『PTFEライナーフレキシブルホース』

PR優れた耐薬品性で医薬品や工業用など幅広い分野で活躍。豊富なシリーズから…

Aflexブランドの『PTFEライナーフレキシブルホース』は、 流体接触面を化学反応が少ないPTFE樹脂でライニングした製品です。 優れた耐薬品性を備え、高圧および最大260℃の高温に耐性を発揮。 滑らかな内面構造により、液体の流速を確保できます。 CIP/SIPに対応したシリーズもあり、高い衛生性が求められる分野でも活躍。 ホースに接着剤を使用しないため、剥離によるコンタミリス...

メーカー・取り扱い企業： Watson-Marlow（ワトソンマーロー）株式会社 東京本社、大阪支社

HallinSight 3D ホール効果 磁場カメラ

PRHallinSightのベクトル式磁場イメージング技術によって、「3D…

HallinSightは、Flaunhofer IIS（フラウンホーファー集積回路研究所）によって開発され、以下の特長があります。 ・見えなかったものを見えるようにする 3軸磁場カメラです。 ・動的な磁場をリアルタイムでマッピングできます。 ・X,Y,Z 3軸を同時測定するホールセンサ・アレイを用います。 　⇒ 32×32点、16×16点、32×2点の3種類があります。 　⇒ 各々2...

メーカー・取り扱い企業： 大栄無線電機株式会社

フレキシブル シンタリングシステム『SIN200+』

次世代パワー半導体モジュールのシンタリング（焼結）接合試作＆量産装置

シンタリングシステム『SIN200+』は、従来ののSn系はんだ材に代わる新しい接合技術で、パワー半導体モジュールのシンタリング(焼結）によるダイアタッチ接合のR&D試作評価から量産までの用途に対応できます。特に、SiCパワー半導体に最適です。 真空チャンバー内での加熱、シンタリング（加圧）、冷却の全工程で、サブストレート温度、雰囲気圧力および、プロセスガスを、リアルタイムで正確に制御すること...

メーカー・取り扱い企業： ピンク・ジャパン株式会社

CZウェーハ　成膜加工

2インチから12インチウェーハへの成膜が可能です。

0ｍｍウェーハへの成膜が可能です。 酸化膜系：熱酸化、RTO、LP-TEOS、HDP-USG、P-TEOS、PSG、BPSG、BSG、LP-CVD、PE-CVD 窒化膜系： HCD-SiN、DCS-SiN、P-SiN、LP-SiN 、LP-CVD、PE-CVD 金属膜系： TaN、Ta、Cu、Al、AlN、Al-Si、Al-Si-Cu、Ni、W、W-Si-Cu その他 P...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エナテック 東京本社

ICPプラズマエッチング装置『SERIO』

平滑なエッチング面と高い加工精度を実現！サンプルテスト対応いたします！

可能） ■対応基板：Si、石英、セラミックス（アルミナ、AlTiC等）ガラス、 　　　　　　圧電体（LT，LN）等 ■エッチング対象：基板Si、石英、 　　　　　　　　　各膜種 Si系(SiO2、SiN)・有機膜　等 ■対象プロセス：Si深掘り、SiN犠牲層形成、各種薄膜エッチング等 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

プラズマＣＶＤ成膜

ガスを化学反応させることで緻密な薄膜を形成！低温加工も可能です。

ング法、真空蒸着法に加え、 プラズマＣＶＤ法によるコーティングサービスも行っております。 現在、プラズマCVD法での対応膜種は、DLC（Diamond-Like Carbon）、SiO2、SiN、SiCの４膜種とさせていただいております。...

メーカー・取り扱い企業： 東邦化研株式会社

研究・試作に最適な小型プラズマCVD装置『VC-R400F』

独自のLIA方式プラズマ源を採用し、樹脂フィルムや金属箔に超高速、高品…

■　対象基材：樹脂フィルム（PET、PEN）、金属箔 【仕様(一部)】 ・対象膜：DLC、SiN、SiOなど ・成膜方法：デポダウン、静止成膜(インライン成膜も対応可能) ・温調：ステージ温調＜500℃ ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社SCREENファインテックソリューションズ

