• 【特許技術】静音性に優れた「完全回転バランス型シリンダ装置」 製品画像

    【特許技術】静音性に優れた「完全回転バランス型シリンダ装置」

    PRシリンダの小型化/静音化でお悩みの方必見。機械的損失を大幅に抑えた高効…

    完全回転バランス型シリンダ装置は、従来のレシプロ方式で生ずるピストン往復運動による機械的損失がありません。 <完全回転バランス型シリンダ装置の特長> ■従来のピストン運動によるエネルギー損失がありません ■水・オイル無しでの稼働を実現 ■レシプロ方式で見られる振動騒音をおさえました 【応用分野】 ■空圧コンプレッサー(エアコン、冷蔵庫等) ■真空ポンプ ■気体・液体等の流体移送ポンプ ■気体圧...

    メーカー・取り扱い企業: 有限会社ケイ・アール・アンド・ディ (K.R&D)

  • 新製品 二液混合ディスペンサー 「ID-200R」 製品画像

    新製品 二液混合ディスペンサー 「ID-200R」

    PR2液混合に必要とされる機能が充実した2液混合ディスペンサー 吐出量、混…

    定量安定性のあるMGPマイクロギヤポンプを、5相ステッピングモーターで駆動し、2液吐出用に専用設計された 制御部によって高精度な混合吐出を実現した2液用ディスペンサ-です。 混合部ローターの形状や容積、回転数などから、最適な条件を選べるカートリッジ方式強制混合タイプミキサーです。 本装置は微少量吐出が要求される2液性接着剤等のシール工程などに適しています。 特長 取り込んだポンプの基礎データを基に...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社日本省力技術研究所 

  • コンタミ・メンテ・振動を最小化 ベアリングレス磁気浮上遠心ポンプ 製品画像

    コンタミ・メンテ・振動を最小化 ベアリングレス磁気浮上遠心ポンプ

    【国内正規代理店】LEVITRONIXベアリングレスポンプ 先端プロ…

    高性能な3つの“Minimal(最小化)”を実現! “Minimal” コンタミネーション 接液部に発塵元となるベアリング・軸受・開閉バルブなどの部品を持たない非接触型構造となっています。そのため、ポンプ起因のコンタミネーションの心配がありません。 また、インペラとケース材料には、耐薬液性の高純度フッ素樹脂を使用しており汚染の心配もありません。構造的に、コンタミネーションリスクが最小限に...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社SCREENファインテックソリューションズ

  • 平面研削機 オートロンミニ1型 自動立軸平面研削 学術・研究向け 製品画像

    平面研削機 オートロンミニ1型 自動立軸平面研削 学術・研究向け

    小型の自動立軸平面研削機として開発、材料特性に合わせて主軸回転数、切込…

    材料特性に合わせて主軸回転数、切込量、送り速度の選定が幅広くできます。 ■ 材料特性に合わせて主軸回転数、切込量、送り速度の選定が   幅広くできる ■ 砥石軸の設定切込量が0.1μm/passより任意に選定でき、   自動定寸加工が可能 ■ テーブル移動の左右端で自動的に設定量分を切込み、   加工能率の向上が実現...■主電動機   三相200V 0.75kW ■テーブル左右送り   ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社マルトー 本社

  • 卓上平面研削機 テクノラップ、テクノラップステップオート 研究用 製品画像

    卓上平面研削機 テクノラップ、テクノラップステップオート 研究用

    教育機関、研究室・実験室向けに小型化した立軸平面研削機。カップ型ホイー…

    教育機関、研究室・実験室向けの小型卓上平面研削機 ■主軸回転数は無段変速、試料の加工特性に合わせて回転数が調整可 ■研削切込量が最少0.01mm(ステップオートは0.001mm)から設定可能で試料外周部のダレを低減し高精度な平面を実現 ■テーブル送りは自動、送り速度も無段変速式 ■金属マウント台(高平行精度)をマグネットクランプにセットする方式で試料の脱着は容易 ■カップホイールを装着...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社マルトー 本社

