リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

無停電電源装置『KE-0520シリーズ』常時インバータ給電UPS

PR対象機器に絞った瞬停対策に！三相AC200V 5ｋVAの小容量を実現！…

『KE-0500シリーズ』は、三相200V/5kVAの小容量を実現した 常時インバータ給電方式のUPS（無停電電源装置）です。 工場全体ではなく、重要な機械・設備のみに導入するなど ターゲットを絞った瞬停対策が行えます。 また蓄電デバイスに「EDLC」を選ぶことで、従来の蓄電池では動作できなかった 零下などの低温環境下でもバックアップが可能な点も特長です。 【特長】 ■産...

メーカー・取り扱い企業： クズミ電子工業株式会社

イオン注入シミュレーション

ご要望のイオン種や深さ、濃度に合わせてシミュレーションが可能です。

お客様のご要望「ご希望の深さと濃度にするにはエネルギーと注入量をどれくらいにすればよいのか」や「ご指定のエネルギーと注入量でドーパントのイオンはどのような深さ分布となるか」に対して、シミュレーションをご提供することが可能です。 （イオン注入のご依頼を前提としたサービスです）...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イオンテクノセンター

高温イオン注入・高温アニール受託サービス【SiC、GaN等】

SiC等のデバイス作製に適した高温イオン注入や、ドーパント活性化のため…

SiC（シリコンカーバイド）、GaN（窒化ガリウム、ガリウムナイトライド）等の化合物半導体では、デバイス作製に適した高温イオン注入やドーパント活性化のための高温アニールが必要とされます。弊社では、高温イオン注入や高温アニールのリクエストにお応えします。 また、アニール時の温度が高温のため、アニール前のキャップ膜によ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イオンテクノセンター

イオン注入装置のラインナップ

低エネルギーから8MeＶまでの多彩な注入装置を完備しております。

室温でのイオン注入はもちろん、世界で数社のみが対応可能な高温でのイオン注入では、トップレベルの技術力と設備を誇ります。 弊社では、チップ小片から300ｍｍ（12インチ）径ウエハまで多種多様なサンプル及び、...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イオンテクノセンター

今さら聞けない【半導体の基礎知識】～イオン注入～※イラスト解説

半導体の特性の決め手となるイオン注入の一連の流れをイラストを用いて解説…

当資料では、イオン注入の基礎として、目的、装置、その評価についてイラストにてご紹介しています。 株式会社イオンテクノセンターでは、研究開発のためのサンプル作製から 量産請負まで、半導体の前工程のプロセスの受...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イオンテクノセンター

株式会社イオンテクノセンター　会社案内

イオン注入・成膜・分析の技術と設備をさまざまな分野のイノベーションにつ…

株式会社イオンテクノセンターは、時代の求めるプロフェッショナル 集団として、前身であるイオン工学研究所の事業を引き継いだ形で 誕生いたしました。 特にイオン注入、成膜、分析を中心とした技術と設備を備え...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イオンテクノセンター

イオンビームスパッタリング装置

RFイオンソースを使用し、シングルステージまたはプラネタリーステージを…

いたします。 【装置特長】 ・プロセス動作圧10-2Pa台(10-4Torr台) 　高真空成膜可能 ・コンタミネーションが少ない ・無加熱成膜可能 ・高密度膜 ・反応性成膜可能 ・イオンビームアシスト追加可能 ・膜厚等の制御性良好...

メーカー・取り扱い企業： アールエムテック株式会社

成膜・熱処理装置ラインナップ

半導体などの工程加工に適した各種成膜、酸化膜形成、アニール処理に適した…

SiCのアニール前処理として最適なカーボン成膜をPBIIで、アニール処理をRTAで、アニール前後処理を弊社で行うことができます。...成膜 ・PBII（Plasma Based Ion Implantation) 　カーボン成膜が可能 ・スパッタ 　電極膜の成膜が可能 熱処理 ・RTA（Rapid thermal annealing） 　縦型高周波誘導加熱方式により、～1800度...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イオンテクノセンター

Implanter line-up

Various implanter line-up for your …

We can perform ion implantation processing under various conditions according to customer requirements, with a wide variety of samples from chips to 12-inch wafers. The implantation conditions range f...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イオンテクノセンター

Film Deposition&Heat Treatment

Equipped with various film depositi…

PBII is suitable for carbon film for pre-annealing of SiC, RTA is for annealing....Film formation ・ PBII (Plasma Based Ion Implantation) Carbon deposition ・ Sputter Possible to form elect...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イオンテクノセンター

【回路形成】イオン注入

露光された表面の電気的特性を変化！半導体の回路形成についてご紹介

当社の半導体における、回路形成「イオン注入」についてご紹介します。 「イオン注入」は、半導体素子を形成するために チップ製造中に何度も使用。 イオン注入中ウェーハは、ドーパントと呼ばれる帯電した イオンのビームによって...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社デュブリン・ジャパン・リミテッド 本社

Implantation Simulation

Simulation for ion species, depth a…

Customer's request "How much energy and dose should be used to achieve the desired depth and concentration?" And "What depth distribution of dopant ions will be given at the specified energy and dose....