研究・試作に最適な小型プラズマCVD装置『VC-R400G』

独自のLIA方式プラズマ源を採用し、ガラス、金属などの平板基材に超高速…

■　対象基材：ガラス板、金属板などの平板 【仕様(一部)】 ・対象膜：DLC、SiN、SiOなど ・成膜方法：デポダウン、静止成膜(インライン成膜も対応可能) ・温調：ステージ温調＜500℃ ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社SCREENファインテックソリューションズ

MEMS受託加工サービスとミニマルファブについて

WF加工、テストWF作成、貫通配線基板加工など！EB露光、DRIE、 …

んでおります。 TSV形成におけるプロセス技術の重要課題についてもPDFダウンロードからご確認いただけます。 【加工内容】 ■前処理（RCA洗浄） ■成膜（熱Si酸化成膜、CVD成膜〈SiO2、SiN〉、メタル成膜〈Al、Al-Si、Al-Cu、Cu、Ti、W、Mo〉） ■フォトリソグラフィー（コンタクトアライナー、ステッパー、EB露光） ■エッチング（Wetエッチング、Dryエッチング、DR...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社M.T.C

各種ワークの受託開発・加工サービス

お客様の目的に合わせた形状・面精度到達に向けた、受託開発・加工をご提案…

【受託加工対象素材】 ■各種半導体用基板 （Si、SiC、GaN、GaAs、サファイア、 LiTaO3、LiNbO3、SiN、AlN、SiN、 各種複合材料、etc.） ■太陽電池用基板 ■各種金属基板（Cu、Al、SUS、Ti、Au、Ag、W、etc..） ■各種ガラス基板（石英、パイレックスガラス、強化ガラス...

メーカー・取り扱い企業： ナガセ研磨機材株式会社 本社

RIBER社 分子線エピタキシー（MBE）装置

パッシベーション用MBE装置は、レーザーファセットパッシベーション等の…

ァセットパッシベーションのために特別に設計された各種チャンバーで構成されております。表面やファセット面を保護するために、さまざまなコーティングを使用することが可能です。代表的な材料としてZnSe、SiN、酸化物等がある。 構成例として、クリーニングとパッシベーションを行うレーザーの両端でデバイスホルダーを反転させる機能が含むチャンバ、パッシベーション膜前の自然酸化膜除去する為の水素(H2)プラ...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

卓上タイプエッチング・成膜装置『Plasma POD シリーズ』

教育機関や小規模施設などに！タッチパネルで簡単操作が可能な卓上型システ…

【仕様(一部)】 ■PECVD装置 ・SiN3膜形成 ・SiO2膜形成 ・サンプルサイズ最大240mm ■スパッタ装置 ・金属膜 ・有機膜 ・サンプルサイズ最大150mm ■反応性イオンエッチング装置 ・表面処理 ・故障解...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

加工品納期にお困りですか？標準納期14日間を実現します！

【セラミックス/金属/樹脂/カーボン/ガラス/表面処理など】幅広いテー…

【代表材質例】 ・ファインセラミックス 　酸化物：アルミナ、ジルコニア等 非酸化物：窒化アルミ(AlN)、窒化ケイ素(SiN)、炭化ケイ素(SiC)等 ・マシナブルセラミックス マコール、ホトベール、BN、シェイパルHIMソフト ・各種金属 汎用金属：SUS、アルミ等 レアメタル：モリブデン、タンタル...

メーカー・取り扱い企業： ナラサキ産業株式会社 メカトロソリューション部　機能材料課

ALD（原子層堆積）装置

2重構造チャンバによるメンテナンス負荷低減と内容積のコンパクト化を実現…

ワッティーが提供する実験・研究開発向け装置 2inch～8inchモデルまでの装置をご用意し、ユーザーニーズにお応え いたします。 また各種付帯設備をオプションでご用意しており、お客様の導入時の 設備導入負担を軽減します。 安全仕様・プリカーサ本数・プリカーサ導入方法・排気系統、あらゆる 項目についてカスタマイズのご要望にお応えいたします。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、...