  • 容積計量チューブポンプ式ディスペンサー『TME』 製品画像

    容積計量チューブポンプ式ディスペンサー『TME』

    チューブポンプのイメージを一新するチューブポンプディスペンサー。 微少…

    『TME』はいままで微量吐出には不向き、チューブ交換時の吐出量調整が難しいといったチューブポンプのイメージを一新します。 独自のカム動作を高精度小型DDモーターで低速回転から高速回転で制御します。 1ショットの吐出量はマイクロメータによりチューブ内容積を変更することで調整できます。 独自のチューブ固定方式によりセット時のばらつきがありません。 微細テフロンチューブを使用して瞬間接着剤の微少量吐出...

    メーカー・取り扱い企業: ESER Corporation-Japan(イーサージャパン) さいたまラボ

  • 超高速回転スピンコーター『ACT-200SM-S』 製品画像

    超高速回転スピンコーター『ACT-200SM-S』

    スピード重視ならMAX6万rpmの超高速回転!スピンコート機ACT-2…

    『ACT-200SM-S』は、1,000~60,000rpm±1%以下(試料台Φ20実績値)の超高速回転が可能な卓上型スピンコーターです。 薬液の揮発性が高くスピード重視、粘性が高めでより強いスピンが必要、さっと広げてごく薄い膜を得たい・・・そのような課題をお持ちであれば是非超高速回転による遠心力をご検討ください。 基板サイズΦ3~Φ50mmに対応し、基板の保持方法は両面テープやピン保...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社アクティブ

  • 真空排気装置(真空ポンプユニット) 製品画像

    真空排気装置(真空ポンプユニット)

    実績と信頼の排気系ユニット。単一のポンプでは困難な用途に対応。目的に合…

    信頼性と目的にあわせた個別設計が特徴の真空ポンプユニット 大容量と堅牢性が特徴の油回転ポンプ・水封式真空ポンプ・ドライ真空ポンプ・メカニカルブースタを組合せ専用排気装置を個別設計・製作 メカニカルブースタ多段化・封液循環ユニット・ダストフィルタ・圧力制御機構など豊富なオプションで幅広...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • 磁気浮上型インテグレーテッドポンプ BPS-i100 製品画像

    磁気浮上型インテグレーテッドポンプ BPS-i100

    Compact & Resonable for Highend Pro…

    モータ・コントローラ一体型BPS-i100ポンプシステムは消耗品となる軸受やシールを使わない革新的な遠心ポンプです。 磁気浮上の原理に基づいて、ポンプのインペラは密閉されたポンプケーシングの中で非接触に浮上し、モータの回転磁界によって駆動されます。 インペラとポンプケーシングは、共に耐薬液性の高純度フッ素樹脂で造られています。これらはロ-タ磁石とともにポンプヘッドを構成しています。 コントロ...

    メーカー・取り扱い企業: Levitronix Japan株式会社

  • 多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S060】 製品画像

    多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S060】

    コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

    Φ2inchカソード x 4基搭載 同時成膜:3元同時成膜(RF500W or DC850W)+ HiPIMS(PulseDC 5KW) x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF300W(メインチャンバー) + <30Wソフトエッチング(LLチャ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 厚膜塗布に高粘度専用スピンコーター!自動ポリイミド塗布装置 製品画像

    厚膜塗布に高粘度専用スピンコーター!自動ポリイミド塗布装置

    ~10000cP程度の高粘度ポリイミドを均一に塗布する高粘度専用スピン…

    【特徴】 ・高価な薬液の吐出量を高精度ポンプにて制御 ・均一良く塗るためのカップ構造(密閉式、回転カップ式) ・少量で塗り広げるプロセスのノウハウ ・少量生産に対応したシリンダ対応ディスペンサーも搭載可能(オプション) ・高粘度材料で難しいEBR(エッジリンス)機能 高粘度ポリイミドをスピン塗布する装置です。高粘度対応ポンプ及び、薬液温調システムを搭載し、高粘度ポリイミドをムラ無く...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

