リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

『次亜塩素酸水のJSA規格準拠』認定マークの付与規定

PR【紹介資料進呈中】会員数の増加とJSAマーク普及など各種情報発信のため…

当工業会は、一般市販の次亜塩素酸水に関するJSA規格準拠の 認定マークの付与に関する規定を2024年4月1日より改定いたします。 この改定による当工業会の目指す新たな方向性は、会員数の増加と JSAマーク普及など各種情報発信のための基盤の強化です。 これらの改定により、より多くの企業が次亜塩素酸水の"JSA規格準拠"の 認定マークを取得し、その信頼性を証明できることを期待しています。 【改定...

メーカー・取り扱い企業： 一般社団法人 次亜塩素酸化学工業会 本部事務局

食品工場排水施設からの発生する硫化水素ガス対策”コロシューター”

製糖工場、食肉工場、飲料工場、缶詰工場等の排水施設から発生する硫化水素…

と比べて吸着速度が５～１０倍と除去効率が非常に高く、侵入してきた硫化水素ガスを即時に除去する事が可能です。除去速度が速いので、機器に与えるリスクを最小限に抑える事が可能です。 ガス対策で機器の基盤にコーティングを行うケースもありますが、コーティングはコネクタ部分には塗布する事はできません。硫化水素ガスを除去しない限りは、硫化水素ガスによる腐食故障を防ぐ事はできません。また、コーティング加工は...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ジェイエムエス

食品の冷凍・解凍技術と商品開発

食品の鮮度とおいしさを保つための冷凍・解凍技術を詳解！

「食品の冷凍・解凍技術と商品開発」 ■体裁：B5判 380頁 ■定価：44,000円＋税 ■監修：堀越　智、渡辺　学 ■発行：エヌ・ティー・エス 第1編　冷凍解凍の基盤技術　 　1章　食品冷凍の基礎 　2章　食品解凍の基礎 　3章　食材の冷凍技術 　4章　食材の解凍技術 　5章　冷凍機の開発 　6章　解凍機の開発 第2編　冷凍食品開発 　1章　...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エヌ・ティー・エス