• リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置  製品画像

    リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置 

    PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

    ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

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    メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社

  • 『次亜塩素酸水のJSA規格準拠』認定マークの付与規定 製品画像

    『次亜塩素酸水のJSA規格準拠』認定マークの付与規定

    PR【紹介資料進呈中】会員数の増加とJSAマーク普及など各種情報発信のため…

    当工業会は、一般市販の次亜塩素酸水に関するJSA規格準拠の 認定マークの付与に関する規定を2024年4月1日より改定いたします。 この改定による当工業会の目指す新たな方向性は、会員数の増加と JSAマーク普及など各種情報発信のための基盤の強化です。 これらの改定により、より多くの企業が次亜塩素酸水の"JSA規格準拠"の 認定マークを取得し、その信頼性を証明できることを期待しています。 【改定...

    メーカー・取り扱い企業: 一般社団法人 次亜塩素酸化学工業会 本部事務局

  • GCシステム『Intuvo 9000』 製品画像

    GCシステム『Intuvo 9000』

    独自の加熱技術とリークフリーな設計を採用! 経験を問わずエキスパート…

    『Intuvo9000』は、CG 分析の生産性と再現性を向上できる GC システムです。 このモデルは、これまでに築いたアジレントの揺るぎない分析技術と卓越した性能を基盤としています。 独自の加熱技術とリークレスな設計で、優れた操作性と性能を実現させました。 【特長】 ■GC本体の幅は、約27cmとコンパクトサイズ。限られたラボのスペースを最大限に活用...

    メーカー・取り扱い企業: アジレント・テクノロジー株式会社

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