  • スパッタリング装置『MiniLab-026』 製品画像

    スパッタリング装置『MiniLab-026』

    小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

    必要最小限のモジュール・コントローラをPlug&Play感覚で19"コンパクトラックに組込む事により無駄が無く、小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。 マグネトロンスパッタ(最大3源)もしくは抵抗加熱蒸着(金属源 最大4、有機材料x4)に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、プラズマエッチングも製作可能。 グローブ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 4軸同時駆動スピンコーター『ACT-220AII-4axis』 製品画像

    4軸同時駆動スピンコーター『ACT-220AII-4axis』

    生産性UP! 4軸同時駆動の卓上型スピンコート機ACT-220AII-…

    4軸同時駆動の卓上型スピンコート機『ACT-220AII-4axis』のご紹介です。 2軸、3軸、4軸同時処理(起動)が可能で、枚様式でありながら4枚同時にスピンコートできます。 処理する基板が小型(丸基板の場合はφ100、四角基板の場合は□70mmまで)の場合は是非ご検討下さい。 1分間の回転数を0~6000の範囲で設定でき、その精度は±1rpm以下ととても良いです。1ステップ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社アクティブ

  • 自立型スピンコーター(スピンコート機)『ACT-700AII』 製品画像

    自立型スピンコーター(スピンコート機)『ACT-700AII』

    □360mm、20インチ基板まで対応の自立型スピンコート機ACT-70…

    アクティブの『自立型スピンコーターACT-700AII』はφ500mm基板まで対応する汎用性の高い手動滴下用の装置です。 1分間の回転数を0~3000の範囲で設定でき、その精度は±2rpm以下ととても良いです。1ステップの動作に「回転数」「加減速時間」「キープ時間」を同時に設定することができ、10ステップ100パターンのプログラム(事前連絡で、20ステップ50パターン、50ステップ20パター...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社アクティブ

  • 磁気浮上型ベアリングレスポンプ BPS-2000 製品画像

    磁気浮上型ベアリングレスポンプ BPS-2000

    寿命がある軸受や摩耗するシールを使わない、革新的な磁気浮上式遠心ポンプ…

    BPS-2000ポンプシステムは消耗品となる軸受やシールを使わない革新的な遠心ポンプです。 磁気浮上の原理に基づいて、ポンプのインペラは密閉されたポンプケーシングの中で非接触に浮上し、モータの回転磁界によって駆動されます。 インペラとポンプケーシングは、共に耐薬液性の高純度フッ素樹脂で造られています。これらはロ-タ磁石とともにポンプヘッドを構成しています。 電子的にロータ回転数を制御するの...

    メーカー・取り扱い企業: Levitronix Japan株式会社

  • 超小型スピンコーター SC-155G 製品画像

    超小型スピンコーター SC-155G

    グローブボックス内でも邪魔にならない 超小型のスピンコーター

    外形寸法 W195mmxD195mmxH195mmで グローブボックスのパスボックスも通るサイズです。 スピンコーターの基本性能は維持しており、 カップ内径も150mmあるので、□70mmまでの試料を処理できます。 ...*試料サイズ :10~70mm角 *試料台    :1個付属 デルリン製(その他希望に応じます) *回転制御 :DCモーター使用 *回転段数 :2段階、タイマーデジ...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社イーエッチシー

  • 高温用磁気浮上型ベアリングレスポンプ BPS-4H 製品画像

    高温用磁気浮上型ベアリングレスポンプ BPS-4H

    Better Pumps for Better Yields !

    BPS-4Hポンプシステムは消耗品となる軸受やシールを使わない革新的な遠心ポンプです。 磁気浮上の原理に基づいて、ポンプのインペラは密閉されたポンプケーシングの中で非接触に浮上し、モータの回転磁界によって駆動されます。 インペラとポンプケーシングは、共に耐薬液性の高純度フッ素樹脂で造られています。これらはロ-タ磁石とともにポンプヘッドを構成しています。 電子的にロータ回転数を制御するので、...

