浄サービス』

安定・高品質のワイヤボンド工程管理を！稼働率の改善や高生産性を実現！

テクノアルファでは『ウェッジボンディングツールの洗浄サービス』を承っております。 NaOH溶液によるツールに付着したアルミ箔の除去をはじめ、ツール洗浄後の全数の状態写真付洗浄レポート提出や、ツール洗浄履歴の管理などを行っております。また、オプションで洗浄前ツールの先端状態全数撮像データ管理も承ります。【ツール洗浄サービス導入のメリット】 ■生産現場でのツール洗浄...

メーカー・取り扱い企業：テクノアルファ株式会社
半導体製造装置　自動石英管洗浄装置

【デモ機貸し出し可能！】石英管の形状に合わせ対応致しますので御相談下さ…

ウエハーは製造工程に使用される石英管のクリーン度が、製品の品質に大きく影響します。したがって、拡散工程やCVD工程及びアニール工程で使用される石英管の洗浄は重要なポイントです。ジャパンクリエイト社は長年に及ぶ経験と実績から、御客様のニーズにあった石英管洗浄装置を提供致して居ります。方式は横型式と縦型式と2種類があり、石英管の形状に合わせ対応致しますので御相談下さい。詳しくはお問い合...

メーカー・取り扱い企業：ジャパンクリエイト株式会社
フォトマスク洗浄装置（セミオート）

シリーズ累計200台以上のロングセラ機種です。

■国内マスク製造メーカー業界ではシェアー90%を誇ります。 ■「研磨後洗浄」「受け入れ洗浄」「Final洗浄」に最適。 ■デバイスメーカ様では、「コンタクト露光時に付着したレジスト除去」に実績豊富 ■基板サイズごとにシリーズ化した標準装置ですが、カスタム対応も可能です。 ■基本処理プロセスは、「洗剤/スクラブ⇒DIW2流体⇒表裏リンス⇒スピン乾燥」　◎スクラブや2流体処理時には、スキャ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ソフエンジニアリング
キャリア（カセット）ボックス洗浄装置

洗浄しにくい凹凸部を高圧パルスジェットで洗浄！手作業よりも安定した洗浄…

キャリア・カセット等の複雑な形状に合わせて洗浄を行うことで、最適な洗浄結果が得られます。手作業で行われていた洗浄工程を自動化することにより、洗浄効果が安定します。 ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社テクニカルフィット
ME-5000R 全自動ウエハースピン洗浄装置

フルオートマティックスピン洗浄装置　300mm/8インチウエハー、ガラ…

本装置は、ウエハーカセットを本体に手動でセットし、収納されている対象ワークをロボットでスピン洗浄部に送り、スピン回転させながら二流体洗浄・超音波洗浄・N2ブロー乾燥の処理を行い、再びウエハーカセットに収納する装置です。...装置寸法 Size：　W1３00×D１８00×H2000　（300mm）/　W1100×D1400×H2000　（８インチ）工程　Process：　カセットを手動で設置→扉...

メーカー・取り扱い企業：マック産業機器株式会社テクノロジーセンター
ワーク洗浄装置

◆ワークに表面に付着した汚れの洗浄に

レトルト食品・ゼリー菓子等の食品工場で生産する各種ワークに対応、高圧の細かなシャワー水で洗浄するコンベヤタイプの洗浄装置です。お客様のニーズに合わせ、前後工程を含め特殊タイプも設計・製作しております。ぜひ、お気軽にご相談下さい。...*　高圧の細かいシャワー水で洗浄するため、通常洗浄機では取れない汚れも落とすことができます。 *　痛みやすいワークでも、汚れだけを落とすことができま...

メーカー・取り扱い企業：有限会社アイ・エス・エス
後工程関連取扱い製品カタログ

検査装置をはじめ、接合材料やウエハー工程装置などを多数掲載！

当カタログは、後工程部門の取扱い製品ラインアップを掲載しています。 2インチ～12インチ対応の「ウエハー・チップ外観検査装置」をはじめ、「N2コンパクトサイズリフロー」や「ソルダーペースト」など多数の製品を取り揃えております。【掲載製品（抜粋）】 ■検査装置 ■リフロー装置 ■接合材料 ■洗浄装置 ■ウエハー工程装置 ■その他 ※詳しくはPDF資料をご覧いた...

