• 【納入事例】X線計測実験真空容器用高真空排気システム 製品画像

    【納入事例】X線計測実験真空容器用高真空排気システム

    PRドライ真空ポンプは排気流路に油を用いず、オイルフリーでクリーンな排気を…

    関西光量子科学研究所(木津)に、「X線計測実験真空容器用高真空排気 システム」を納入した事例をご紹介いたします。 本排気ユニットは、真空容器に直接取り付けられる300L/sクラスの磁気軸受形 ターボ分子ポンプTG390Mと、ピラニ型と冷陰極電離真空計の複合型真空計、 そしてそれらのコントローラと補助ポンプ等を載せたカートから成ります。 真空容器に取り付けるターボ分子ポンプは磁気軸...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社大阪真空機器製作所

  • 基板修理サービス『ヨミガエル』<現物さえあればOK> 製品画像

    基板修理サービス『ヨミガエル』<現物さえあればOK>

    PR原則成功報酬&見積もり無料で安心。機械・装置の更新コストを削減!復刻や…

    設備はまだ使用できるのに、故障してしまった基板等が手に入らず、 泣く泣く設備更新をした経験はございませんか? 当社では、故障した基板を解析・診断して修理を行い、 故障したICを交換、基板上の腐食、焼損、劣化、断線などを修復する、 基板修理サービス『ヨミガエル』を提供しています。 メーカーサポート終了品、海外メーカー製品、回路図や仕様書がない製品にも対応。 設備の故障や部品の生産...

    メーカー・取り扱い企業: 千代田交易株式会社

  • アニール炉『ANNEALウエハーアニール装置』 製品画像

    アニール炉『ANNEALウエハーアニール装置』

    Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板…

    3系統マスフローコントローラ(オプション) ◉ 7"HMIタッチパネル ◉ 高精度ワイドレンジ真空ゲージ 10-9〜1000mbar ◉ USB端子付、PCデータロギング機能 ◉ ターボ分子ポンプ:EXT75DX(Edwards社) ◉ ロータリーポンプ:RV3/RV8(Edwards社)(*ドライポンプへの変更可能) ◉ Kタイプ熱電対(ヒーター制御用)付属...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S060】 製品画像

    多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S060】

    コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

    00x400mm フロントローディングチャンバー *ラージチャンバーオプションMiniLab-070(450 x 450 x 450)有り ・最大基板サイズ:Φ8inch ・ポンプ:ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ(ドライポンプ可) ・真空排気:真空/ベント自動制御 ・抵抗加熱蒸着:最大4源点(Model. TE1~TE4蒸着源) ・有機蒸着:最大4源(Model. LTEC-1...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • スパッタリング装置『MiniLab-060』 製品画像

    スパッタリング装置『MiniLab-060』

    蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…

    ・SUS304 60ℓ容積 400x400x400mm フロントローディングチャンバー *ラージチャンバーオプションMiniLab-070(450 x 450 x 450) ・ポンプ:ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ(ドライポンプも可) ・最大基板サイズ:Φ8inch ・真空排気:真空/ベント自動制御 ・抵抗加熱蒸着:最大4源(Model. TE1~TE4蒸着源) ・有機蒸着:最...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 真空蒸着装置『MiniLab-090』(グローブボックス用) 製品画像

    真空蒸着装置『MiniLab-090』(グローブボックス用)

    グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…

    【主仕様】 ・最大基板サイズ:Φ10inch ・SUS304 80ℓ容積 400x400x570mm フロントローディングチャンバー ・ポンプ:ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ(ドライポンプも可) ・真空排気:真空/ベント自動制御 ・抵抗加熱蒸着:最大4源(Model. TE1~TE4蒸着源) ・有機蒸着:最大4源(Model. LTEC-1...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • スパッタリング装置『MiniLab-026』 製品画像

    スパッタリング装置『MiniLab-026』

    小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

    inchシングル式ラックに全てを収納 ◉ 抵抗加熱蒸着源(最大4源)、有機蒸着源(最大4源)、又はΦ2"マグネトロン(最大3基)、基板加熱ステージなどを搭載 ◉ 高精度膜厚制御 ◉ ターボ分子ポンプ+ロータリーポンプ(ドライポンプオプション) ◉ グローブボックス連結仕様(*要仕様協議) ◉ 豊富なオプション:基板加熱/冷却, 回転, 特型基板ホルダ, etc.. *その他のMi...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 高真空蒸着装置『RD-1230』 製品画像

