蒸着装置 | イプロスものづくり

PR真空装置メーカーの技術・経験を結集！自社設計により柔軟な仕様変更とリー…

当社では、不純物ガス濃度1ppm以下の高純度環境を実現する『グローブボックス』を設計・製造・販売しております。内部のガス圧力が一定範囲になるよう制御するAPC機構や、グローブ・圧力計の破損時に異常を検知してガス供給を停止するセイフティ機構を標準搭載。グローブボックスの豊富な知識・経験を活かし、各種カスタマイズも承ります。【特長】 ■自社設計により柔軟な仕様変更とリ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社エイエルエステクノロジー

【MiniLab（ミニラボ）】シリーズフレキシブル薄膜実験装置

PRモジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント（成膜ソース、ステージなど）、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で装置を構成することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

真空蒸着装置『MiniLab-090』（グローブボックス用）

グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置高さ570m…

80ℓ大容積MiniLab-080チャンバーをグローブボックスベンチ内に収納可能な構造にしたMiniLab-080のグローブボックスモデル。作業ベンチを最大限活用できるスライド開閉式チャンバー、メンテナンス性を考慮した背面開閉ドアを採用。プロセス処理後の試料を大気・水分に露出せずグローブボックス内の管理された環境内で一貫した処理ができます。GB, ガス精製機はGBモデルの仕様を参照下さい。 ◉ ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

コンパクト！同時蒸着！高拡張性！『真空蒸着装置・HEXシリーズ』

ブロックを組み立てるように自由自在に構成を変更可能な多目的真空蒸着装置…

な要領で、自分自身で簡単に構成変更や機能拡張を行うことができます。 HEXシステムは、ベンチトップシステムとUHVシステムの間を補う、コンパクトで拡張性の高い、新しいコンセプトの真空蒸着装置です。 ◆『モジュール構造』により自由自在にシステム構成を変更可能 ◆スパッタ、抵抗加熱蒸着、電子ビーム蒸着、有機蒸着に対応 ◆複数ソースによる同時成膜に対応 ◆サンプル回転、加熱、水...

メーカー・取り扱い企業：テガサイエンス株式会社

スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】

スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置コンパクトフレームに…

抵抗加熱蒸着源（金属蒸着）、有機蒸着源（有機材料）、マグネトロンスパッタ（金属・絶縁材）、3種類の成膜コンポーネントをチャンバー内に設置、様々な薄膜実験装置に1チャンバーで対応が可能です。 ◉組み合わせは3種類 1. スパッタカソード + 抵抗加熱蒸着源x2 2. スパッタカソード + 有機蒸着源x2 3. スパッタカソード + 抵抗加熱源x1 + 有機蒸着源x1（*DCスパッタのみ） ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

【多目的真空蒸着装置】電子ビーム蒸着源

多目的真空蒸着装置HEXシステム用1源および4源電子ビーム蒸着源

多目的真空蒸着装置HEX／HEX-L用の電子ビーム蒸着源です。 TAUシリーズは"ミニ"電子ビーム蒸着源です。TAUを使用することでHEXシステムを電子ビーム蒸着装置（EB蒸着装置）として使用できます。材料に...

メーカー・取り扱い企業：テガサイエンス株式会社

スパッタリング装置『MiniLab-026』

小型、省スペース! 研究開発に最適蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

必要最小限のモジュール・コントローラをPlug&Play感覚で19"コンパクトラックに組込む事により無駄が無く、小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。マグネトロンスパッタ（最大3源）もしくは抵抗加熱蒸着（金属源最大4、有機材料x4）に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、プラズマエッチングも製作可能。グローブ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム【MiniLab】

2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置（スパッタ、…

【装置構成事例】 1. MiniLab-E080A（蒸着装置）・基板サイズ：Φ8inch ・EB蒸着:7ccるつぼ x 6 ・抵抗加熱蒸着 x 2 ・有機蒸着限 x 2 2. MiniLab-S060A（スパッタリング装置）・基板サイズ：Φ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

