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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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PR【紹介資料進呈中】会員数の増加とJSAマーク普及など各種情報発信のため…
当工業会は、一般市販の次亜塩素酸水に関するJSA規格準拠の 認定マークの付与に関する規定を2024年4月1日より改定いたします。 この改定による当工業会の目指す新たな方向性は、会員数の増加と JSAマーク普及など各種情報発信のための基盤の強化です。 これらの改定により、より多くの企業が次亜塩素酸水の"JSA規格準拠"の 認定マークを取得し、その信頼性を証明できることを期待しています。 【改定...
メーカー・取り扱い企業: 一般社団法人 次亜塩素酸化学工業会 本部事務局
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外径1600、2000、2500mmまでの基盤の平面度をチェック及びテ…
・油圧ピストンによるローリング・ヘッドの自動位置決め装置 ・迅速な基盤のロッキングシステム ・基盤の平面度及びテンショニング値に関連したデータの取得、蓄積、及び印刷が可能なコンピュータシステム オプション: - 送り装置及びプッシャーの自動位置決め装置...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ミューチュアル
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外径2000~3500mmまでの基盤の平面度をチェック及びテンショニン…
・読み取り位置から90度の位置でピストンを使用し、加圧、あるいは加圧せずに側面の振れを計測する事でチェック ・迅速な基盤のロッキングシステム オプション: 検出されたテンショニング値及び平面度に関連したデータの取得、蓄積、及び印刷が可能なコンピュータシステム ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ミューチュアル
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外径625、1600、2200mmまでの基盤ローリング式の小型テンショ…
・ローリングの圧力は油圧ピストンにて供給され,ペダルにより調整、制御 ・ローラー位置は調整可能 オプション: ・基盤サポート ・自動スロット回避装置 ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ミューチュアル
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外径625、1600mmまでの基盤の連続ローリング式テンショニング機
・ローリングの圧力は油圧ピストンにて供給 ・ダブルアーム空気圧式積み下ろし装置 ・基盤の積み下ろし装置は、カートで移動可能 ・制御された軸により基盤のローリング範囲を位置決め ・自動スロット回避装置...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ミューチュアル
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