メーカー・取り扱い企業：大日商事株式会社
300ｍｍカセットレス洗浄装置

ファイナルポリッシュ後の化学研磨工程で使用　／　50枚を一括処理　／　…

＜装置概要＞本装置はファイナルポリッシュ後の化学研磨工程で使用する装置です。特徴は25枚のWfの隙間に25枚を入れハーフピッチにし50枚を一括処理します。19nμm／5個の高清浄度を達成しています。...＜主な仕様＞ 1.被洗浄物：　300ｍｍ　厚み　0.75ｔ 2.処理方法：　カセットレスによるDip処理 3.処理速度：　50枚/5min（可変） 4.装置内清...
メーカー・取り扱い企業：株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）
マスク洗浄機｜全自動マスク洗浄装置「TWC-200A」

マスクに付着した1μm以上のパーティクルとレジスト残渣を一挙に完全除去

TWC-200Aは露光工程で使用されるマスクの洗浄に特化して開発されました。本装置の特長はマスクに付着したレジストとパーティクルを一挙同時に全自動で除去する点にあります。特にレジスト除去に関しては大手薬品メーカーと共同で専用洗浄剤を開発し、除去効果を大幅に向上させるとともに安全性や地球環境にも配慮しました。オペレーターはマスクを装填したカセットを乗せるだけ。危険な薬品に曝される事も...

メーカー・取り扱い企業：株式会社テクノビジョン本社
薄膜電子部品工程『フォトリソグラフィープロセス装置』

生産設備・研究開発向け！薄膜電子部品工程における一連のプロセスを提供！

大村技研の『フォトリソグラフィープロセス装置』は、薄膜電子部品工程における一連のプロセスを高精度高信頼性で提供するシステムです。洗浄・コーター・現像・剥離・エッチングなどの生産設備および研究開発向けの設備を提供します。「全自動スピンエッチング装置」は、ウエハを1枚ずつ取り出し、自転させながら薬液を吹き付け、エッチングから乾燥までを自動処理する装置です。【特長...

メーカー・取り扱い企業：大村技研株式会社
超臨界流体洗浄・乾燥装置

微細構造物を破壊せずに洗浄・乾燥を行うことが可能

従来の「液化二酸化炭素で置換する工程」を「超臨界二酸化炭素で置換する工程」に置き換えたことにより… ●ポンプにより圧送される液化二酸化炭素を予備加熱することで粘性の低い超臨界流体としてチャンバーに導入するため、ナノレベルの微細構造物に対してもダメージの少ない洗浄・乾燥が行えます。 ●チャンバーの冷却、加温という温度サイクルがなく一定温度での洗浄・乾燥が行えるめ、処理時間の短縮が可能です...

メーカー・取り扱い企業：株式会社レクザム香川工場
スピン洗浄装置　自動フォトリゾ装置 JASC-1200AD型

対象ワークは200mm□基板又はφ300mm基板に適用します！

自動フォトリゾ装置はカセットからカセットでレジストスピンコート、真空ベーク、アライナー、スプレー現像を自動で行う装置です。勿論工程の選択も出来ます。ローダー、アンローダーも同一側でオペレーター1人で作業が出来ます。工程間の搬送は多関節ロボットを採用しています。本機の対象ワークは200mm□基板又はφ300mm基板に適用します。詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。...【特徴】...

メーカー・取り扱い企業：ジャパンクリエイト株式会社
有機ＥＬ基板洗浄装置　ME-6500-10

有機EL等の基板製造装置に最適です！

基板の洗浄を目的とし、洗浄ブラシ、HPMJ、MS、最終リンス、水切りを経て排出部へ送り出す工程を枚葉にて行う装置です。...●装置寸法：L4500×D1220×H1500mm ●工程：ローダー⇒入口⇒AC１⇒洗浄ブラシ⇒AC２⇒シャワー⇒HPMJ⇒MS⇒●リンス⇒エアナイフ⇒出口⇒アンローダー ●コンベア巾：400mm...