    メーカー・取り扱い企業: Levitronix Japan株式会社

  • スパッタリング装置『nanoPVD-S10A』 製品画像

    スパッタリング装置『nanoPVD-S10A』

    高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

    高機能 ハイパフォーマンス RF/DCマグネトロンスパッタリング装置 ● 到達圧力5 x 10-5Pa(*1x10-4Paまで最速30分!) ● スパッタ源 x 3:連続多層膜膜制御, 同時成膜 ● 膜均一性±3% ● 多彩なオプション:上下・回転、ヒータ、磁性材用カソード、他 ◉ nanoPVDは、最大スパッタ源3源+3系統(MFC制御)、RF/DC PSUの増設(最大2電源まで)...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • コンパクトコーター「SVC-700TMSG/Adexcel」 製品画像

    コンパクトコーター「SVC-700TMSG/Adexcel」

    ターゲットは3種類同時に装着可能!多層膜を作製することが可能です。

    料間(TS)距離:20mm、30mm、40mm ○ターゲット選択:シャッター方式 ○給電方式:単独給電切替式(電源パネル操作) ○排気系:ターボ分子ポンプ(TMP) 67L/s(N2)、油回転ポンプ(RP) 20L/min ○到達真空度:1×10⁻³Pa以下 ○真空度測定:コンビネーション型真空計(電離真空計+ピラニー真空計) ●詳しくはお問い合わせください。...

    メーカー・取り扱い企業: サンユー電子株式会社

  • 親水・洗浄・密着強化『回転式真空プラズマ装置』 製品画像

    親水・洗浄・密着強化『回転式真空プラズマ装置』

    乾式で『粉体や固体全面』の『表面改質(親水・洗浄・密着強化)』を一括処…

    『粉体や固体全面』など様々な材料の『親水化』『洗浄』『密着強化』などプラズマの持つ高い反応性を利用し、多岐にわたる表面処理用途にご活用頂ける回転式真空プラズマ装置! 通常のプラズマ装置はサンプルとプラズマが触れていない底面などの接触部分は処理できず裏返す工程が必要となっていました。 本製品はチャンバーが回転する事によりサンプル全面に均一なプラズマ処理一括処理する事ができます。 【特徴】 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社魁半導体

  • スパッタリング装置『MiniLab-060』 製品画像

    スパッタリング装置『MiniLab-060』

    蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…

    コンパクト/省スペース、ハイスペック薄膜実験装置 下記蒸着源から組合せが可能 ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4 ・有機蒸着源 x 最大4 ・電子ビーム蒸着 ・2inchスパッタリングカソード x 4(又は3inch x 3, 4inch x 2) ・プラズマエッチング:メインチャンバー、ロードロックチャンバーのいずれでも設置可能 【スモールフットプリント・省スペース】 ・デュア...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 真空蒸着装置『MiniLab-090』(グローブボックス用) 製品画像

    真空蒸着装置『MiniLab-090』(グローブボックス用)

    グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…

    80ℓ大容積MiniLab-080チャンバーをグローブボックスベンチ内に収納可能な構造にしたMiniLab-080のグローブボックスモデル。作業ベンチを最大限活用できるスライド開閉式チャンバー、メンテナンス性を考慮した背面開閉ドアを採用。プロセス処理後の試料を大気・水分に露出せずグローブボックス内の管理された環境内で一貫した処理ができます。GB, ガス精製機はGBモデルの仕様を参照下さい。 ◉ ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 卓上式マニュアルスピンナー 製品画像

    卓上式マニュアルスピンナー

    シンプルデザインの卓上式マニュアルスピンナー

    ◆シンプルデザイン、コストパフォーマンス ======================================== <仕 様> 試料サイズ…Φ2インチ 〜 Φ6インチ カップ径…Φ300mm 回転範囲…100〜5000rpm 回転精度…±1rpm スピンドルモータ…ACサーボモーター 回転表示…デジタル 回転数設定…液晶タッチパネル レシピ設定…10プログラム×50パタ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社トービ

