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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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PR【紹介資料進呈中】会員数の増加とJSAマーク普及など各種情報発信のため…
当工業会は、一般市販の次亜塩素酸水に関するJSA規格準拠の 認定マークの付与に関する規定を2024年4月1日より改定いたします。 この改定による当工業会の目指す新たな方向性は、会員数の増加と JSAマーク普及など各種情報発信のための基盤の強化です。 これらの改定により、より多くの企業が次亜塩素酸水の"JSA規格準拠"の 認定マークを取得し、その信頼性を証明できることを期待しています。 【改定...
メーカー・取り扱い企業: 一般社団法人 次亜塩素酸化学工業会 本部事務局
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IoTと融合した高周波誘導加熱装置!データ蓄積と解析で、スマートに装置…
どこにも真似できないFD-ioT(エフ・ディオット)で、 お客様の競争力を高めた一品一様の装置を納めることを第一に、 必要なデータの見極め、収集方法とデータの解析の確立を推し進めています。 お客様のそれぞれに最適なデータ活用をともに構築し、 新たな価値を創造して参ります。 1.コイル・部品の予防保全 コイルや部品の交換時期を予測し、設備停止時間の要因削減に寄与します。 2....
メーカー・取り扱い企業: 富士電子工業株式会社
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特長的な基板にも対応可能な!3D局所加熱のIHはんだ付け装置
大きな熱量の出力も可能なため幅広い基板に"1台"で対応が可能!ICNI…
熱量を要するプリント基板をスポット加熱 ■パワー半導体のはんだ上がりを改善 ■バスバーのはんだ上がりを改善 ■ICNIRP、電波法などの各種規制に対応 ■バスパー、金属ベース基板など特長的な基盤にも対応可能 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社富山技販
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断熱材不要で高効率、クリーン加熱が可能なヒーター!気体加熱器「クリーン…
に応じて6種類のラインナップから選択可能です。 製造業現場においての使用用途としては 『空気や窒素ガス等不活性ガスの高温加熱』 『ウェットクリーニング後の水分除去』 『半導体、液晶パネル基盤の熱処理工程の不活性ガス加熱』 など幅広いところで使用可能なコンパクトで低価格な電気ヒーターです。 【特長】 ■特殊ヒーター及び特殊構造採用により加熱効率が良い ■クリーンに加熱対象ガス...
メーカー・取り扱い企業: 新熱工業株式会社 本社
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丈夫で信頼性が高く、多目的な頑丈な防爆ヒーター、加熱システム、ヒーティ…
サーモン・ヒーティング・システムズのRuffneckは過酷な環境でも使用可能な各種ヒーターやサーモスタットを取り揃えています。 1975年に設立されたRuffneckは、世界的な顧客基盤に高品質な製品を供給してきた長い歴史があります。 Ruffneckの製品は、多くの場合、他のサーモン・ヒーティング・システムズの製品ライン(Cata-Dyne, Caloritech, Nors...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社サーモンジャパン
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遠赤外線方式プリヒーター『PHN-3040/PHN-1520』
母材の表裏及び全面を均一に加熱可能!Pbフリーに適切な補助プリヒーター
【PHN-3040専用オプション「PHN-3040カバー」 特長】 ■カバーを装着する事で、基盤の温度を従来よりも早く、高く上昇させることができる ■消費電力が従来の半分以下になりますので、CO2削減に貢献できる ■外部取付方式のため、既存の本体に簡単に取り付けることができる ※詳し...
メーカー・取り扱い企業: 日本ボンコート株式会社
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ヒーターの選定や開発にお悩みの方必見! 安心・時間短縮を実現
【時間短縮や工数削減に】図面不要でおまかせ設計・お客様にあったサービス…
コージライト質耐火物 ■電気炉用碍子 アルミナ質耐火物 / ムライト質耐火物 / コージライト質 / 耐熱陶器 【大阪ものづくり優良企業賞】 大阪府内の中小企業を対象とした、今後、基盤技術で大阪産業の 活性化と地域社会への貢献が期待される企業への表彰制度です。 毎年80社ほどの応募があり、 貞徳舎は2017年に上位賞の「技術力部門賞」「知的財産部門賞」を 受賞し、匠企業と...
メーカー・取り扱い企業: 貞徳舎株式会社
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高エネルギーのパルス電子ビームで目的物質を素早く蒸発!全固体物質の成膜…
sのパルス幅、<1000A、15kV)により、 目的物質を素早く蒸発させることが可能で、全固体物質の成膜が可能。 基板サイズが直径10mmから2inch対応で放射加熱により、 850℃まで基盤を加熱することができます。 【特長】 ■パルス電子堆積法は PLD 同様種々の デバイスに対して複雑な物性の薄膜形成が可能 ■高エネルギーのパルス電子ビーム (80-100ns の...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイテック・システムズ
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