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イオンテクノセンター

【資料DL可：FIB】FIB集束イオンビーム加工における事例集

弊社の強みであるFIBによる事例(めっき層内の異常個所発見方法やパター…

弊社はFIB(集束イオンビーム加工装置)による加工を強みのひとつとしております。 当事例集では、FIBにおける事例についてご紹介します。 以下の目的、手法、結果など多数掲載しています。 ・FIBによるめっき...

メーカー・取り扱い企業： セイコーフューチャークリエーション株式会社

300mm チャージアップモニタウェハ『PT013』

ドライエッチ、プラズマCVD、スパッタ、イオン打ち込みのチャージアップ…

トしております。 チャージアップダメージを評価するウエハのサービスは 12インチウエハでも提供可能であり、長期にわたり世界的に評価されています。 ドライエッチ、プラズマCVD、スパッタ、イオン打ち込みのチャージアップ評価が可能となります。 ウエハサイズは300mm、200mm、チップ測定に対応しており、 お客様の設備でプラズマ処理を行ったウエハを測定し、 I/Vカーブ、Vbdマッ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社フィルテック　 本社

チャージアップモニタウエハ(8インチ、12インチ)

ドライエッチ、プラズマCVD、スパッタ、イオン打ち込みのチャージアップ…

エハ等を提供し、 チャージアップダメージを評価するウエハのサービスは 12インチウエハでも提供可能であり、長期にわたり世界的に評価されています。 ドライエッチ、プラズマCVD、スパッタ、イオン打ち込みのチャージアップ評価が可能、 ウエハサイズは300mm、200mm、チップ測定に対応しており、 お客様の設備でプラズマ処理を行ったウエハを測定し、 I/Vカーブ、Vbdマップのデータ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社フィルテック　 本社

半導体材料

結晶シリコン成長時に使用されるドーパント材料のトータルサプライヤーです

ざまな材料を提供しております。 P型ドーパント材料のボロン、ガリウム、N型ドーパント材料の赤燐、 アンチモン等を主にご提供いたします。 また、半導体工程において使用されるCVD材料・イオン注入材料等も 取り扱っております。ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【取扱品目】 ■シリコンドープ材料 ■イオン注入材料 ■CVD・拡散材料 ■その他（蒸着材料・MBE材...

メーカー・取り扱い企業： ヤマナカ アドバンス マテリアル株式会社

TC78H651AFNG/TC78H653FTG

モーター駆動機器全般やモバイル機器などに応用可能！

8H653FTG』は、電池の駆動時間を向上させる ブラシ付きDCモータードライバーです。 小型パッケージ（QFN16 3×3[mm]）で小型機器にも搭載可能。 また、乾電池（2本）、Liイオンバッテリー、USB電源駆動に適しております。 【特長】 ■電源電圧：1.8～7.5V（低電源電駆動に対応） ■低出力ON抵抗上下和0.22Ω/ch. typ.　*Largeモード時0.1...

メーカー・取り扱い企業： 東芝デバイス&ストレージ株式会社

【電源IC】バッテリ管理IC　ラインアップ一覧

ポータブル機器など！充電式バッテリ電源を使用するほとんどのシステムで使…

『バッテリ管理IC』(バッテリマネージメントIC)は、バッテリの状態を 常に監視・制御し、バッテリの性能を最大限に引き出すために使われる 集積回路です。 数ある電池の中でもリチウムイオンバッテリは、高効率な反面使い方を 誤ると重大な事故に繋がる恐れがありますが、当製品を使用することで、 安全に効率良く使用可能。 近年、電子システムの複雑化に伴い用途も広がっています。 ...

メーカー・取り扱い企業： アールエスコンポーネンツ株式会社

車載用電流センサ

EV・HEV・FCVなど用駆動用インバータやバッテリー充放電監視用に量…

駆動用インバータ（AC）、リチウムイオンバッテリー充放電監視（DC）などに豊富な車載実績のある電流センサで、フルカスタム対応も致します。 電流センサ向けに開発したオリジナルホール素子を使用し、独自の補償回路の採用により、高精度・高...

メーカー・取り扱い企業： 八洲電装株式会社 本社

高精度 車載用電流センサ(インバータ・バッテリー充放電監視)

年間100万個規模でEV・HEV用駆動用インバータや駆動用バッテリー管…

駆動用インバータ（AC）、リチウムイオンバッテリー充放電監視（DC）などに豊富な車載実績のある電流センサで、フルカスタム対応も致します。 電流センサ向けに開発したオリジナルホール素子を使用し、独自の補償回路の採用により、高精度・高...

メーカー・取り扱い企業： 八洲電装株式会社 本社

半導体前駆体の世界市場レポート 2023-2029

半導体前駆体市場の概要

ロセスにおいて、前駆体は主に蒸着（物理蒸着PVD、化学蒸着CVD、原子蒸着ALDを含む）に使用され、半導体製造要件を満たす製品を形成する。さらに、プリカーサは半導体エピタキシャル成長、エッチング、イオン注入ドーピング、洗浄などにも使用でき、半導体製造の中核材料の一つとなっています。 QYResearchが発行した最新市場調査レポート「半導体前駆体の世界市場レポート 2023-2029年」によ...