  • 高周波レーザーCVD装置 製品画像

    高周波レーザーCVD装置

    簡単に試料セットする事が可能!外部ビューポートよりYAGレーザーを入射…

    当製品は、高周波加熱コイルの中心に試料ステージ(自動回転機構付き)があり、 外部ビューポートよりYAGレーザーを入射し成膜ができるCVD装置です。 サンプル導入口はチャンバー側面で、両側開閉可能。 簡単に試料セットする事ができます。 オプションでチャンバー上部にガス供給系(最大5系統)を設置する事も可能です。 【特長】 ■外部ビューポートよりYAGレーザーを入射し成膜ができ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

  • 簡易実験用スパッタリング装置(SRV3100型) 製品画像

    簡易実験用スパッタリング装置(SRV3100型)

    小径基板専用のコンパクトタイプスパッタリング装置 全手動操作で低コスト…

    成膜系:φ3インチカソード 1元装備    :高周波電源     1源装備     :基板加熱機構標準装備    :排気系 拡散ポンプ&油回転ポンプ 操作系:全手動 オプション機構 磁性材用カソード コンベンショナルカソード DCバイアス 逆スパッタ機構 バイアススパッタ機構 基板高温加熱 主ポンプ変更(ターボ分子ポンプ採用) ...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】 製品画像

    スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】

    スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置 コンパクトフレームに…

    抵抗加熱蒸着源(金属蒸着)、有機蒸着源(有機材料)、マグネトロンスパッタ(金属・絶縁材)、3種類の成膜コンポーネントをチャンバー内に設置、様々な薄膜実験装置に1チャンバーで対応が可能です。 ◉組み合わせは3種類 1. スパッタカソード + 抵抗加熱蒸着源x2 2. スパッタカソード + 有機蒸着源x2 3. スパッタカソード + 抵抗加熱源x1 + 有機蒸着源x1(*DCスパッタのみ) ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 幅広ロールコーター『FRC-500VT』 製品画像

    幅広ロールコーター『FRC-500VT』

    幅600mmまで対応!フィルムにスパッタにより成膜するウェブコーター

    『FRC-500VT』は、幅600ミリまで対応のウェブコーターです。 PET等のフィルムにスパッタにより成膜します。 巻き上げはフィードバック制御です。 ロールコーターは複数台納入し、ご好評頂いております。 その他スパッタリグ装置も多数手掛けております。 カソード用マグネットからターゲットの手配まで全てお任せください。 【特長】 ○セッティング性に優れている ○サーボによる細か...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社富士アールアンドディー

  • 研究開発用スパッタリング装置 製品画像

    研究開発用スパッタリング装置

    コンパクト・ローコスト・充実機能、研究開発用ローコストスパッタリング装…

    標準仕様 4インチカソード3元装備による多層成膜 ターボ分子ポンプ+油回転ポンプの高速排気 逆スパッタと基板加熱機構の標準装備による高い膜質の実現 1m□のコンパクトな筐体に多機能を実現 上位機種の各部ユニットを搭載可能...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • ◆nanoPVD-T15A◆ 高性能 有機膜・金属膜蒸着装置 製品画像

    ◆nanoPVD-T15A◆ 高性能 有機膜・金属膜蒸着装置

    限られたラボスペースを有効活用できる小型ベンチトップサイズ装置に、最新…

    OLED, OPV, OTFT等の有機材料用・温度応答性/安定性に優れた高性能有機ソースLTE(最大4源)、交換・メンテナンスが容易に行える金属蒸着ソースTE(最大2源)を採用、手動運転モードから、自動連続多層膜、同時成膜の自動モードでの運転も可能です。 コンパクトサイズにも関わらず、基本性能・膜質・均一性・操作性の全てを犠牲にせず、スタンドアローン大型機と同様の性能を実現しました。 更に...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • アーク放電型イオンプレーティング装置 「SIA-400T」 製品画像

    アーク放電型イオンプレーティング装置 「SIA-400T」

    ドロップレットを減少させるための蒸発源高速回転機構付です。

    /6.7×10^-3Paまで15分 ○排気操作方法/自動 ○基板加熱/MAX350℃ ○成膜方法/自動 ○成膜速度/2500Å/min(Tin 100A) ○蒸発電源/10kw ○油回転ポンプ/D-950DK ○高真空ポンプ/TS-440 ○所要水量/18ℓ/min ○所要圧空/0.5MPa以上 ○所要電力/27KVA ○床面積本機/約1300W×1000D×2040H ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社昭和真空