スパッタリング装置『MiniLab-060』

蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…

コンパクト/省スペース、ハイスペック薄膜実験装置下記蒸着源から組合せが可能・抵抗加熱蒸着源 x 最大4 ・有機蒸着源 x 最大4 ・電子ビーム蒸着・2inchスパッタリングカソード x 4（又は3inch x 3, 4inch x 2）・プラズマエッチング：メインチャンバー、ロードロックチャンバーのいずれでも設置可能【スモールフットプリント・省スペース】・デュア...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

スパッタ・蒸着源複合型薄膜装置【nanoPVD-ST15A】

真空蒸着（金属・有機蒸着源）、スパッタリングカソードの混在設置が可能な…

nanoPVD-ST15Aは、抵抗加熱蒸着源、有機蒸着源、Φ2inchマグネトロンスパッタリングカソードを同時に設置可能な複合型薄膜実験装置。ベンチトップサイズ・省スペース、限られたラボスペースを有効活用いただけます。顕微鏡用試料作成用コーターではありません、電子回路基板、電池、MEMS、新素材開発などの研究開発用途で求められる高品質な薄膜を作成することができます。ガス系統最大3系統（プロ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

多機能スパッタリング装置【MiniLab-S060】

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

Φ2inchカソード x 4基搭載同時成膜：3元同時成膜（RF500W or DC850W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF300W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

スパッタリング装置『MiniLab（ミニラボ）シリーズ』

モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント（成膜ソース、ステージなど）、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で装置を構成することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

【多目的真空蒸着装置】抵抗加熱蒸着源

多目的真空蒸着装置HEXシステム用抵抗加熱蒸着源

多目的真空蒸着装置HEX／HEX-L用の抵抗加熱蒸着源です。抵抗加熱蒸着法は、最も一般的な真空蒸着プロセスです。ボート型やルツボ型の加熱容器に材料を置き、加熱容器に電流を流すことで抵抗熱を発生させ、材料を加...

メーカー・取り扱い企業：テガサイエンス株式会社

【多目的真空蒸着装置】有機蒸着源

多目的真空蒸着装置HEXシステム用有機蒸着源

多目的真空蒸着装置HEX／HEX-L用の有機蒸着源です。 ORCAをインストールすることで、HEXシステムを有機物蒸着装置として使用できます。ORCAソースはルツボを積極的に冷却しています。加熱と冷却のバラン...

メーカー・取り扱い企業：テガサイエンス株式会社

【多目的真空蒸着装置】HEX用サンプルステージ

多目的真空蒸着装置HEXシステム用サンプルステージ | 固定、回転、回…

多目的真空蒸着装置HEX／HEX-L用のサンプルステージです。正しいサンプルステージを選択することは、正しい成膜方法を選択することと同じくらい重要です。サンプルステージの特性は均一性やモルフォロジー、膜組成...

メーカー・取り扱い企業：テガサイエンス株式会社

スパッタ・蒸着複合装置

1インチUHV対応スパッタカソード2源！ロードロック室は増設することが…

当製品は、RFスパッタと抵抗加熱蒸着をあわせもつ製膜装置です。ロードロック室増設可能。2インチ基板対応加熱・回転基盤ホルダーの仕様です。また、1インチUHV対応スパッタカソード2源で、3源切替式抵抗加熱蒸着となっております。【特長】 ■1インチUHV対応スパッタカソード2源 ■3源切替式抵抗加熱蒸着 ■2インチ基板対応加熱・回転基盤ホルダー ■ロードロック室...

メーカー・取り扱い企業：ケニックス株式会社

【多目的真空蒸着装置】スパッタリングソース

多目的真空蒸着装置HEXシステム用RF&DCスパッタリングソース

多目的真空蒸着装置HEX／HEX-L用のスパッタリングソースです。ターゲットが導体の場合はDCモードで、絶縁体の場合はRFモードで使用することができます。ガスフードが標準装備されているため、ターゲット表面近傍で...

メーカー・取り扱い企業：テガサイエンス株式会社