メーカー・取り扱い企業： QY Research株式会社 QY Research

オーエスエレクトロニクス株式会社　事業紹介

人と人の絆を大切に。柔軟な対応力と信頼性でお客様をサポートいたします。

ードリニア、ディスクリートデバイス ○電子部品 →コンデンサ、コンデンサ以外の電子部品 ○電池・電源 →電源：カスタム電源/充電器、スイッチング電源、電源/コントローラ →電池：リチウムイオン電池、リチウムポリマー電池、ニカド電池 　　　　ニッケル水素電池、リチウム電池 ○ケミカル部品 →コネクター/半導体･基板実装機具/視野角制御フィルム/実装部品搬送用ボード ○ソリューショ...

メーカー・取り扱い企業： オーエスエレクトロニクス株式会社

ファーストゲート株式会社　会社概要

半導体製造装置の商社として、No.1、Only oneの製品を提供し続…

メガソニックバス ○Particle Measuring Systems社製　液中パーティクルカウンター ○株式会社山梨技術工房　自動搬送方透明基盤検査装置 ○Core Systems社製　イオン注入ディスク ●詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： ファーストゲート株式会社 本社、大阪オフィス、笹目倉庫

株式会社岩田商会先端材料事業部　事業紹介

半導体をはじめ多くの電子材料分野に供給し続けております

シリコンウエハー、基板各種(加工含む) 　・石英・SIC製品 　・PTFE/PFA部材各種(特殊品対応) ■計測機器各種 　・パーティクルカウンター(微粒子測定器) 　・薬液濃度計・金属イオンモニター ■設備関連 　・クリーンルーム・研究用設備設営 　・薬液供給装置・薬液循環濾過機 　・洗浄装置 ■消耗品関連 　・薬液、純水、エアー用中空糸フィルター 　・脱気膜モジュール...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社岩田商会 東京支店／先端材料事業部

電気分解用電極　製造サービス

お客様のニーズに合わせて豊富な経験と確かな技術でお応えいたします

当社では、電気分解用電極（水素生成）の製造を行っております。 当社の白金めっきチタン電極は、イオン水生成器用電極として 供給開始以来、長年にわたりご利用いただいている電極です。 ご要望をもとに、実際に使用される用途や環境に応じた仕様を ご提案させていただきますので、ご要望の際はお気軽...

メーカー・取り扱い企業： デンボー工業株式会社

【資料DL可：FIB】FIBによるナノレベル高精度加工

FIB装置によりSi基板上に”マスクレス”でナノレベルの加工を狙った位…

FIB(Focused Ion Beam：集束イオンビーム)装置のエッチング加工でマスクレスで任意形状作成できます。 この事例ではでは以下サイズで50nmステップ毎のピラー作製を紹介しています。 ・円形：φ5μm ・ピラーの高さ：700n...

メーカー・取り扱い企業： セイコーフューチャークリエーション株式会社

Halocarbon合同会社 会社案内

様々なスケールでフッ素スペシャリティ製品を生産！初期開発からお客様をサ…

Halocarbonは70年以上にわたり、高品質のフッ素ケミカルを製造する 世界有数の企業として活動してきました。 リチウムイオン電池添加剤をはじめ、半導体プロセス材料、高度な製造用 潤滑剤などを取り扱っており、10kgから1000MTスケールの生産を行っております。 私たちは、初期開発からお客様をサポートする戦略的...

メーカー・取り扱い企業： Halocarbon合同会社

大気圧プラズマ装置

大気圧プラズマ装置

プラズマ中の高エネルギー電子やラジカル・イオンの高活性を利用して、電子材料をはじめ多方面にわたる応用が可能です。...

メーカー・取り扱い企業： ヤマトマテリアル株式会社

カーボンナノチューブ2023-2033年：市場、技術、プレーヤー

活況を呈するリチウムイオン電池需要がカーボンナノチューブ市場の成長を牽…

この調査レポートは、カーボンナノチューブの2023-2033年の10年間の市場予測、プレーヤー分析、技術ベンチマーク、コア・アプリケーション分野について詳細に調査・分析しています。この詳細な技術分析は、ナノカーボンの分野における長い歴史に基づき、主要企業および新興企業への一次インタビューに基づいています。 【掲載内容】 CNT生産 CNT材料のモルフォロジー 導電性ポリマー 繊維強化...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社データリソース

Photon Systems 社

Photon Systems社製品のご紹介です

、エキシマレーザーやYAGレーザーの４倍波でなければ得られなかった波長を極めて低価格で実現しました。 224.3nmのHeAgおよび248.6nmのNeCuの2つの波長タイプのホロカソード放電金属イオンレーザーを製造しております。...

メーカー・取り扱い企業： プネウム株式会社 本社

半導体　イオンゲージチューブ

装置関連保守部品を含めベストな品質、価格と信頼をご提供致します。

セミバック株式会社より、「イオンゲージチューブ」のご案内です。...

メーカー・取り扱い企業： セミバック株式会社