メーカー・取り扱い企業：マック産業機器株式会社テクノロジーセンター
ダイシングフレーム洗浄装置

剥がす！洗う！乾燥する！がこれ1台！

●　2枚取り防止機能！　　ワークの段積みが可能になりスムーズなワーク供給を実現。 ●　タクト調整機能！　　ワークに合わせてのレシピ設定が可能です。 ●　段取り替えはワンタッチ！　　スイッチ1つでワークに合った段取り替えを自動で行ないます。 ●　工程間の搬送もスムーズ！　　専用台車によるワークの供給搬出なので工程間の持ち運びもスムーズです。...チッピング後の残チップとテープを...

メーカー・取り扱い企業：大宮工業株式会社営業本部営業課
大型基板用全自動フォトリソ処理装置

フォトリソプロセス一貫処理が可能

■G8.5世代の超大型重量基板に対応します。　◎対応基板サイズ：1.3m X 1.5m X15mm t ■フォトリソ一プロセスの一貫処理に対応。　◎処理工程：LD⇒現像⇒エッチング⇒剥離⇒洗浄⇒ULD ■国内の複数メーカーに複数台の実績がございます。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。枚葉式洗浄装置、基板洗浄装置、スピン洗浄装置、半導体製造...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ソフエンジニアリング
『事例』分解洗浄を可能としたダイヤフラムバルブ ※無料進呈中

『流路まるごと事例集』半導体材料メーカー様　必見！分解洗浄を可能とした…

材料容器（キャニスター）に使用したバルブをクリーニングするが、内部に汚れが残ってしまう。バルブが溶接されたキャニスターはバルブとキャニスターの両方を交換しなければならず、ランニングコストがかさんでしまう。シートとダイヤフラムが交換できるバルブを使用しているが、作業者ごと作業時間や作業工程が違ってしまっている、、、、といったお悩みはありませんか？ KITZ SCT では半導体製造で...
メーカー・取り扱い企業：株式会社キッツエスシーティー
重圧バレル研磨機『Mighty・Mild』

安定した重圧流動(特許取得済)が、メディアの力を最大限に引き出します！

『Mighty・Mild』は、研磨力を上げて、摩耗を抑える重圧バレル機です。安定した重圧流動により、メディアのムダな摩耗が大幅に減少するため、メディア消費量が25～70％削減可能。前工程やハンドリングでついたキズも短時間で残さず除去し、滑らかな流動によりワーク同士の衝突回数が減少するので新たにキズがつかず、特に硬く脆いワークに好適です。【特長】 ■メディアの省...
メーカー・取り扱い企業：河新株式会社洗浄機・洗浄剤│バレル研磨機材│ブラスト機材│研磨材　販売及び受託加工
シングルチャンバー型「ウェハ用多目的スピン・スクラブ洗浄装置」

1チャンバーで異物・金属汚染を取り除く省スペースな洗浄装置！洗浄方法の…

＜　洗浄工程　＞　・　界面活性剤・純粋スクラブ洗浄　・　薬液スプレー　・　メガソニックスポットシャワー　・　スピン乾燥＜　洗浄対象物　＞　各種ウェハ　・　Si(シリコン...

メーカー・取り扱い企業：株式会社テクニカルフィット
G8対応　枚葉スピン式　大型マスク洗浄装置　MSC-1500

リンス、乾燥を専用のチャンバーで行うことにより、精密洗浄が可能

AGV対応、ケミカル処理、リンス、乾燥する大型マスク洗浄装置です。反転機構により両面洗浄も可能です。...【特徴】 ■塗布、現像、エッチング、剥離、洗浄の各プロセスに対応 ■　レジスト残渣／有機物残渣の剥離洗浄 ■　金属粒子や研磨、ダイシング後などの粒子除去洗浄 ■　固着微粒子、吸着微粒子の除去洗浄 ■　受け入れ洗浄、各種工程間の洗浄（成膜前、露光前、剥離後、エッチング後、　バック...

メーカー・取り扱い企業：株式会社カナメックス厚木工場
ユニット型洗浄・殺菌・脱水機「ニューウオッシャマン」

ユニット型洗浄・殺菌・脱水機「ニューウオッシャマン」

■薬品を全く使用せず、常温で洗浄・殺菌・脱水の同時処理が短時間で可能 ■超振動α-攪拌機の振動流動による完全洗浄・洗浄時間はタイマーにより制御 ■酸化チタン製の振動羽根の光触媒機能による短時間殺菌処理・ほとんどの最近に対応 ■殺菌・洗浄後、高速回転による遠心脱水・脱水時間はタイマー制御 ■必要に応じて洗浄・殺菌・脱水工程を反復操作可能。...超振動α-撹拌機による洗...

