小型真空蒸着装置『HVE-100』【クリーンな成膜を実現！】

PRクリーンな成膜が可能な小型真空蒸着装置！シャッタを具備しているので安定…

『HVE-100』は省スペースな小型蒸着装置です。基板成膜面は下向きで 設置、抵抗加熱源からの蒸発で上向きに成膜する配置（デポアップ）です。 シャッタを具備しているので安定した状態で蒸着が可能です。 【特長】 ■高真空排気系：<10^-4Paの到達真空度でクリーンな成膜が可能 ■チャンバはメンテナンスしやすいようにSUS製で内部に防着板を配置 ■省スペース/小型化：W500×D39...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイブリッジ 東京営業所

独自の安全機構でガス充満による酸欠事故を防止『グローブボックス』

PR真空装置メーカーの技術・経験を結集！自社設計により柔軟な仕様変更とリー…

当社では、不純物ガス濃度1ppm以下の高純度環境を実現する 『グローブボックス』を設計・製造・販売しております。 内部のガス圧力が一定範囲になるよう制御するAPC機構や、 グローブ・圧力計の破損時に異常を検知してガス供給を停止するセイフティ機構を標準搭載。 グローブボックスの豊富な知識・経験を活かし、各種カスタマイズも承ります。 【特長】 ■自社設計により柔軟な仕様変更とリ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイエルエステクノロジー

簡易実験用蒸着装置（ＥＭ－６４５型）

シンプル　コンパクト　高機能　実験、基礎研究に最適　ユーザーニーズに応…

標準２元の抵抗加熱蒸発源を装備した全手動型蒸着装置。 Φ２～３インチウェハから特殊基板まで柔軟に対応。 蒸発源追加、同時蒸着、基板冷却・高温加熱機構等豊富なオプション 社内デモ機にてサンプルテスト対応...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

大型蒸着装置（ＡＡＨ型　自動車部品用）

樹脂外装品の成膜に実績豊富な大型蒸着装置　長尺樹脂成形品の成膜に最適　…

のイオンボンバード処理により高い膜の密着性を実現。電子銃の複数台使用により各種金属の高速成膜に対応。 水晶振動式膜厚計による制御で不連続膜も安定した全自動成膜を実現。 高い安定性を備えた全自動蒸着装置。...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

マルチ成膜装置VEＳ－１０

親水処理・蒸着装置・イオンスパッタの機能を完全一体化。

マルチ成膜装置VEＳ－１０は親水処理・蒸着装置・イオンスパッタの機能を完全一体化した小型卓上装置です。シャーペンの替え芯を蒸着。マグネトロンターゲットで低ダメージスパッタ。イオンスパッタと親水処理の操作は全自動。排気開始からコーティング終了ま...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社真空デバイス

標準バッチバッチタイプ蒸着装置（ＡＭＦシリーズ）

電子デバイス用途のスタンダードシリーズ。Ｒ＆Ｄ用の多目的小型研究用から…

半導体・ＭＥＭＳ・各種電子部品（センサー、水晶振動子等）の研究開発から本格量産まで幅広く対応する標準型蒸着装置のラインナップ。 全機種クリーンルーム、クリーンバキューム対応で各種選択機構を装備。 実績豊富な標準仕様から個別要求に細やかに対応。 蒸発源・加熱温度・基板機構（プラネタードーム・公転ドーム...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

実験用小型真空蒸着装置

MAX10V-150Aのパワーと大容量のLN2トラップを備え迅速な試料…

電源は別置きとなっています。排気系はターボ分子ポンプに変えることも可能です。カスタムオーダーにも対応可能です。多元蒸着装置・大型装置も製作可能です。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヤシマ

真空蒸着サービス

他の追随を許さない技術でお客様に御満足いただける製品を提供いたします！

当社では、主にアルミニウム蒸着による自動車ランプのリフレクター・ レンズ・装飾部品、さまざまな照明器具用の反射鏡、家電部品、 ホビー等の蒸着をおこなっております。 社内蒸着資格を持った技能員による条件設定と生産、標準作業遵守の 励行により安定した高品質蒸着品を提供。 蒸着技能員、塗装技能員、検査技能員の連携により、常に高品質な 仕上がりを追求しつづけます。 ご要望の際はお気軽...

メーカー・取り扱い企業： 旭真空株式会社

有機材料用蒸着源 Creaphys DEシリーズ

R＆Dや少量生産用にデザインされた有機材料用蒸着源です。 50℃から8…

有機材料用蒸着源 Creaphys DEシリーズ R&Dや少量生産用にデザインされた蒸着源エバポレーターです。 ・50℃から800℃まで広範囲の温度領域で安定した使用が可能 ・超高真空での使用も可能 ・既存の装置にも用意されたオプションで対応可能 （シャッター、水冷、各種フランジ、温度制御など） 詳細はお問合せください。 また複合型蒸着源についてもお問合せください。 ......

