◆パイロット　ファインセミックス◆　＜展示会出展＞

PR高純度アルミナ、ジルコニアのセラミックスで微細孔・多孔貫通孔の押出成形…

パイロットはシャープ芯の押出成形技術を生かし、 微細な貫通孔のセラミックス製造を得意としています。 単孔のパイプ状から多孔のフィルター状の物まで製作いたします。 外径Φ0.2～Φ8、内径Φ0.005～、長さ120mm程度までの 高純度アルミナ、ジルコニア、窒化アルミを提供。 異なる孔径の組合せや異なる外形状と内形状の組合せなども可能ですので お気軽にご相談ください。 【セラミックの性質】 ■...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社パイロットコーポレーション

【スーパーマイクロシーブ】5ミクロンの丸穴微細加工技術とは？

PR従来の微細穴加工の工法とは異なる　セムテックエンジニアリング　独自の技…

従来のエッチング、レーザー、ドリル、フライス、放電加工では行えない、精度の高い微細な穴加工が行えます。 弊社のスーパーマイクロシーブはエレクトロフォーミング技術による加工により生成されています。 『穴径　5μm～30μm以上の加工』　製造過程で混在する粗粒子を個数レベルで完全に除去できます。 『最小ピッチ　穴径＋10μmの狭さ』　一枚面積における穴数が多いため高効率の分級が可能です。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社セムテックエンジニアリング

自動塗布・露光・現像一貫プロセス装置（フルオートリソグラフィ）

レジスト塗布～露光～現像処理を一気通貫。自動で処理可能な装置です。フォ…

【主な仕様例】 ■カセットステージ：1組 ■スピン塗布ユニット：1組 ■スピン現像ユニット：1組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ6"、□4インチも可 ■レジスト滴下ノズル：1組 ■バック・エッジリンス：1組/塗布CUP ■現像ノズル：1組 ■リンスノズル：1組 ■ベークユニット：3組（Max200℃） ■クーリングユニット：2組 ■センタリングユニット...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

2サイズ兼用自動レジストコーター・デベロッパー（塗布・現像）

段取り替え不要、2サイズのウエハ兼用装置です。 低粘度～高粘度レジス…

【主な仕様例】 ■カセットステージ：2組 ■スピン塗布ユニット：1組 ■スピン現像ユニット：1組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■レジスト滴下ノズル：1組 ■バック・エッジリンス：1組/塗布CUP ■現像ノズル：1組 ■リンスノズル：1組 ■ベークユニット：3組（Max200℃） ■クーリングユニット：1組 ■センタリングユニット...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

自動レジスト現像装置（枚葉式） デベロッパー Developer

枚葉式のためプロセスの再現性が高く、薬液使用量も少なく済みます。品質向…

【主な仕様】 ■カセットステージ：2組 ■スピン現像ユニット：2組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■現像ノズル：1組/CUP ■リンスノズル：1組/CUP ■ベークユニット：4組（Max200℃） ■クーリングユニット：2組 ■センタリングユニット：1組 ■装置サイズ：（例）1400×1100×...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

半自動フォトレジスト現像装置（セミオートデベロッパー）

自動機を購入するほど生産量が多くないが、プロセスの再現性を求めるお客様…

【主な仕様】 ■スピン現像ユニット：1組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■現像ノズル：1組/CUP～ ■リンスノズル：1組/CUP ■ベークユニット：1組（Max200℃） ■クーリングユニット：1組 ■センタリングユニット：1組 ■装置サイズ：（例）1300×1450...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

短時間剥離！手動リフトオフ装置（マニュアル機）Lift-off

短時間剥離！当社独自の特殊ノズルによる高圧ジェットで、枚葉による高速処…

研究開発用途で活躍するマニュアルリフトオフ装置をご紹介します！ アセトンや専用剥離液で一晩浸漬した後に超音波やスプレーでリフトオフをするような長時間工程を短くできます。 当社独自の特殊ノズルを使用した高圧ジェットにより、枚葉による高速処理・高剥離力を実現し、薬液の使用量も削減できます。 さらに、弊社独自の温調膨潤と高圧ジェットの組み合わせで処理時間を24時間→3minに減らした...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

逆テーパー角を一定に！PEB対応レジスト現像装置（デベロッパー）

逆テーパー角度を一定に！ネガレジストやイメージリバーサル用のレジストに…

【主な仕様】 ■カセットステージ：2組 ■スピン現像ユニット：2組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■現像ノズル：1組/CUP ■リンスノズル：1組/CUP ■ベークユニット：2組（Max200℃） ■クーリングユニット：1組 ■センタリングユニット：1組 ■装置サイズ：（例）1200×1000×...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