    高真空蒸着装置『RD-1230』

    サイリスタ制御により蒸着電圧及び、電流値の調整が可能!排気操作は全自動…

    -1230』は、ぺロブスカイト太陽電池電極作成用 小型蒸着装置です。 抵抗加熱機構を2対装備しており、サイリスタ制御により蒸着電圧及び、 電流値の調整が可能です。 排気系はターボ分子ポンプによる排気で、排気操作は全自動。 水晶振動式膜厚計もオプションで付けることができ、卓上型タイプとしては 高性能な成膜制御が可能です。 【特長】 ■ロブスカイト太陽電池電極作成用小...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社サンバック 本社

  • 【MiniLab-026/090】グローブボックス薄膜実験装置 製品画像

    【MiniLab-026/090】グローブボックス薄膜実験装置

    小型・省スペース! 有機薄膜開発に好適 蒸着・スパッタ・アニール等全て…

    ・抵抗加熱蒸着源(最大4源) ・有機蒸着源(最大4源) ・Φ2"マグネトロンカソード(最大3基) ・プラズマエッチング ・基板加熱ステージなどを搭載 ◉ 高精度膜厚制御 ◉ ターボ分子ポンプ+ロータリーポンプ(ドライスクロールポンプオプション) ◉ その他豊富なオプション *その他の詳細仕様は当社へお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • コンパクトコーター「SVC-700TMSG/Adexcel」 製品画像

    コンパクトコーター「SVC-700TMSG/Adexcel」

    ターゲットは3種類同時に装着可能!多層膜を作製することが可能です。

    試料選択:ステージ回転式 ○ターゲット/試料間(TS)距離:20mm、30mm、40mm ○ターゲット選択:シャッター方式 ○給電方式:単独給電切替式(電源パネル操作) ○排気系:ターボ分子ポンプ(TMP) 67L/s(N2)、油回転ポンプ(RP) 20L/min ○到達真空度:1×10⁻³Pa以下 ○真空度測定:コンビネーション型真空計(電離真空計+ピラニー真空計) ●詳しく...

    メーカー・取り扱い企業: サンユー電子株式会社

  • ECRプラズマ成膜装置『AFTEX-6000シリーズ』 製品画像

    ECRプラズマ成膜装置『AFTEX-6000シリーズ』

    複数材料の多層膜が成膜可能!高品質・高結晶性の薄膜形成ができる成膜装置…

    【主な仕様】 ■到達圧力 ・処理室:3x10-5Pa以下 ・ロードロック室:3x10-4Pa以下 ■真空排気系 ・成膜室:ターボ分子ポンプ 1000l/sec ・ロードロック室:ターボ分子ポンプ ■成膜室 ・スパッタ源:ECR 2式、マグネトロン 2式(オプション) ・基板ホルダ:平板状ステップ回転、基板サイズ max.3...

    メーカー・取り扱い企業: JSWアフティ株式会社

  • 簡易実験用スパッタリング装置(SRV3100型) 製品画像

    簡易実験用スパッタリング装置(SRV3100型)

    小径基板専用のコンパクトタイプスパッタリング装置 全手動操作で低コスト…

    ポンプ&油回転ポンプ 操作系:全手動 オプション機構 磁性材用カソード コンベンショナルカソード DCバイアス 逆スパッタ機構 バイアススパッタ機構 基板高温加熱 主ポンプ変更(ターボ分子ポンプ採用) 全自動化 ...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】 製品画像

    スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】

    スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置 コンパクトフレームに…

    スパッタカソード + 有機蒸着源x2 3. スパッタカソード + 抵抗加熱源x1 + 有機蒸着源x1(*DCスパッタのみ) ・蒸着範囲:Φ4inch/Φ100mm ・真空排気系:ターボ分子ポンプ + 補助ポンプ(ロータリー、又はドライスクロールポンプ) ・基板回転、上下昇降ステージ ・Max500℃基板加熱ヒーター ・水晶振動子膜厚センサー ・7”タッチパネルHMI操作(’In...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 高真空蒸着装置『KW-030D』 製品画像