メーカー・取り扱い企業：日本テクノ株式会社
精密洗浄

精密洗浄

大宮工業の精密洗浄は、半導体及び液晶生産工場での製造工程でパーティクルの原因となる装置部品に付着したデポを除去し、生産に支障無きよう各種の部分を部品を再生します。真空装置部品の精密洗浄だけでなく、精密加工部品の脱脂洗浄・排気配管等の洗浄、配管・サイレンサー・トラップなど生成物の除去も承ります。 ...大宮工業の精密洗浄は、半導体及び液晶生産工場での製造工程でパーティクルの原因となる装置部品に付...

メーカー・取り扱い企業：大宮工業株式会社営業本部営業課
【油膜除去】超精密スチーム洗浄機『洗蒸気』

蒸気の力で超精密洗浄！投入→洗浄→冷却ブロー→排出→搬送の一連の工程を…

「洗蒸気」は120℃の蒸気凝縮により、スチーム洗浄の特性を向上させた精密部品の洗浄向けの洗浄機です。蒸気が凝縮する際に、一緒に汚れを集めるため、従来の洗浄機では届かなかった隅々まで洗浄が可能です。従来の洗浄機はフィルターで液を循環させるため、管理が不十分な場合油膜などの不純物が付着することがありましたが、「洗蒸気」はフィルター不使用なため、異物混入厳禁な現場においても、クリーンな状...

メーカー・取り扱い企業：株式会社松浦機械製作所
光学レンズ・ガラス基板の水洗浄と溶剤による乾燥システム

HFE/HFC溶剤による乾燥システムは素早く水分を除去し、水染みの発生…

光学レンズ等はアルカリ・酸・中性洗剤により洗浄され、その後、純水リンス工程を経て、HFE/HFC溶剤による乾燥システムに送られて来ます。乾燥システムに大量に持込まれる水は溶剤との比重差で簡単に装置外へと取り出す事が出来ます。洗浄後の水染み発生の原因は乾燥用溶剤中に徐々に溶け込んでいく微量の水分です。この水分を確実に低濃度に保つ事が水染み「０」に繋がるのです。弊社の開発した「水分除去装置（オプション...

メーカー・取り扱い企業：大川興産株式会社
スピン洗浄装置　自動フォトリゾ装置

【デモ機貸し出し可能！】ローダー、アンローダーも同一側でオペレーター1…

自動フォトリゾ装置は、カセットからカセットでレジストスピンコート、真空ベーク、アライナー、スプレー現像を自動で行う装置です。勿論工程の選択も出来ます。ローダー、アンローダーも同一側でオペレーター1人で作業が出来ます。工程間の搬送は多関節ロボットを採用しています。本機の対象ワークは、200mm□基板又はφ300mm基板に適用します。詳しくはお問い合わせ下さい。...【特徴】 ○...

メーカー・取り扱い企業：ジャパンクリエイト株式会社
【お悩み解決事例進呈中】外径研磨装置　設置事例

医療機器メーカーでの外径研磨装置の装置導入事例をご紹介します！洗浄剤な…

り、強い洗浄剤が使えず汚れが落ちない。」というお悩みをお持ちでした。そこで当社のワーク外径の研摩が可能な「外径研磨装置」をご提案。結果、バフ研磨工程をフィルム研磨とすることで、洗浄工程を削減。見た目の仕上りが良くなり、品質向上に繋がりました。【事例】 ■課題・医療機器に使うパイプ外径で、最終工程後に汚れがついている・医療向けということもあり、強い洗浄剤が使...