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

【独自のイオンアシスト蒸着法による超緻密な厚膜】酸化イットリウム

イオンアシスト蒸着法による超緻密で厚膜形成で半導体歩留と装置稼働時間が…

つばさ真空理研株式会社の『高耐食性Y2O3（酸化イットリウム）膜』についてご紹介します。 「Y2O3」を独自のイオンアシスト蒸着法でアルミナ基板上では15μm、石英ガラス上では10μmの密着性が高く、緻密性の高い厚膜ができます。 用途は、ドライエッチャー部品向け耐プラズマの保護膜です。 ドライエッチャー部品の成膜で良い膜をお探しの方はぜひ、ご相談ください。 【特長】 ■エッチング装置...

メーカー・取り扱い企業： つばさ真空理研株式会社 横浜ラボラトリー

真空蒸着メッキ加工サービス

仏具・玩具・アミューズメント部品・自動車部品への真空蒸着メッキ加工！

当社では、真空中で金属や金属酸化物などの成膜材料を加熱し、 溶融・蒸発または昇華させ、基材や基板の表面に蒸発・昇華した粒子 （原子・分子）を付着・堆積させて薄膜を形成する 『真空蒸着メッキ加工』を行っております。 仏具をはじめ、玩具、アミューズメント部品など様々な製品への加工を 手掛けております。 【主な加工品】 ■仏具 ■玩具 ■パチンコ部品 ■自動車部品 ■照明器...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社新正加工

FAD フィルタードアーク蒸着装置

新機能性薄膜開発に、次世代表面保護膜開発に

生産用フィルタードアーク蒸着装置 開発用小型フィルタードアーク蒸着装置：μT-FAD ta-C膜、水素フリーDLC他各種DLCを成膜可能 金属膜、合金膜、窒化物、酸化物その他化合物膜に対応 ドロップレットフリー、超平滑膜...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウエキコーポレーション

【高耐食性Y2O3/YOF膜事例】エッチング装置部品の保護膜に

溶射やエアロゾルデポジションによる保護膜より遥かに耐食性・耐プラズマ性…

エッチング装置内部材の保護膜に、イオンアシスト蒸着法による耐プラズマ性の高耐食性Y2O3膜（酸化イットリウム膜）, YOF膜（酸フッ化イットリウム膜）を使用した事例をご紹介します。 半導体の微細化は急速に進んでいます。半導体製造競争は歩留まりと装置の稼働時間が大きなカギを握っています。エッチング装置部品の保護膜は、溶射やエアロゾルデポジションによる酸化イットリウム膜が使われていましたが、エッチン...

メーカー・取り扱い企業： つばさ真空理研株式会社 横浜ラボラトリー

PE CVDコーティング装置『CD1000 Nanofics 』

専用の真空蒸着装置を用い、気体として蒸着！ コンポーネントの割れ目に…

株式会社メディア研究所ではEuroplasma社のPE CVDコーティング装置『CD1000 Nanofics SE』を取り扱っております。 Europlasma社のPE CVDコーティング装置は日本で主流とされている液体コーティングとは異なり、気体としての蒸着を行い、液体では入りきれないコンポーネントの細かな隙間・割れ目まで均一なコーティングを実現いたします。 またプラズマを付加する...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社メディア研究所

イオンプレーティング装置　「Jcoat -PVD-」

最先端をゆくカソードアーク方式のイオンプレーティング装置です。

イオンプレーティング装置『Jcoat -PVD-』は、PVD法には、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティングなどがある中、最先端をゆくカソードアーク方式のイオンプレーティング装置です。 また、切削工具の分野で実績の高いHCDホロカソード方式のイオンプレーティング装置をそろえて、お客様の多様なニーズにお答えします。 【特長】 ○低温処理 ○強固な密着性 ○均一な被膜 ○複合...

メーカー・取り扱い企業： 日本コーティングセンター（ＪＣＣ）株式会社

【エージング時間が大幅短縮！】耐プラズマ耐食性YOF保護膜

時代はY2O3からYOFへ！エッチング装置のエージング時間を大幅短縮、…

イオンアシスト蒸着法によるYOF膜（酸フッ化イットリウム膜）は、ドライエッチング装置部品の保護膜としてパーティクル低減、装置稼働時間を大幅にアップさせるだけでなく、これまで要したエージング時間を大幅に短縮させることができます。半導体不足が問題となっている昨今、歩留まり向上と装置稼働時間のアップは半導体製造業者にとって至上命題といえます。最先端の製造ラインに導入された、イオンアシスト蒸着法による保護...

メーカー・取り扱い企業： つばさ真空理研株式会社 横浜ラボラトリー

【エッチング装置/アッシング装置部品の保護膜に】Y5O4 F7膜

Y5O4 F7膜は表面フッ素量変化が小さいのでエッチング装置のエージン…

半導体製造工程の一つであるドライエッチングプロセスにおいてウェハ処理を行うと、プロセスガス自体からの生成物やエッチング時の副生成物がチャンバ内壁やチャンバ内のパーツ表面に付着するといった現象が発生すします。これら堆積物の付着によってプロセスの初期と処理後のチャンバ内表面状態が変化することにより、プロセス条件の変動が発生します。このようなプロセス条件の変動を緩和するため、従来技術では製品処理前に類似...

メーカー・取り扱い企業： つばさ真空理研株式会社 横浜ラボラトリー