    高真空蒸着装置『KW-030D』

    水晶振動式膜厚モニター搭載!コンパクト設計でクリーンな成膜が可能

    『KW-030D』は、小規模生産用及び各研究機関の実験用として、コンパクト 設計により初心者でも容易に作業ができる高真空蒸着装置です。 ターボ分子ポンプを搭載することにより、高真空での成膜が可能。 また、基板傾斜機構も搭載し、2軸の回転角度を調節することにより 斜め蒸着ができます。 【特長】 ■初心者でも容易に作業可能 ■ター...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社片桐エンジニアリング

  • 大型真空オーブン 製品画像

    大型真空オーブン

     高真空でも大気圧でも均一加熱、安定加熱 乾燥・脱ガス・ベーキング・ア…

    600mm□×600mmH/バッチの大量バッチ処理 炉内全面ヒーターの均一加熱 ドライポンプ+ターボ分子ポンプの完全ドライ排気系 高真空・低真空・大気圧の各圧力下での加熱処理対応 基板と目的に合わせて排気系・ガス系・処理温度・炉内構造・治具選択可能 ...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • 研究開発用スパッタリング装置 製品画像

    研究開発用スパッタリング装置

    コンパクト・ローコスト・充実機能、研究開発用ローコストスパッタリング装…

    標準仕様 4インチカソード3元装備による多層成膜 ターボ分子ポンプ+油回転ポンプの高速排気 逆スパッタと基板加熱機構の標準装備による高い膜質の実現 1m□のコンパクトな筐体に多機能を実現 上位機種の各部ユニットを搭載可能...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • ◆nanoPVD-T15A◆ 高性能 有機膜・金属膜蒸着装置 製品画像

    ◆nanoPVD-T15A◆ 高性能 有機膜・金属膜蒸着装置

    限られたラボスペースを有効活用できる小型ベンチトップサイズ装置に、最新…

    ◉寸法:804(W) x 530(D) x 600(H)mm ◉重量:40kg〜70kg(装置構成による) ◉優れた基本性能 ・到達真空度 5x10-5Pascal ・高性能ターボ分子ポンプ搭載 ・〜Φ4inch基板 ◉蒸着源 ・金属蒸着源 TE x 最大2基 ・有機蒸着源 LTE x 最大4基(抵抗加熱TEと混在の場合、2基まで) ◉7"タッチパネル ◉連続成膜 ・...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • スパッタ・蒸着源複合型 薄膜装置 【nanoPVD-ST15A】 製品画像

    スパッタ・蒸着源複合型 薄膜装置 【nanoPVD-ST15A】

    真空蒸着(金属・有機蒸着源)、スパッタリングカソードの混在設置が可能な…

    有機蒸着源(最大2) ◆基板サイズ◆ ・〜Φ4inch/Φ100mm基板ホルダー(特注ホルダー 応相談) ◆膜厚センサー◆】 ・水晶振動子膜厚センサー x 1 ◆真空排気◆ ・ターボ分子ポンプ、ロータリーポンプ ◆付属ソフトウエア◆ ・IntelliLink Windows PCリモート監視ソフトウエア ◆オプション◆ ・基板加熱ヒーター Max500℃ ・ドライスクロール...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 固体ソースECRプラズマ成膜装置『AFTEX-8000シリーズ』 製品画像

    固体ソースECRプラズマ成膜装置『AFTEX-8000シリーズ』

    均一性に優れた多層膜を形成できる!全自動多層膜形成装置

    ■到達圧力 プロセスモジュール: < 3×10-5Pa トランスファー室: < 3×10-4Pa ロードロック室: < 3×10-4Pa ■真空排気系 プロセスモジュール: ターボ分子ポンプ 1300L/sec ドライポンプ: 600L/min トランスファー室: TMP 820L/sec ドライポンプ: 500L/min ロードロック室: TMP 350L/sec ドラ...