メーカー・取り扱い企業：株式会社サンシン
【評価用パターンウェハー】小ロット～カスタマイズオーダーまで対応

数枚の試作加工でも問題無く受け付けており、マスクの設計から断面の寸法測…

株式会社アイテスが取り扱っている「評価用パターンウェハー」「シリコンウェハー販売」「化合物半導体」をご紹介します。「評価用パターンウェハー」は、CMP/成膜装置/洗浄装置/各種素材の評価用として、様々な構造のテスト用パターンウェハーを作成。数枚の試作評価でも問題無く受け付けており、マスクの設計から断面の寸法測定に至るまで、非常に柔軟な対応に定評があります。【特長】＜評価用パ...
メーカー・取り扱い企業：株式会社アイテス
半導体産業工程用フィルタ

半導体製造工程に使用される材料の精製から、デバイス製造工程に使用される…

開発から生産、販売までの一貫体制を採用し、多様な製品ラインナップと高品質の技術力で、顧客のNEEDSに迅速に対応し、品質工場するフィルトレーションソリューションを提供します。特に半導体製造工程用フィルタに対しては、最先端デバイス適用に向けた除去効率が高く、フィルタの清浄度の高いものまでご用意しております。...ウエハ洗浄技術　HAPES膜、PTFE系膜、金属除去膜 CMPスラリー技術 ...

メーカー・取り扱い企業：日本コベッタ株式会社
精密洗浄

超純水（18MΩ・cm）での精密洗浄により、お客様の製品の品質向上及び…

【精密洗浄工程】脱脂洗浄（60℃） →市水洗浄→純水洗浄→超純水洗浄→超純水超音波洗浄（60℃） ※『電解研磨』『不動態化』などの処理を追加することも勿論可能です電気抵抗率（比抵抗）：18MΩ・c...

メーカー・取り扱い企業：東陽理化学株式会社
セミオートレジストコーター

レジストコート剤の粘度に応じた好適加速度選択が可能！メンテ性にも気配り…

当社で取扱う小型レジストコータのご紹介です。ガラス基板にレジストコート材をスピンナーにより塗布処理。チャンバー内気流制御、メンテ性にも気配りをしており、レジストコート剤の粘度に応じた、好適加速度選択が可能です。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。ウエハ、枚葉式洗浄装置、塗布・現象装置、スピン洗浄装置、スピンコーター、半導体製造装置、...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ソフエンジニアリング
親水・洗浄・密着強化『回転式真空プラズマ装置』

乾式で『粉体や固体全面』の『表面改質(親水・洗浄・密着強化)』を一括処…

『粉体や固体全面』など様々な材料の『親水化』『洗浄』『密着強化』などプラズマの持つ高い反応性を利用し、多岐にわたる表面処理用途にご活用頂ける回転式真空プラズマ装置！通常のプラズマ装置はサンプルとプラズマが触れていない底面などの接触部分は処理できず裏返す工程が必要となっていました。本製品はチャンバーが回転する事によりサンプル全面に均一なプラズマ処理一括処理する事ができます。【特徴】 ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社魁半導体
SMIF POD（マルチ／シングルタイプ）「SEMI規格準拠」

徹底した静電対策によるレチクル保護と、独自機構によりレチクルの磨耗と取…

SMIF ポッド(SMIF POD) (マルチ／シングルタイプ)は半導体前工程のリソグラフィー工程でレチクルを保護するために使用されます。【特徴】 ■剛性、耐久性が強化　・金属製の為、従来の樹脂製に比べて、剛性、耐久性が強化されています。 ■低発塵、洗浄しやすいライナーレス設計　・365nm, 248nm, 及び193nmのレチクル使用可能（プラスティックにリン酸添加物の含有無...
メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行
スピンソニッククリーナー

サブミクロンのパーティクルまでも非接触でウェハー両面を同時洗浄。

◆薬液対応ファインジェット＆EDジェットにより高い洗浄能力を実現 ◆非接触洗浄(プラシレス洗浄)によりメンテナンスフリーとダメージレスを実現 ◆１ステージで各洗浄・乾燥工程を可能に ◆完全常温プロセスのためヒーターを必要とせず、消費電力を大幅にカット ◆機能別のユニット構成により設置面積のコンパクト化と自由度の高いレイアウトを実現...ウェハー横置き、枚葉式ファインジ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社プレテック
バッチタイププラズマリフロー装置（フラックスリフロー）

微細ウェハバンプのフラックスレスリフロー装置サンプルテスト対応　省…

高密度プラズマ（SWP）による強還元性H2ラジカルによりフラックスフリーのバンプリフローを実現。フラックスの塗布・洗浄工程を削減。リフロー前後のウェット工程を削減。ウェット装置のスペース・処理・ユーティリティーを削減する省エネ・省スペース・クリーンプロセス。３００ｍｍウェハ対応の処理ステージによる最先端量産プロセ...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店
金属溶出無し！PTFE制自動着脱弁【ALL-PTFEコネクタ】