  • スピンコーター ACT-300A2 レンタル 製品画像

    スピンコーター ACT-300A2 レンタル

    株式会社リブテラステクノロジーズでは、アクティブ社製スピンコーターほか…

    1週間単位でレンタル可能ですので、必要な期間だけご利用可能です。 突発的なプロジェクトや、共同研究先での利用など必要な時に必要な期間だけすぐにご利用いただけます。 その他レンタル取り扱い機種 スピンコーター ACT-300A2 接触角計 DMs-401 UVオゾン洗浄装置 UVS401Y UVS1101N ハンディタイプUV硬化装置 UVKH2501N...基板サイズ:~Φ150...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社リブテラステクノロジーズ

  • 高真空蒸着装置『RD-1230』 製品画像

    高真空蒸着装置『RD-1230』

    サイリスタ制御により蒸着電圧及び、電流値の調整が可能!排気操作は全自動…

    mH 硬質ガラス ■蒸着機構:抵抗加熱方式 ・AC電源2極(切替式):金属用 ・AC電源:12V0~45A/7V0~80A ■基板形状:□100mm以内ご希望形状 ■真空排気系 ・油回転ポンプ:50L/min[50Hz] ・ターボ分子ポンプ:67L/sec ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社サンバック 本社

  • 大型機・自立型スピンコーター 製品画像

    大型機・自立型スピンコーター

    大型基板にも対応!研究、実験用にも適したアクティブの自立型スピンコータ…

    アクティブのスピンコーターは大型基板にも対応可能です。 対応基板サイズ(カップ径)が大きくなると装置サイズも大きく重くなります。卓上にのせると作業高さが使いにくくなるのもあり、自立型として製作しております。自立型はアジャスターを縮めることでキャスターが接地するので移動も楽です。 対応基板サイズ(カップ径)の小さい卓上型スピンコーター同様、インターロックセンサー付き安全カバー、基板吸着圧...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社アクティブ

  • 自動CMP装置  製品画像

    自動CMP装置

    COF(摩擦係数)やパッド表面温度、研磨液の温度、装置内の室温などをモ…

    【Tribo】 ・400mm径のポリッシングプレートに対応 ・100mm/4インチのポリッシングヘッド x2軸 ・スラリーポンプ2台、酸性スラリーにも対応 ・業界標準のIn-Situダイヤモンドコンディショニング対応 ・装置に内蔵されたタッチパネルPCでコントロール 【Orbis】 ・600mm径のポリッシングプレートに対応 ・200mm/8インチのポリッシングヘッド x2軸 ・スラリーポンプ2...

    メーカー・取り扱い企業: ハイソル株式会社

  • R&D用スパッタ装置 QAMシリーズ 製品画像

    R&D用スパッタ装置 QAMシリーズ

    各種研究開発、材料開発等に幅広く対応できる成膜装置。多様性・拡張性を持…

    各種研究開発、材料開発等の小規模実験用途から要求される様々な機能に対して、アルバックの豊富な成膜技術と経験をもとに、幅広く対応できる低価格のR&D装置。 【特徴】 ○低圧力プロセス ○多元同時/多積層膜スパッタ成膜 ○良好な膜厚分布 ○LTSの採用 ○磁性体薄膜への対応 ○フロントアクセス 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...【成膜室】 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社アルバック/ULVAC, Inc.

