• リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置  製品画像

    リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置 

    PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

    ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

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    メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社

  • 『次亜塩素酸水のJSA規格準拠』認定マークの付与規定 製品画像

    『次亜塩素酸水のJSA規格準拠』認定マークの付与規定

    PR【紹介資料進呈中】会員数の増加とJSAマーク普及など各種情報発信のため…

    当工業会は、一般市販の次亜塩素酸水に関するJSA規格準拠の 認定マークの付与に関する規定を2024年4月1日より改定いたします。 この改定による当工業会の目指す新たな方向性は、会員数の増加と JSAマーク普及など各種情報発信のための基盤の強化です。 これらの改定により、より多くの企業が次亜塩素酸水の"JSA規格準拠"の 認定マークを取得し、その信頼性を証明できることを期待しています。 【改定...

    メーカー・取り扱い企業: 一般社団法人 次亜塩素酸化学工業会 本部事務局

  • CAE利用技術研究会2016 (参加費無料) 製品画像

    CAE利用技術研究会2016 (参加費無料)

    基調講演ではスポーツを科学するホットな話題や火災シミュレーションのご研…

    <アジェンダ> A)基調講演 10:10 A-1 競技スポーツにおけるCAEの活用事例 11:00 A-2 火災シミュレーションを活用した研究事例について B)社会を支えるCAE基盤技術 13:00 B-1 矯正歯科領域における生体モデルを想定したFEA 13:50 B-2 DADiSP新機能および事例紹介/サポートからの情報 14:50 B-3 設備保全におけるDAD...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社CAEソリューションズ

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