リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

『次亜塩素酸水のJSA規格準拠』認定マークの付与規定

PR【紹介資料進呈中】会員数の増加とJSAマーク普及など各種情報発信のため…

当工業会は、一般市販の次亜塩素酸水に関するJSA規格準拠の 認定マークの付与に関する規定を2024年4月1日より改定いたします。 この改定による当工業会の目指す新たな方向性は、会員数の増加と JSAマーク普及など各種情報発信のための基盤の強化です。 これらの改定により、より多くの企業が次亜塩素酸水の"JSA規格準拠"の 認定マークを取得し、その信頼性を証明できることを期待しています。 【改定...

メーカー・取り扱い企業： 一般社団法人 次亜塩素酸化学工業会 本部事務局

UV洗浄表面改質装置　ASM1101N

110Wの高出力UV洗浄をお手元で手軽に。

法です。 低圧水銀ランプより発する短波長の光エネルギー184.9nm、253.7nmはポテンシャルが高く、高精細基板製造過程で生じた有機汚染物質の結合を分解する強いエネルギーを持っています。同時に基盤表面上で紫外線ランプとエアーから生じたオゾンにより酸化反応がおこり、有機汚染物質は揮発性の二酸化炭素や水分となり飛散することで、基盤表面がクリーンになります。 ○高照度、高均一紫外線照射　 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社あすみ技研

エキシマUV照射装置『OVL Series』＜フラットタイプ＞

高照度・高分布の搬送処理用ユニット！大学・研究・開発でご活用いただけま…

社で取り扱う、エキシマUV照射装置『OVL Series』をご紹介します。 高照度・高分布の搬送処理用ユニット。照度モニター機能を搭載しており、 フィードバック制御が可能です。 ガラス基盤洗浄をはじめ、コーティング前処理や張り合わせ前処理、 ポリマ表面改質にご活用いただけます。 【特長】 ■照度モニター機能 ■フィードバック制御 ■搬送処理に対応 ※詳しくはPDF...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社クォークテクノロジー