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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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PR【紹介資料進呈中】会員数の増加とJSAマーク普及など各種情報発信のため…
当工業会は、一般市販の次亜塩素酸水に関するJSA規格準拠の 認定マークの付与に関する規定を2024年4月1日より改定いたします。 この改定による当工業会の目指す新たな方向性は、会員数の増加と JSAマーク普及など各種情報発信のための基盤の強化です。 これらの改定により、より多くの企業が次亜塩素酸水の"JSA規格準拠"の 認定マークを取得し、その信頼性を証明できることを期待しています。 【改定...
メーカー・取り扱い企業: 一般社団法人 次亜塩素酸化学工業会 本部事務局
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センサー上のカバーガラスの除去により通常のモノクロカメラを紫外線カメラ…
CCDまたはCMOSカメラのセンサーに搭載されているカバーガラスを除去するサービスについてご案内しております。カバーガラスはメーカーや型番によって異なる構成で基盤上にハンダ付けされており、センサーの構成に合わせた適切な除去法を用いることで取り外しが可能です。 【カバーガラスを取り外すことによるメリット】 ■ 紫外波長域まで感度が拡張(カバーガラスによ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ティー・イー・エム
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