高い洗浄性！内部構造が非常にシンプルで流体の滞留部がない！金属溶出がな…

■ALL-PTFEコネクタとは ALL-PTFE コネクタとは、内弁が一体成形(PTFE)されており、内弁開閉時の摺動部分が接液部と遮断されており製品汚染を防ぎます。無菌状態の維持が重要な殺菌、滅菌工程以降のラインに好適であり、この分野での製造設備で要求される機能（安全性、洗浄性、耐久性）と小型・軽量化を追及した製品です。また、内弁を含めて弁内の全ての接液部の部品はPTFE で構成されている...
メーカー・取り扱い企業：ナブテスコサービス株式会社産業機械部　
【総合カタログ無料プレゼント】ディップコーター、ナノインコーター

実験・開発用卓上ディップコーター(ディップコーティング装置)、ナノイン…

◆◆今なら総合カタログ無料プレゼント中です。◆◆ 簡易(速度の可変で)に、低コストで、薄膜を均一にコーティングするディップコーターや、離型剤を定着させるナノインコーターなど、薄膜コーティング技術のディップ方式を、豊富なラインアップで、多くの分野に展開し用途に応じて選択できます。様々なプロセスに対応する3次元タイプのナノスピードディップコーター、両面同時に薄膜を形成することがで...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ＳＤＩ
プラズマドライクリーナー　プラズマクリーナー　プラズマ洗浄装置

ご要望に合わせてカスタマイズ出来るプラズマクリーナー

・卓上型、低コスト、高性能タイプ・実験用から本格量産まで使用可能・RIEモード標準（DPモード切替器はオプション）・アルゴン・酸素の2系統のマスフローメーターを搭載・標準油回転ポンプ付標準機を基にお客様のご要求に合わせて、カスタマイズもいたします。弊社では小型バッチ式から中型、大型バッチ式さらに各種自動機まで幅広くラインナップしております。チャンバー構造は石英バレル、平行平板、...

メーカー・取り扱い企業：ヤマトマテリアル株式会社
0.2ｔ薄板ガラス洗浄装置

0.2ｔ薄板ガラス洗浄装置

【工程】投入-液切-薬洗ブラシ-液切-純水シャワー×2-直純水-エアーナイフ-取出し高精度クリーンエアーナイフシステムの採用により、水滴残りやしみの無い最適の液切り状態を実現します。...◆0.2tのガラスのロールブラシによる洗浄が可能 ◆独自のエアーナイフ機構により薄板の液切りが可能 ◆超大型基板、超薄型基板にも対応 ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社二宮システム
ガス配管製作

ガス配管製作

自動溶接作業は、クラス１０，０００相当のクリーンルームにて行っております。製品完成後は洗浄工程を通り、減圧脱気梱包を施したものを納品させて頂きます。【他に・・・】 ◆半導体・各種産業向けの蒸着装置、スパッタ装置、ＣＶＤ装置等の成膜装置の　設計・製作を行っております。 ◆...

メーカー・取り扱い企業：株式会社コスモ・サイエンス
精密加工部品　工具　ボンディングキャピラリ

Made in Japanの高品質ボンディングキャピラリ。高品質の材料…

ボンディングキャピラリは、半導体を製造する際、ワイヤーボンディング工程で必要不可欠なツールです。車載向け半導体デバイスに於いて「Made in Japan」にこだわり、お客様からの高い信頼を受けているキャピラリを取り揃えております。ラインナップとしては、「セラミックAZRシリーズ」「高純度セラミックAPSシリーズ」、そして「単結晶Rubyタイプ」を揃え、ユーザー様のご満足いく製品を迅速に...

メーカー・取り扱い企業： Orbray株式会社
【フィルタ(FERENA)の特徴・仕様　興研KOACH】興研

◆HEPAフィルタなみの低圧損で、ULPAフィルタなみの捕集効率を誇る

■FERENA※の特長 ◆HEPAフィルタなみの低圧損で、ULPAフィルタなみの捕集効率を誇る ◆ナノファイバーの存在比率が高い ◆フィルタとして有効なランダム構造 ◆耐水・耐油性に優れる ◆耐熱性に優れる ◆ボロンが出ない ※FERENA(フェリナ)とは、オープンクリーンシステムKOACHのプッシュフードに搭載されているフィルタです。FERENAにより、KOACHは清浄度ISO...

