• リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置  製品画像

    リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置 

    PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

    ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

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    メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社

  • 『次亜塩素酸水のJSA規格準拠』認定マークの付与規定 製品画像

    『次亜塩素酸水のJSA規格準拠』認定マークの付与規定

    PR【紹介資料進呈中】会員数の増加とJSAマーク普及など各種情報発信のため…

    当工業会は、一般市販の次亜塩素酸水に関するJSA規格準拠の 認定マークの付与に関する規定を2024年4月1日より改定いたします。 この改定による当工業会の目指す新たな方向性は、会員数の増加と JSAマーク普及など各種情報発信のための基盤の強化です。 これらの改定により、より多くの企業が次亜塩素酸水の"JSA規格準拠"の 認定マークを取得し、その信頼性を証明できることを期待しています。 【改定...

    メーカー・取り扱い企業: 一般社団法人 次亜塩素酸化学工業会 本部事務局

  • 有機EL用簡易蒸着装置 製品画像

    有機EL用簡易蒸着装置

    有機薄膜簡易蒸着装置

    ●特徴 ・小スペース、コンパクト設計 ・蒸着セル最大5本取付可能 ・基盤サイズ1〜3インチと幅広く選択可能 ・コンタミを防ぐ2重シールド構造 ・基盤加熱ヒターコントロール機構標準装備 ・メンテナンス・クリーニングの簡単設計 ...

    メーカー・取り扱い企業: 北野精機株式会社

  • 遺伝子治療開発研究ハンドブック 第2版 製品画像

    遺伝子治療開発研究ハンドブック 第2版

    臨床開発と医療経済学的視点、規制や副作用の事例も紹介。遺伝子治療を実際…

    2,000円+税 ■編集:日本遺伝子細胞治療学会 ■監修:藤堂具紀 ■発行:エヌ・ティー・エス 第1編 遺伝子治療の概説  1章 遺伝子治療とは  2章 遺伝子治療の歴史 第2編 基盤技術  1章 遺伝子導入・改変技術  2章 遺伝子治療モデル動物  3章 臨床・非臨床用ベクター・細胞の製造 第3編 疾患別  1章 Ex vivo遺伝子治療  2章 In vivo遺伝...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社エヌ・ティー・エス

  • AU(111)/雲母 薄膜フィルム  製品画像

    AU(111)/雲母 薄膜フィルム 

    超低汚染度の金の薄膜 広いテラス  表面粗さナノ スケール 種々の…

    蒸着の直前に、基盤としてクラスV-4以上の良質な白雲母を無作為に劈開し、厚さ調整をせずに、高真空のマグネトロン スパッタリングで金の薄膜を蒸着しています。薄膜の形状あるいは数は各種取りそろえています。製造後直ちに専用...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社甍テクノロジー

  • 有機デバイス作製・評価装置 製品画像

    有機デバイス作製・評価装置

    有機デバイス作製・評価装置

    ●有機デバイス作製・評価装置 ・小スペース、コンパクト設計 ・蒸着セル最大5本取付可能 ・基盤サイズ1〜3インチと幅広く選択可能 ・コンタミを防ぐ2重シールド構造 ・基盤加熱ヒターコントロール機構標準装備 ・メンテナンス・クリーニングの簡単設計 ...

    メーカー・取り扱い企業: 北野精機株式会社

  • 有機OED作製・評価装置 製品画像

    有機OED作製・評価装置

    有機OED作製・評価装置

    特徴 ・小スペース、コンパクト設計 ・蒸着セル最大5本取付可能 ・基盤サイズ1〜3インチと幅広く選択可能 ・コンタミを防ぐ2重シールド構造 ・基盤加熱ヒターコントロール機構標準装備 メンテナンス・クリーニングの簡単設計 ...

    メーカー・取り扱い企業: 北野精機株式会社

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