メーカー・取り扱い企業： ワッティー株式会社

高硬度材を高精度にスライス！固定砥粒加工ワイヤソーHW810！

業界トップとなるMAX3,000m/minの超高線速加工による高効率、…

大口径化する高硬度材において、遊離砥粒加工に比べ、圧倒的に高い生産性を実現。 またスラリー不要で廃棄物を削減、作業環境の改善も図ることができます。 SiC、SiN、サファイア等の高硬度材・難削材スライスに是非ともご検討ください。 SiCスライス時間　6in: ≦10時間　8in: ≦30時間 ◎今期ご予算での短納期対応も可能です。納期に関しましては...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社安永 本社

プラズマCVD装置

パワーデバイス、LED、MEMS等の量産で多数の実績がある装置です。

当社の装置は1回の処理で複数枚のウエハに成膜を実施する、バッチタイプの装置です。 膜種　　　　：SiN/SiO2/SiONの成膜が可能です。 　　　　　　　その他TEOS-SiO2等につきましてもご相談ください。 ウエハサイズ：最大８インチ 　　　　　　　８インチ以下のサイズであれば制限はあ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社日本生産技術研究所

L/S 2μm対応『室温スパッタ装置』

半導体、プリント基板、表面処理に！高い密着力を実現する室温スパッタ装置

成、シード層形成（過マンガン酸・無電解めっきからの置換）などの用途に適しています。 【特長】 ○精密有機パッケージ基板に最適 ○高い生産性 ○膜種例：Ti、Cu、Al、ITO、IZO、SiN、SiO3、Al2O3、Ni、etc. 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サーマプレシジョン

厚膜成膜

薄い膜だけじゃない！厚く成膜することもできます。

r、Cu/Cr　など 　酸化膜：Al2O3、SiO2、TiO2、Cr2O3、ITO、MgO、NbO、Ta2O5、WO3、ZrO2、ZnO　など 　窒化膜：AlN、BN、CrN、MoN、NbN、SiN、TaN、TiN　など 　炭化膜：SiC、TiC、BC　など ※使用装置によって変わりますので、ご相談ください。 ■最大搭載可能サイズ：800×1000mm ※小型装置から大型装置まで...

メーカー・取り扱い企業： 東邦化研株式会社

受託サービス（CVD、スパッタリング、パターニング、エッチング）

ウェハー上への微細加工、確かな技術で幅広い受託サービスを提供します。

少開口寸法：0.6μm（レジスト膜厚により変動） 　ドライフィルムレジストへも対応しております。 ※エッチング 　ドライ：製法　RIE 　　　　　膜種　Si、Poly-Si、SiO2、SiN 　ウェット：酸、アルカリ系各種 　　　　　 クロムエッチング 　　　　　 ITO膜エッチング　　その他応談 対象基板：シリコン、石英（ガラス）、サファイア等、 　　　　　８イン...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社九州セミコンダクターKAW 山香工場

イオンプレーティング成膜

50種類以上もの薄膜コーティングを1個からでも対応可能！宇宙開発技術か…

r、Cu/Cr　など 　酸化膜：Al2O3、SiO2、TiO2、Cr2O3、ITO、MgO、NbO、Ta2O5、WO3、ZrO2、ZnO　など 　窒化膜：AlN、BN、CrN、MoN、NbN、SiN、TaN、TiN　など 　炭化膜：SiC、TiC、BC　など ■最大搭載可能サイズ：800×1000mm　※小型装置から大型装置まで幅広く保有しております。 ■対応可能基板 　・Si Wa...

メーカー・取り扱い企業： 東邦化研株式会社

エッチング受託加工

ドライとウェットの両プロセスから適した方法を提案！お客様の課題を解決し…

【加工実績のある材質】 <ドライエッチング> ■RIE 　・Si、SiO2、SiN、SiON、樹脂、Mo、W、Ti、Ta、TiN 等 ■ICP 　・Si、SiO2 等 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社協同インターナショナル

研究開発用スパッタリング装置

高水準な仕様と豊富なオプションで様々な成膜用途に適した研究開発用スパッ…

動搬送オプションも可能 ■用途 ・有機EL, 太陽電池, 光学部品, バイオ, 半導体・電子部品, 　自動車・樹脂, 特殊膜, MEMS ■代表的な成膜材料 ・誘電体膜ほか 　SiN, SiO2, ZrO, TiO2, 重合膜 ・透明導電膜 　ITO, ZnO ・金属膜ほか 　Au, Ag, Cu, Si, Ti, Sn, Cr, Al, Ni, DLC, 電磁波シー...