    メーカー・取り扱い企業: JSWアフティ株式会社

  • 【MiniLab-SA125A】 多元マルチスパッタ装置 製品画像

    【MiniLab-SA125A】 多元マルチスパッタ装置

    高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ(Φ4inch用)…

    "(最大6)、Φ3"(最大4) ・プラズマ電源:RF150W, 300W, DC850W, HiPIMS 5KW ・MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング ・ターボ分子ポンプ + ドライスクロールポンプ ・メインチャンバー RIEエッチングステージRF300W ・LLチャンバー <30W 低出力制御*ソフトエッチング *独自の"Soft-Etching"技術で...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 化合物半導体プロセス用 ICPエッチング装置 製品画像

    化合物半導体プロセス用 ICPエッチング装置

    化合物半導体プロセス用 ICPエッチング装置

    チングが可能 ○低バイアス(-100V以下)での低ダメージプロセスが可能 ○基板ステージおよび反応室内壁の温度制御により、安定した条件での  エッチングが可能 ○ロードロック室にもターボ分子ポンプを採用し、より安定したプロセスを提供...

    メーカー・取り扱い企業: サムコ株式会社

  • 半導体製造装置の周辺機器の修理、改善サービス 製品画像

    半導体製造装置の周辺機器の修理、改善サービス

    高周波電源、搬送ロボットや、RFマッチングボックスなどを修理、改善、オ…

    【その他の掲載内容】 ■輸送ロボットの修理 ■スリットバルブの修理 ■O3ジェネレーター修理 ■サーキュレータポンプの修理 ■マスフローコントローラの修理 ■ターボ分子ポンプの修理 ■サーキュレターポンプの修理 ■マスフローコントローラーの修理 ■ポンプの修理&オーバーホール ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: アローズエンジニアリング株式会社

  • TCF-C500 超高温小型実験炉Max2900℃  製品画像

    TCF-C500 超高温小型実験炉Max2900℃

    コンパクト・省スペース・省エネルギー! 高性能 R&D用超高温実験炉

    200V 75A NFB 50/60HZ(C-500) ・Max2900℃(カーボン炉)、2400℃(メタル炉)、 ・プログラム温度調節計、C熱電対 ◆オプション◆ ・記録計 ・ターボ分子ポンプ ・るつぼ ◆主なアプリケーション◆ ・新素材開発 ・燃料電池 ・その他...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 横型水素アニール装置(可変雰囲気熱処理装置) 製品画像

    横型水素アニール装置(可変雰囲気熱処理装置)

    小径ウェハ(4インチ)や化合物半導体のニッチプロセスに対応。結晶プロセ…

    横型石英管タイプのホットウォール型の専用アニール装置。 ターボ分子ポンプとドライ真空ポンプによるクリーンバキューム&大気圧水素雰囲気による高純度還元熱処理を実現。 石英管急冷機構を標準装備。短タクト処理を実現。 拡張機能により6インチウェハまで対応。 水素雰囲...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • 卓上型マグネトロンスパッタ装置『FDS/FRSシリーズ』 製品画像

    卓上型マグネトロンスパッタ装置『FDS/FRSシリーズ』

    初期導入コストを抑え、拡張で高性能化が可能!研究ステージに合せてグレー…

    た研究開発用の 卓上型マグネトロンスパッタ装置です。 基本仕様は、DCスパッタ/シングルカソード/ロータリーポンプで 構成される金属薄膜用スパッタ。 RF化、カソード増設、ターボ分子ポンプ仕様などの 拡張オプションにより、研究ステージに合せて グレードアップしていただくことが可能です。 【特長】 ■初期導入コストを抑え、後の拡張で高性能化が可能 ■基本仕様でアルゴン...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社FKDファクトリ

  • 幅広ロールコーター『FRC-500VT』 製品画像

    幅広ロールコーター『FRC-500VT』

    幅600mmまで対応!フィルムにスパッタにより成膜するウェブコーター

    ×D800 前面開閉扉 ○機材送り機構 →回転速度可変用サーボモーター →巻き取り用パウダークラッチ及びレバシブルモーター →真空シール回転導入部(磁気シール式) ○排気系 →ターボ分子ポンプ:2400L/sec(N2) →ロータリーポンプ:1200L/min ○ガス導入系:マスフローコントローラー O₂、Ar、N₂ ○操作:操作、設定はタッチパネルで行う ○装置寸法(専有面...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社富士アールアンドディー