コンパクト！手動フォトレジスト現像装置（マニュアルデベロッパー）

少量多品種生産、開発用途向けのコンパクトレジスト現像装置です。枚葉式の…

【主な仕様】 ■スピン現像ユニット：1組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■現像ノズル：1組/CUP～ ■リンスノズル：1組/CUP ■装置サイズ：（例）1200×800×1800(Φ4"本体・薬液供給一体) その他オプション多数！ ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

ブラシ洗浄からの置き換え！枚葉式ウエハ洗浄装置（スクラバー）

実績多数の高圧ジェットを採用したスクラバー。ソフトスプレーと組み合わせ…

当社のスクラバー装置は、当社独自の特殊ノズルを使用した高圧ジェットにより、枚葉による高速処理・高洗浄力を実現し、薬液の使用量も削減できます。 ノズルは、高圧ジェット方式の他、2流体スプレー、1流体スプレー等の方式も選択可能ですし、組...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

自動フォトレジスト塗布装置（スピンコーター）Coater

レジスト膜の面内均一性やウエハ間の平均膜厚の差が少ないコーターです。低…

構造により、高粘度〜低粘度まで幅広いレジストに対応いたします。 【主な仕様例】 ■カセットステージ：2組 ■スピン塗布ユニット：2組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■レジスト滴下ノズル：2組/CUP ■エッジ・バックリンス：各1組/CUP ■ベークユニット：2組（Max200℃） ■クーリングユニット：1組 ■センタリングユニット：1組 ■装置サイズ：（例）1200×...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

半自動リフトオフ装置（セミオートリフトオフ機）Lift-off

自動機よりも安く、マニュアル装置より使いやすいセミオートタイプのリフト…

ウェハ（基板）をセットするだけで自動で搬送・リフトオフ・リンスを行う装置です。 リフトオフはASAP特殊ノズルによる高圧ジェットによりバリも除去し、メタル剥離を行います。 カセット（キャリア）でセットをすることはできませんが、マニュアルと違いウェハ1枚1枚を自動搬送するので、偏心や位置ズレの心配があ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

厚膜塗布に高粘度専用スピンコーター！自動ポリイミド塗布装置

～10000cP程度の高粘度ポリイミドを均一に塗布する高粘度専用スピン…

【主な仕様例】 ■カセットステージ：2組 ■スピン塗布ユニット：2組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■レジスト滴下ノズル：2組 ■ベークユニット：2組（Max200℃） ■クーリングユニット：1組 ■センタリングユニット：1組 ■装置サイズ：（例）1200×1000×1800(Φ4"本体) 　　　　　　　...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

ロール・スプレーコーターの置き換え！回転カップ式レジスト塗布装置

多彩な薬液に実績あり！低価格の理由は、設計から販売まで自社で行っている…

【主な仕様】 ■カセットステージ：2組 ■スピン塗布ユニット：2組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■レジスト滴下ノズル：2組 ■ベークユニット：2組（Max200℃） ■クーリングユニット：1組 ■センタリングユニット：1組 ■装置サイズ：（例）1200×1000×1800(Φ4"本体) 　　　　　　　...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

厚さ100um！極薄ウェーハ搬送自動レジスト塗布装置　コーター

GaAs、LT、ガラスなどの脆くて薄いウェーハでの搬送・塗布での実績（…

【主な仕様】 ■カセットステージ：2組 ■スピン塗布ユニット：2組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■レジスト滴下ノズル：2組 ■ベークユニット：2組（Max200℃） ■クーリングユニット：1組 ■センタリングユニット：1組 ■装置サイズ：（例）1200×1000×1800(Φ4"本体) 　　　　　　　...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

段取り替えなし！複数ウエハサイズ兼用自動レジスト塗布装置コーター

現状のウエハサイズと将来的に使用したいウエハサイズを兼用した装置を作製…

【主な仕様】 ■カセットステージ：2組 ■スピン塗布ユニット：2組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■レジスト滴下ノズル：2組 ■ベークユニット：2組（Max200℃） ■クーリングユニット：1組 ■センタリングユニット：1組 ■装置サイズ：（例）1200×1000×1800(Φ4"本体) 　　　　　　　...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

両面プロセスに最適！両面自動フォトレジスト塗布装置　コーター

ウェハ反転ユニットを使うことでウェハの両面塗布を自動で行えます！

【主な仕様】 ■カセットステージ：2組 ■スピン塗布ユニット：2組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■レジスト滴下ノズル：2組 ■ベークユニット：2組（Max200℃） ■クーリングユニット：1組 ■センタリングユニット：1組 ■装置サイズ：（例）1200×1000×1800(Φ4"本体) 　　　　　　　...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