メーカー・取り扱い企業： 芝浦メカトロニクス株式会社

マイクロエッヂプロセスのレーザ微細加工

微細形状・特殊材料など既存の加工では困難だと思われる加工を日々研究開発…

04, SUS430, SUS316L 　・銅、アルミ、コバール、真鍮等 ■樹脂 　・PI, PEN, PP, PS, PET, PEEK等 ■ガラス・セラミック 　・ホウケイ酸ガラス、SiN, SiC, アルミナ等 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： マイクロエッヂプロセス株式会社

研磨作業

難題を一つ一つクリア！多種多様なロールの研磨要求にミクロン単位のオーダ…

杉村製作所の行う『研磨作業』についてご紹介します。 当社の各工場に持ち込まれるロールの種類はまさに千差万別。 長さや大きさ、形状、素材にいたるまですべてが異なります。 そのロールの特性、構造などを熟知した経験豊かなスタッフたちが、 様々な研磨ニーズに応えるべく、先端の研磨加工マシンとシステムを駆使し 作業を行います。 【特長】 ■研磨加工の先端マシンを保有 ■各種研磨加...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社杉村製作所

スクライブ＆ブレーク

直径2mmの工具に荷重をかけることで基板材料に亀裂を進展させる加工です

【加工可能な材料】 ■アルミナ ■LTCC ■AlN ■SiN ■ジルコニア ■誘電体 ■ガラス ■サファイア ■SiC　など ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： 合同会社ブリマテック

ロータリー研削加工

大型のワークサイズにも対応可能な片面研削加工

ワークサイズと仕様 材質　各種セラミックス（アルミナ、AlN、SiNなど）、各種ガラス、 　　　結晶物、金属 仕様　最大L400mm×W300mm×H400mm 　　　加工精度±０．０2ｍｍ～　　Ra０．５μｍ～ ※その他の材質、サイズについては別途お問...

メーカー・取り扱い企業： セラテック九州株式会社

鋼板磁気特性テスター　-鋼板試料の二次元磁気特性を測定-

二次元磁気特性を任意波形、自動追従制御で評価　鋼板磁気特性テスター …

■トランスに使用される方向性電磁鋼板などの、 鋼板試料の二次元磁気特性を測定する、テスターSin波状の磁場で単純な 円形に励磁した場合の特性の、測定から磁束密度が任意形状になるように、 磁場を自動追従させた測定が可能 ■ハードウェア（PXI）、ソフトウェア（LabVIEW）共に 汎用製品なので、高度なカスタマイズができる ■独自アルゴリズムにより二次元任意波形への自動追従制御が可能...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ペリテック 神奈川エンジニアリングセンター、東京営業所、ベトナム事業所

成膜受託サービス

液相・気相コーティングに関わらず多様な工法でお客様のニーズを全方位でカ…

筒も可能） 　層形成：単層膜・多層膜可能（Max.4層）　　　　　　　　 　パターン蒸着：メタルマスク対応（オプション） 【適応膜】 　高融点金属、クロム、シリコン、アルミ、銅、SiO₂、SiN、ZnO等 その他、幅広く対応可能ですのでお気軽にお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社クリエイティブコーティングス

クリエイティブコーティングス『気相技術』

ワーク材質や膜種、膜厚から、弊社がご提案する技術や加工例をご紹介！

定形・円筒も可能） 層形成：単層膜・多層膜可能（Max.4層）　　　　　　　　 パターン蒸着：メタルマスク対応（オプション） ■適応膜 高融点金属、クロム、シリコン、アルミ、銅、SiO₂、SiN、ZnO等 ご紹介しているもの以外でも、お客様のご要望内容によっては対応可能な場合も多くございます。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社クリエイティブコーティングス

フォトマスク

高度な図形処理技術と最新の装置によるフォトマスク

エクアがご提供するフォトマスクは、主にレーザーを光源とした最新の装置により描画されております。エレクトロニクス、光学部品、スケール、ディスプレイなどの分野において、長年に渡る経験豊富な精密フォトリソグラフィー技術、またエクア独自の図形処理技術により、お客様の多様なニーズにお応えします。 エクアは図面からデータを作成し、お客様のイメージや構想の実現をサポートします。 【特徴】 ○対応データ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エクア