メーカー・取り扱い企業：泉州機工株式会社
枚葉式プラズマリフロー装置（フラックスレスリフロー）テスト受付中

フラックスレスウェハバンプリフロー装置。微細バンプのリフローをウェット…

ダメージフリーのダウンフロー型表面波プラズマの強還元性Ｈ２ラジカル雰囲気でフラックスレスリフロー　フラックス塗布、洗浄工程　塗布装置、洗浄装置を削減。完全ドライＣｔｏＣシステム。ファインピッチバンプの短タクトリフロープロセスを実現。 ...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店
株式会社エイブルジャパン　取扱製品総合カタログ

フォトマスクを洗浄する「マスク洗浄装置」などを紹介します。

株式会社エイブルジャパン　取扱製品総合カタログでは、中央に搬送ロボットを設置し、各ユニットを放射線状に配置するタイプの「マスク洗浄装置（自動タイプ）」や、投入された基板に自動で塗布～乾燥まで行う装置「オートスピンコーター」、ウェハーの洗浄を行う装置「スピンクリーナー」、カセット内の基板受渡しを行う装置「LD／ULD」、塗布後の基板を乾燥する装置「UV照射装置」等、多数掲載しています。【掲...

メーカー・取り扱い企業：株式会社エイブルジャパン
NC全自動研磨仕様モデルライン

タッチパネルによる簡単操作！少人数による多軸管理“オートハンドローディ…

少人数による多軸管理“オートハンドローディング”の『モデルライン』をご紹介します。タッチパネルによる簡単操作で、洗浄籠供給から研磨加工、こすり洗浄、洗浄籠収納まで行えます。また、日本をはじめ、台湾や韓国、中国、アメリカ、欧州にて国際特許を取得しております。【構成内容】 ■(1)XY-供給装置「XY-2X5型」 ■(2)NC全自動研磨装置「APM-8FO-2P...

メーカー・取り扱い企業：株式会社コジマエンジニアリング
【技術資料】ウェハーへの均一なテープ貼り付けのコツ

「ダイシング工程におけるテープ貼り付けプロセス」についてご紹介

『テープマウントハンドブック』は、半導体製造装置、洗浄装置、後工程組立装置の開発・販売を行っているテクノビジョンの技術資料です。当資料は、「ダイシング工程におけるテープ貼り付けプロセス」について概要をはじめ、問題点への解決策や装置内容などを掲載しています。【掲載内容（一部）】 ■概要 ■テープの貼り付け ■手作業による貼り付けの場合 ■既にテープマウンターをお使いの...

メーカー・取り扱い企業：株式会社テクノビジョン本社
伸光写真サービス株式会社　高品質

各工程での検査機器、品質管理体制の充実に取り組んでおります

高品質のプリント基板などを製造するため、伸光写真サービス株式会社では各工程での検査機器、品質管理体制の充実に取り組んでおります。精密な検査体制（CADデータ・フィルム検査、穴位置自動チェック検査、エッチング工程、積層）。その他、銅メッキ工程や金メッキ工程では、メッキの膜厚を厳密に測定。製品の外形も、熟練の技術者が測定器を用いて厳しくチェック致します。より高品質な製品の製造に向けて、伸光写真サービス...

メーカー・取り扱い企業：伸光写真サービス株式会社
半導体関連装置「ウェット式エッチング装置」

ドラフト構造でクリーンルーム仕様！エッチング処理やレジスト除去する装置

「ウェット式エッチング装置」は、半導体関連で使用される各ウェハーをバスケットに入れ、X-Y-Zロボットにて、エッチング処理やレジスト除去の作業を行います。発生ガス、及び空気は、薬品系、有機溶剤系に出来るだけ分けた状況での排気が可能。使用不可となった薬液（フッ酸、塩化鉄）と、有機溶剤（アセトン）は付設の専用タンクへ一括排出します。クリーンルームでも使用できるドラフト構造です。【...

メーカー・取り扱い企業：オーエヌ総合電機株式会社