リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

『次亜塩素酸水のJSA規格準拠』認定マークの付与規定

PR【紹介資料進呈中】会員数の増加とJSAマーク普及など各種情報発信のため…

当工業会は、一般市販の次亜塩素酸水に関するJSA規格準拠の 認定マークの付与に関する規定を2024年4月1日より改定いたします。 この改定による当工業会の目指す新たな方向性は、会員数の増加と JSAマーク普及など各種情報発信のための基盤の強化です。 これらの改定により、より多くの企業が次亜塩素酸水の"JSA規格準拠"の 認定マークを取得し、その信頼性を証明できることを期待しています。 【改定...

メーカー・取り扱い企業： 一般社団法人 次亜塩素酸化学工業会 本部事務局

【サービス紹介】自社開発カメラの開発から製造まで！

高速移動被写体も夜間の移動被写体も鮮明に撮影が可能な自社開発カメラです…

0現在開発中） ・Windows設計対応 ■基板設計技術 ・高速伝送路解析　HYPERLINX（メンター・グラフィックス） ・EMI解析　DEMITAS NX（NEC） ・高密度配線 ■基盤製造技術 ・ビルドアップ基板製造（12層2段ビルド） ・インピーダンス制御基板製造 ・フレキシブル基盤製造 ■実装技術 ・高密度実装 ・狭小ピッチ部品実装 ■筐体製造技術 ・筐体設計...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社プラックス