GaN・SiC・結晶類・セラミックス・ガラス類

“SrTiO3”や“CaF2”など！製造現場で使用する各種吊り下げ用具…

い合わせ下さい。 【ラインアップ】 ■GaN・SiC(単結晶)・Ge・LiNbO3・LiTaO3・TiO2・MgO・BaTio3・SrTiO3 ■アルミナセラミックス・SSiC・SiC・SiN・AlN・BN・ZrO2　他 ■CaF2・MgF2・BaF2・ZnS・ZnSe・LiF・石英ガラス・光学用ガラス ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： ＴＥＣＯＭ株式会社

IBAD(イオンアシスト蒸着法)装置　CVI series

真空蒸着よりも緻密で強度が高く、表面が平滑な成膜が可能！

0～300mm（不定形・円筒も可能） 層形成：単層膜、多層膜可（MAX4層） パターン蒸着：メタルマスク対応（オプション） 【適応膜】 高融点金属、クロム、シリコン、アルミ、銅、SiO₂、SiN、ZnO など ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社クリエイティブコーティングス

シリコンブロック内部異物検査装置

シリコンブロック内部異物検査装置

IRB-30は、赤外線を使用し、シリコンブロックの内部異物(主にSiC, SiNなど)を検査する装置です。 ...

メーカー・取り扱い企業： 日本セミラボ株式会社 新横浜本社

酸発生剤関係 製品カタログ

有機合成技術で付加価値材料を提供致します！

当カタログは、酸発生剤関係のSIN-01、SIN-02、 SIN-11製品を掲載しているカタログです。 光ディスク用色素、感熱色素、印刷用感光性樹脂などの記録媒体や 光酸発生剤、感光性材料などを提供しております。 【ラインアップ】 ■SIN-01 ■SIN-02 ■SIN-11 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...【仕様】 ■SIN-01...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三宝化学研究所

Alダメージレス絶縁膜エッチング液

Al、Al合金膜を腐食することなく絶縁膜を良好にエッチングします。 …

ングによるViaやPad形成に使用可能です。 ・Pure Etch 160（ AlダメージレスSiエッチング液）の前処理液としても使用可能です。 キーワード：ウェットエッチング、SiO2、SiN、TEOS、シリコン酸化膜、シリコン窒化膜...

メーカー・取り扱い企業： 林純薬工業株式会社 電子材料部

立体形状への成膜加工

平面モノだけでなく、立体モノへの成膜もできます！ご希望の成膜箇所をお聞…

r、Cu/Cr　など 　酸化膜：Al2O3、SiO2、TiO2、Cr2O3、ITO、MgO、NbO、Ta2O5、WO3、ZrO2、ZnO　など 　窒化膜：AlN、BN、CrN、MoN、NbN、SiN、TaN、TiN　など 　炭化膜：SiC、TiC、BC　など ※使用装置によって変わりますので、ご相談ください。 ■最大搭載可能サイズ：800×1000mm ※小型装置から大型装置まで...

メーカー・取り扱い企業： 東邦化研株式会社

樹脂フィルムへの成膜加工

低温での成膜加工が可能！ポリイミド、ポリカーボネート、アクリル、PET…

r、Cu/Cr　など 　酸化膜：Al2O3、SiO2、TiO2、Cr2O3、ITO、MgO、NbO、Ta2O5、WO3、ZrO2、ZnO　など 　窒化膜：AlN、BN、CrN、MoN、NbN、SiN、TaN、TiN　など 　炭化膜：SiC、TiC、BC　など ■最大搭載可能サイズ：800×1000mm ※小型装置から大型装置まで幅広く保有しております。 ■対応可能基板 　・...

メーカー・取り扱い企業： 東邦化研株式会社

１枚からの成膜が可能　成膜加工（CVD）

低温ＣＶＤは、１００℃以下での成膜や、異形サイズの基板へも、樹脂、フィ…

PE=CVDのSiO2、SiNを中心に成膜の受託加工を行っております。 厚膜の熱酸化膜への対応、小数枚の熱酸化膜へのご要求にも 在庫品で対応できる場合がありますので、お気軽にお問い合わせください。 その他詳細は、カ...

メーカー・取り扱い企業： 大村技研株式会社