  • ロードロック方式スパッタリング装置 「SPH-2500-II」 製品画像

    ロードロック方式スパッタリング装置 「SPH-2500-II」

    膜厚分布:トレー内 ±1.2%、トレー間 ±1.5%を達成しました。

    ○DC電源 800V、3.75A (MAX1.5kW) ○トレイサイズ L350mm×H210mm ○基板搬送方式 ラック&ピニオン搬送 ○ストッカー 10トレイ収納 ○排気系 ターボ分子ポンプ 2式/油回転ポンプ 2式 【性能】 ○膜厚分布 トレイ内 ±1.2% トレイ間 ±1.5% ○ターゲット使用効率 44%(最大) ○タクト 3分/サイクル  ※1枚目を除く ○到...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社昭和真空

  • 多源同時マグネトロンスパッタ装置『FRS-HGシリーズ』 製品画像

    多源同時マグネトロンスパッタ装置『FRS-HGシリーズ』

    放電操作が容易!RF電源にオートマッチングを採用したコンパクトな設計

    マッチング仕様 ■カソード:φ2インチ/マグネトロンカソード ■適用ターゲット:Au/Ag/Pt/Pd/Ni/Cu/W/Cr/Ti/Ta/Mo/各種酸化物/各種窒化物 ■真空排気系:ターボ分子ポンプ+ロータリーポンプ ■真空計:フルレンジゲージ ■ガス流量調整:アルゴン用MFC 50sccm ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社FKDファクトリ

  • 卓上型蒸着装置『Mebius』 製品画像

    卓上型蒸着装置『Mebius』

    卓上で簡単に使えるコンパクトな蒸着装置

    100V壁コンセントから導入が可能。 チャンバは分割方式により多くの用途に応じたサブチャンバを 搭載可能です。 【概要】 ■蒸発源はタングステンボート2個搭載 ■排気系はターボ分子ポンプ、電磁フォアバルブ、油回転ポンプの組合せ ■操作不要のマルチ真空ゲージ採用により、大気圧から高真空まで連続した  圧力表示が可能 ■マグネット駆動式基板シャッタ装備 ■停電時は装置動作自...

    メーカー・取り扱い企業: テクノウェーブ株式会社

  • 卓上型蒸着装置『Meius Light』 製品画像

    卓上型蒸着装置『Meius Light』

    学生向けの実験や教材作りに!卓上で簡単に使えるコンパクトな蒸着装置

    バを搭載可能。 【特長】 ■卓上で簡単に使えるコンパクトサイズ ■蒸発源はタングステンボート2個搭載 ■マグネット駆動式基板シャッタ装備 ■非常停止スイッチ装備 ■排気系はターボ分子ポンプ、電磁フォアバルブ、油回転ポンプの組合わせ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: テクノウェーブ株式会社

  • 電子ビーム蒸着装置 製品画像

    電子ビーム蒸着装置

    ヤシマの電子ビーム蒸着装置はすべてカスタムオーダー。ムダなく、将来の拡…

    写真の基本仕様 4元電子ビーム蒸着装置 電源 3KW 排気系 ターボ分子ポンプ+ロータリポンプ ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ヤシマ

  • APIEZON アピエゾン 真空グリース 製品画像

    APIEZON アピエゾン 真空グリース

    Apiezon(アピエゾン)製品の正規代理店です。高性能真空グリースの…

    分子蒸留技術によって特別に作られたApiezonグリースは、熱伝導率が高く、高温環境下でも安定して動作します。また、非常に高い真空下でも優れた潤滑性能を発揮します。 このグリースは、真空ポンプ、半導体製造装置、航空宇宙機器、およびその他の高真空環境下で使用される様々な機器で広く使用されています。 使用温度によって対応する各種のグリースがあり、いずれも科学的に安定しています。蒸気圧が非常に低く純...

    メーカー・取り扱い企業: エドワーズ株式会社

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