  • 卓上精密研磨装置『ALP-250型』 製品画像

    卓上精密研磨装置『ALP-250型』

    卓上機で高精度、高い剛性のフレーム構造!高精密研磨試料の作成を実現しま…

    『ALP-250型』は、半導体デバイス、MEMSデバイス・自動車部品、金属、 塗装、樹脂、セラミックス等、様々な分析・解析等で観察面を作成する為に 設計・作成された研磨装置です。 卓上機で高精度、高い剛性のフレーム構造により、高精密研磨試料の 作成を実現。200rpmの安全で高回転域が可能な為、短時間で自由な研磨が 行えます。 【特長】 ■様々な分析・解析等で観察面を作成する...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社イマハシ製作所 東京営業所

  • 全自動側面荒取専用研磨機『EMS-080II』 製品画像

    全自動側面荒取専用研磨機『EMS-080II』

    小径鋸から大径鋸まで幅広く対応!高い剛性と優れた操作性により、高精度・…

    『EMS-080II』は、高い剛性と操作性の良さを実現した 全自動側面荒取専用研磨機です。 空油変換装置の使用により微小な切込みが可能。 また、中間停止機能(タイマー調整付)を装備し、安定した精度が 得られます。 【特長】 ■小径鋸から大径鋸までワイドな対応 ■鋸の脱着がワンタッチで行える ■全行程タイマー設定で時間調整もラクラク ※詳しくはPDF資料をご覧いただ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社えのきだ

  • ミニスピンコーター(卓上タイプ) 製品画像

    ミニスピンコーター(卓上タイプ)

    業界初!小型コーター 回転数MAX8,000rpm!

    1.小型・軽量 W180×D210×H200mm 約3.5Kg  2.主軸回転数 Max8000rpm  3.ワーク寸法 1インチ・2インチ・50mm□  4.ワーク固定 内蔵真空ポンプによる真空吸引  5.ユーティリティー AC100V 2.0A コンセント ...【製品長所】  1.低価格・短納期 2.業界一省スペース・最軽量  3.高性能、高安定、高機能  4.真空ポンプ内...

    メーカー・取り扱い企業: ブルーオーシャンテクノロジー株式会社

  • 全自動両側面竪型専用研磨機「EF-87」 製品画像

    全自動両側面竪型専用研磨機「EF-87」

    高能率・高品質を実現!剛性と精度を高次元で融合した研磨機

    「EF-87」は、剛性に富み安定した精度、オシレーション機構により優れた面精度が得られる全自動両側面竪型専用研磨機です。 重研削が出来る為、荒取り不要。スイッチ一つで組刃、ポケット送りが出来ます。 研磨位置停止機構の採用で、研磨量の設定やスクイ角設定がスイッチ一つで簡単。切込量の研磨時間も任意に設定出来ます。 オプションにより、オシレーションスピードが可変出来ます。 【特徴】 ○平刃...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社えのきだ

  • ロードロック方式スパッタリング装置 「SPH-2500-II」 製品画像

    ロードロック方式スパッタリング装置 「SPH-2500-II」

    膜厚分布:トレー内 ±1.2%、トレー間 ±1.5%を達成しました。

    V、3.75A (MAX1.5kW) ○トレイサイズ L350mm×H210mm ○基板搬送方式 ラック&ピニオン搬送 ○ストッカー 10トレイ収納 ○排気系 ターボ分子ポンプ 2式/油回転ポンプ 2式 【性能】 ○膜厚分布 トレイ内 ±1.2% トレイ間 ±1.5% ○ターゲット使用効率 44%(最大) ○タクト 3分/サイクル  ※1枚目を除く ○到達圧力 仕込室 1....

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社昭和真空

  • ECRプラズマ成膜装置『AFTEX-6000シリーズ』 製品画像

    ECRプラズマ成膜装置『AFTEX-6000シリーズ』

    複数材料の多層膜が成膜可能!高品質・高結晶性の薄膜形成ができる成膜装置…

    『AFTEX-6000シリーズ』は、低圧で高密度のECRプラズマ流と、スパッタ粒子を 直接反応させることにより、低温・低ダメージで高品質の薄膜を形成します。 ECRプラズマ源2基を搭載し、全自動搬送・成膜ができ、多層膜形成に最適。 【特長】 ■広範囲な膜種による多層成膜 ■高屈折率制御が可能 ■高速で成膜が可能 ■低温・低ダメージで高品質、高結晶性 ■基板および成長面のクリ...

