• 『次亜塩素酸水のJSA規格準拠』認定マークの付与規定 製品画像

    『次亜塩素酸水のJSA規格準拠』認定マークの付与規定

    PR【紹介資料進呈中】会員数の増加とJSAマーク普及など各種情報発信のため…

    当工業会は、一般市販の次亜塩素酸水に関するJSA規格準拠の 認定マークの付与に関する規定を2024年4月1日より改定いたします。 この改定による当工業会の目指す新たな方向性は、会員数の増加と JSAマーク普及など各種情報発信のための基盤の強化です。 これらの改定により、より多くの企業が次亜塩素酸水の"JSA規格準拠"の 認定マークを取得し、その信頼性を証明できることを期待しています。 【改定...

    メーカー・取り扱い企業: 一般社団法人 次亜塩素酸化学工業会 本部事務局

  • リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置  製品画像

    リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置 

    PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

    ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

    • S500-on-customer-site.jpg
    • PQL PIC.jpg
    • 20170928_160044.jpg
    • PlasmaQuest-HiTUS-Difference-1.png

    メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社

  • 超音波高圧クリーナ 製品画像

    超音波高圧クリーナ

    基材上にある3μ以上の粉塵の除去、エッジ部の除塵等に最適

       基盤移動の際に発生する粉塵を除去する装置です。 【特徴】 1、従来比10倍の高圧超音波エアーを使用することで、より微細で   固着質のダストやガラスカレットに対して有効で、3ミクロン以上の ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社伸興

  • 蒸気捕捉装置『Dry Forceter』 製品画像

    蒸気捕捉装置『Dry Forceter』

    多湿感からの開放!加湿洗浄機の蒸気&ミスト捕捉に適した複合装置

    からなる複合装置です。 工場内の環境を不快にしている多湿感がもたらす要因に加湿洗浄機があります。 その洗浄機から発生する蒸気を捕捉して、リサイクルとダクトレス化を 推進します。 制御基盤等の結露によるトラブルが減少するほか、天井梁・機械装置の サビの発生も防止します。 【特長】 ■多湿感からの開放 ■排気ダクトレス化で視界良好 ■電子機器のトラブル減少 ■洗浄液・工...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイデック

  • 小型軽量移動式乾式連続運転集塵機/MC3LW-650WS 製品画像

    小型軽量移動式乾式連続運転集塵機/MC3LW-650WS

    小型軽量移動式乾式連続運転集塵機AC100V(分解洗浄可能) /品番 …

    シレスモーターブロワを搭載しました。 従来の誘導モーター駆動のブロワではありません。 ■高機能 電源は、単相100Vでも単相200Vでも使用可能です。 使用電圧を自動切換するデジタル基盤。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社シロ産業

1〜3 件 / 全 3 件
表示件数
45件
  • < 前へ
  • 1
  • 次へ >

※このキーワードに関連する製品情報が登録
された場合にメールでお知らせします。

  • icadtechnicalfair7th_1_pre2.jpg