リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

『次亜塩素酸水のJSA規格準拠』認定マークの付与規定

PR【紹介資料進呈中】会員数の増加とJSAマーク普及など各種情報発信のため…

当工業会は、一般市販の次亜塩素酸水に関するJSA規格準拠の 認定マークの付与に関する規定を2024年4月1日より改定いたします。 この改定による当工業会の目指す新たな方向性は、会員数の増加と JSAマーク普及など各種情報発信のための基盤の強化です。 これらの改定により、より多くの企業が次亜塩素酸水の"JSA規格準拠"の 認定マークを取得し、その信頼性を証明できることを期待しています。 【改定...

メーカー・取り扱い企業： 一般社団法人 次亜塩素酸化学工業会 本部事務局

書籍『レジスト材料の基礎とプロセス最適化』

半導体、ディスプレイ、プリント基板等で欠かせないフォトレジスト材料に…

ウの習得を目指す ➢ パターン欠陥などの歩留まり改善やトラブル対策に必須な技術まで詳述 ➢ フォトレジスト材料の品質向上やプロセスの最適化といった課題の解決を支える ➢ フォトレジストに関する基盤技術やノウハウを集約した機能的な一冊...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社シーエムシー・リサーチ

半導体関連装置 「レジスト液加温塗布装置」

純水1/4RC　圧縮空気1/4RC！薬液をスプレー塗布する装置

「レジスト液加温塗布装置」は、半導体関連で使用されるシリコンウェハー・ガラス基盤等のワークを、任意のスピードで回転させながら、常温または加温した薬液をスプレー塗布する装置です。 お客様のご要望に、技術ノウハウと創造力で、機能性、操作性、安全性を追及した、価値のある製品をご提案...

メーカー・取り扱い企業： オーエヌ総合電機株式会社

コンベア式エッチング装置

お客様のご要望に沿ったカスタマイズ仕様。実験機から生産機まで対応可能で…

液晶ガラスやタッチパネルなどに用いられる枚葉基盤を処理する装置です。 【特長】 ■対応ワーク　100mm角～1000mm角まで対応可能。（他のサイズ、形状は別途相談） ■揺動機構（水平揺動・スプレーノズル首振り）を付けることにより、処理...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ダルトン

製作実績／半導体製造装置 関連部品

最短半日見積り／金属部品から樹脂製品まで、半導体製造装置に関わる部品を…

ホルダー（PEEK／PK-450） スーパーエンプラ系樹脂のPEEK材（PK-450）による精密細穴切削樹脂加工です。 その他、実績多数！ 製品搬送用パレット、 特殊形状加工品、製品搬送プレート、基盤測定装置用プローブホルダー ワーク搬送用トレー、洗浄用メッシュ網カゴ　等 実績は、カタログ「100の加工部品」をご覧下さい。 公式サイトには、更に詳しく情報を掲載しています。 アルミ・ステンレス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社 エージェンシーアシスト 京都本社　営業所(仙台・東京・埼玉・神奈川・浜松・愛知・岐阜・新潟・福井・奈良・兵庫・岡山・福岡)