リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

『次亜塩素酸水のJSA規格準拠』認定マークの付与規定

PR【紹介資料進呈中】会員数の増加とJSAマーク普及など各種情報発信のため…

当工業会は、一般市販の次亜塩素酸水に関するJSA規格準拠の 認定マークの付与に関する規定を2024年4月1日より改定いたします。 この改定による当工業会の目指す新たな方向性は、会員数の増加と JSAマーク普及など各種情報発信のための基盤の強化です。 これらの改定により、より多くの企業が次亜塩素酸水の"JSA規格準拠"の 認定マークを取得し、その信頼性を証明できることを期待しています。 【改定...

メーカー・取り扱い企業： 一般社団法人 次亜塩素酸化学工業会 本部事務局

株式会社宇都宮産業　事業紹介

無限ではない空気と水を大切にしすばらしい地球を永遠に

食品関連事業 →食品加工、乳製品および飲料の瓶詰め・パッキング、食肉加工、きのこ栽培など ○精密機械関連事業 →時計部品組み立て、電子部品組み立て、レンズ等研磨、磁器ディスク、 　LSI、基盤組み立てなど ○医療関連事業 →医薬品精製、血液製剤、無菌手術室、新生児・未熟児室、人工臓器 ○バイオ関連事業 →遺伝子組み換え、細菌実験室、植物栽培実験 ○印刷関連事業 →印刷一般、フ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社宇都宮産業

簡易クリーンブース

安価に構築したい時にお勧め！約1時間で設置可能な組立式クリーンブース

1,000～10,000のクリーン空間を約1時間で設置可能です。 また、軽量なので簡単に移動が可能。一定期間不要となった場合は 分解して収納できます。 半導体工場や液晶・太陽電池・電子基盤製造ラインをはじめ、 クリーン環境が必要となる化学薬品製造ライン、測定機器環境、 高精細特殊印刷環境等に好適です。 【特長】 ■FFUにHEPA（集塵効率99.97％以上）を搭載 ■ア...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社 SCREEN SPEサービス

【事例紹介】防爆ルームから排気設備まで一括施工します！

防爆ルームから排気設備まで一括施工します！

基盤薬品洗浄工程が当初計画より拡大する一方で換気扇程度の排気設備では追い付かないため、作業スペースを区切って適した作業環境及び換気設備を導入したいとご相談がありました。 問題点 1. 排気装置が万全ではないため、使用する薬液の臭いが他工程まで及ぶ可能性がある。作業環境も悪くなる。 2. 使用量が消防規定を超える為、防爆対応が必要。 3. 作業性を悪化させない為に大きく囲いたい。...

メーカー・取り扱い企業： 蒲田工業株式会社

クリーンブース

作業性・環境性能アップのために、多くのオプションをご用意！

ーンルーム環境の設営が可能。 連結使用で、広いクリーンルーム環境、レイアウト変更にも対応します。 本格的なクリーンルームに比べ圧倒的にローコストです。 半導体工場や液晶・太陽電池・電子基盤製造ラインをはじめ、 クリーン環境が必要となる化学薬品製造ライン、測定機器環境、 高精細特殊印刷環境等に好適です。 【特長】 ■FFUにHEPA（集塵効率99.97％以上）を搭載 ■強...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社 SCREEN SPEサービス