    メーカー・取り扱い企業: JSWアフティ株式会社

  • 【デモ実施中!】小型実験用イオンビームエッチング装置 製品画像

    【デモ実施中!】小型実験用イオンビームエッチング装置

    【デモ実施中!】使用ニーズに合わせてカスタマイズできるイオンソースを搭…

    「小型実験用イオンビームエッチング装置」は、DCイオンソースを使用し、基板回転冷却シングルステージを搭載した装置です。 Au、Pt、磁性材等を容易にエッチングし、テーパー加工も簡単にできます。基板表面温度80℃以下での処理が可能です。 微細加工に最適です。 【特徴】 ●有毒ガスを使用しないため、排ガス処理不要 ●エンドポイントディテクター搭載可能 ●イオンビームエッチング装置、イオ...

    メーカー・取り扱い企業: アールエムテック株式会社

  • 卓上型蒸着装置『Mebius』 製品画像

    卓上型蒸着装置『Mebius』

    卓上で簡単に使えるコンパクトな蒸着装置

    能。 チャンバは分割方式により多くの用途に応じたサブチャンバを 搭載可能です。 【概要】 ■蒸発源はタングステンボート2個搭載 ■排気系はターボ分子ポンプ、電磁フォアバルブ、油回転ポンプの組合せ ■操作不要のマルチ真空ゲージ採用により、大気圧から高真空まで連続した  圧力表示が可能 ■マグネット駆動式基板シャッタ装備 ■停電時は装置動作自動中断、非常停止スイッチも装備 ...

    メーカー・取り扱い企業: テクノウェーブ株式会社

  • 小型イオンビームエッチング装置 製品画像

    小型イオンビームエッチング装置

    イオンソースを使用し、加工対象物にイオンビーム照射をし、ドライエッチン…

    小型イオンビームエッチング装置は、DCイオンソースを使用し、基板回転冷却シングルステージを搭載したイオンビームエッチング(IBE)装置です。 微細加工、金属及び磁性体材料もエッチング可能です。 【特長】 ○Au, Pt, 磁性材等を容易にエッチング ○テーパー加工が容易 ○基板表面温度 80℃以下での処理が可能 ○有毒ガスを使用しないため、排ガス処理不要 ○エンドポイントディテク...

    メーカー・取り扱い企業: アールエムテック株式会社

  • 卓上型蒸着装置『Meius Light』 製品画像

    卓上型蒸着装置『Meius Light』

    学生向けの実験や教材作りに!卓上で簡単に使えるコンパクトな蒸着装置

    ■卓上で簡単に使えるコンパクトサイズ ■蒸発源はタングステンボート2個搭載 ■マグネット駆動式基板シャッタ装備 ■非常停止スイッチ装備 ■排気系はターボ分子ポンプ、電磁フォアバルブ、油回転ポンプの組合わせ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: テクノウェーブ株式会社

  • 高真空蒸着装置『KW-030D』 製品画像

    高真空蒸着装置『KW-030D』

    水晶振動式膜厚モニター搭載!コンパクト設計でクリーンな成膜が可能

    『KW-030D』は、小規模生産用及び各研究機関の実験用として、コンパクト 設計により初心者でも容易に作業ができる高真空蒸着装置です。 ターボ分子ポンプを搭載することにより、高真空での成膜が可能。 また、基板傾斜機構も搭載し、2軸の回転角度を調節することにより 斜め蒸着ができます。 【特長】 ■初心者でも容易に作業可能 ■ターボ分子ポンプ搭載 ■基板傾斜機構搭載 ■蒸...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社片桐エンジニアリング

  • RFスパッタ装置『SP-3400』 製品画像

    RFスパッタ装置『SP-3400』

    逆スパッタも可能!500Wの高周波電源を1台搭載し、金属・酸化物・絶縁…

    『SP-3400』は、3インチ用カソードを3源搭載したRFスパッタ装置です。 電源は500Wの高周波電源を1台搭載しており、金属・酸化物・絶縁物等の 成膜が可能となっています。 整合器は自動整合器を2台搭載することにより切替にて逆スパッタもでき、 成膜時の膜厚分布を良くする為に基板回転の機構も標準で搭載。 オペレートタッチ画面を採用しており、初心者でも簡単に排気系の自動操作を...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社サンバック 本社

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