反りウェハも搬送！ベルト搬送式自動レジスト塗布装置（コーター）

ベルト搬送タイプのトラックシステムスピンコーターです。高スループットで…

【主な仕様】 ■カセットステージ：2組 ■スピン塗布ユニット：2組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■レジスト滴下ノズル：1組/CUP ■ベークユニット：2組（Max200℃） ■クーリングユニット：2組 ■センタリングユニット：2組 ■装置サイズ：（例）1800×1000×1400(Φ4"本体) 　　　...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

MAX400℃！高温ベーク対応レジスト塗布装置（スピンコーター）

BARCやその他薬液をスピン塗布後、MAX400℃でベーク可能！高温ベ…

【主な仕様】 ■カセットステージ：2組 ■スピン塗布ユニット：1組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■レジスト滴下ノズル：2組/CUP ■バック・エッジリンス：各1組/CUP ■高温ベークユニット：1組（Max400℃） ■低温ベークユニット：2組（Max200℃） ■クーリングユニット：1組 ■センタリ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

フォトレジスト量削減！回転カップ式塗布装置（スピンコーター）

ポリイミドや高価な高粘度レジストの削減に有効！回転カップ式スピンコータ…

【主な仕様】 ■カセットステージ：2組 ■スピン塗布ユニット：2組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■レジスト滴下ノズル：2組 ■ベークユニット：2組（Max200℃） ■クーリングユニット：1組 ■センタリングユニット：1組 ■装置サイズ：（例）1200×1000×1800(Φ4"本体) 　　　　　　　...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

コンパクト！装置幅300mm自動レジスト塗布装置（コーター）

装置「幅」が300mm！ウェハサイズではなくて装置の幅が300mmの装…

【主な仕様】 ■ウェハ搬送置台：1組 ■スピン塗布ユニット：1組 ■ウエハサイズ：Φ1～2" ■レジスト滴下ノズル：1組 ■センタリングユニット：1組 ■装置サイズ：（例）300×1800×1800(Φ4"本体) その他オプション多数！ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

自動フォトレジスト塗布・現像装置（コーター・デベロッパー）

低粘度～高粘度レジスト対応！小口径～大口径まで、どのウェハサイズの装置…

【主な仕様例】 ■カセットステージ：2組 ■スピン塗布ユニット：1組 ■スピン現像ユニット：1組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■レジスト滴下ノズル：1組 ■バック・エッジリンス：1組/塗布CUP ■現像ノズル：1組 ■リンスノズル：1組 ■ベークユニット：3組（Max200℃） ■クーリングユニット：1組 ■センタリングユニット...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

2流体スプレー方式自動フォトレジスト現像装置（デベロッパー）

高い圧力から霧状の柔らかい圧力まで自由自在！2流体スプレーレジスト現像…

、スプレーの吐出圧力を変更することができます。 液の圧力を高め、高圧で吐出す方法や、液量を少なくして霧状にして柔らかく吐出する方法など幅広くスプレーの吐出パターンを選べます。 スプレーノズルは扇形、円形などの形状と分布や広がり角度や範囲も自由に選択できます。 マニュアル機～フルオート機まで生産量に合わせたラインアップで、 設計から製造・販売まで自社で行っているので、低価格を実...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

1流体スプレー方式自動フォトレジスト現像装置（デベロッパー）

厚膜現像や処理時間短縮に効果を発揮する1流体現像装置です。スプレー形状…

式の現像装置です。 現像液の圧力でスプレーをするため、スプレーによるミストが飛び散りにくく、また現像スピードを速くすることができます。 大型基板や厚膜の現像に最適です。 スプレーノズルは扇形、円形などの形状と分布や広がり角度や範囲も自由に選択できます。 当製品は、枚葉式で現像、ベーク、クーリング機能を搭載。 マニュアル機～フルオート機まで生産量に合わせたラインア...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

角基板対応自動レジスト塗布・現像装置（コーター・デベロッパー）

低粘度～高粘度レジスト対応！どのウェハサイズの装置も作製可能です！

【主な仕様例】 ■カセットステージ：2組 ■スピン塗布ユニット：1組 ■スピン現像ユニット：1組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12(角基板対応)" ■レジスト滴下ノズル：1組 ■現像ノズル：1組 ■リンスノズル：1組 ■ベークユニット：3組（Max200℃） ■クーリングユニット：1組 ■センタリングユニット：1組 ■ウェハ搬送ロボット：1組（ダブル...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

静止現像式（パドル）自動フォトレジスト現像装置（デベロッパー）

多彩な薬液に実績あり！低価格の理由は、設計から販売まで自社で行っている…

ップ方式と違い、1枚1枚現像を行うので、プロセスの再現性が非常に高いです。 薬液使用量を最適化することにより、現像液使用量の削減に繋がります。 液盛り方法もシャワータイプからストレートノズルなどご要望にお応えできます。 静止現像中の揺動機能も搭載！ （低回転と停止を繰り返して液を動かします） 枚葉式で現像、、リンス、ベーク、クーリング機能を搭載。 お客様のニーズと...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

自動リフトオフ装置（メタル・レジスト剥離）Lift-off

高圧ジェットで驚きの剝離能力！当社独自の特殊ノズルで、枚葉による高速処…

物理力と化学力のW（ダブル）効果リフトオフ！ W効果リフトオフとは？ ・当社独自の特殊ノズルを使用した高圧ジェット（MAX20MPa）により、物理力による剥離 ・溶剤にNMPやDMSOなどの有機溶剤を使用し、化学的な力で剥離 また、枚葉による高速処理・高剥離力・高安定性を実現し、...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

リフトオフ（イメージリバーサル）対応フォトレジスト現像装置

多彩な薬液に実績あり！低価格の理由は、設計から販売まで自社で行っている…

【主な仕様】 ■カセットステージ：2組 ■スピン現像ユニット：2組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■現像ノズル：1組/CUP ■リンスノズル：1組/CUP ■ベークユニット：2組（Max200℃） ■クーリングユニット：1組 ■センタリングユニット：1組 ■UV露光ユニット（LED光源もお選びい...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

高圧ジェットで高速レジスト剥離！半導体製造用リフトオフ装置

【超高圧ジェットでメタル＆レジスト除去】ASAP専用ノズルで、枚葉によ…

【特長】 ■最大20MPaの超高圧ジェットを噴射 ■リフトオフ時のバリの除去 ■メタルの再付着なし！ ■薄いウエーハでも割れる心配なし ■レジスト、ポリマー、 マスクの洗浄としても使用可能 ■薬液のリサイクルシステム （オプション） 超高圧ジェットリフトオフは熱やプラズマの影響で取れづらくなったレジストをきれいに除去可能！ 昔はDIPプロセスで簡単に除去できていたものがだん...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

大型角基板用（～430mm）回転カップ式自動レジスト塗布コーター

430mm角までの大型基板を隅まで均一良く塗ることができます！正方形、…

【主な仕様】 ■カセットステージ：2組 ■スピン塗布ユニット：2組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■レジスト滴下ノズル：2組 ■ベークユニット：2組（Max200℃） ■クーリングユニット：1組 ■センタリングユニット：1組 ■装置サイズ：（例）1200×1000×1800(Φ4"本体) 　　　　　　　...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

半自動レジスト塗布装置(セミオートスピンコーター)Coater

低～高粘度レジスト対応！どのウェハサイズの半自動機（セミオート）も作製…

【主な仕様例】 ■スピン塗布ユニット：1組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■レジスト滴下ノズル：2組 ■ベークユニット：2組（Max200℃） ■クーリングユニット：1組 ■装置サイズ：（例）1200×1000×1800(Φ4"本体) 　　　　　　　　　 1600×2500×1...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

10000cP！高粘度対応自動レジスト塗布装置（スピンコーター）

10000cPのポリイミドやレジストにも対応可能！ASAP（エイ・エス…

【主な仕様】 ■カセットステージ：2組 ■スピン塗布ユニット：2組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■レジスト滴下ノズル：2組 ■ベークユニット：2組（Max200℃） ■クーリングユニット：1組 ■センタリングユニット：1組 ■装置サイズ：（例）1200×1000×1800(Φ4"本体) 　　　　　　　...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

R&Dや少量生産に最適！手動レジスト塗布装置(スピンコーター)

研究・開発、小ロット対応のマニュアル装置！卓上タイプとは違う自動機と同…

【主な仕様】 ■スピン塗布ユニット：1組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■レジスト滴下ノズル：2組 ■ベークユニット：2組（Max200℃） ■クーリングユニット：1組 ■装置サイズ：（例）1200×1000×1800(Φ4"本体) 　　　　　　　　　 1600×2500×1...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

高粘度フォトレジスト対応！密閉式自動レジスト塗布装置（コーター）

高粘度フォトレジスト塗布に自信があります！10000cPのポリイミドで…

【主な仕様】 ■カセットステージ：2組 ■スピン塗布ユニット：2組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■レジスト滴下ノズル：2組 ■ベークユニット：2組（Max200℃） ■クーリングユニット：1組 ■センタリングユニット：1組 ■装置サイズ：（例）1200×1000×1800(Φ4"本体) 　　　　　　　...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